[發(fā)明專利]檢查裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201380032189.6
• 申請(qǐng)日: 2013-05-27
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104412117B
• 公開(kāi)（公告）日: 2016-11-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 吉岡耕治
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 夏普株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G01R31/28
• 分類號(hào): G01R31/28
• 代理公司: 北京尚誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳

1.一種檢查裝置，其使在晶片狀態(tài)的被檢查體的表面上形成的電極焊盤(pán)與在具有開(kāi)口部的懸臂型的探測(cè)卡安裝的探針的前端接觸，進(jìn)行所述被檢查體的電檢查，所述檢查裝置的特征在于：

包括氣體供給機(jī)構(gòu)，所述氣體供給機(jī)構(gòu)將防止所述探針的前端氧化的防氧化氣體，從所述探測(cè)卡的上方經(jīng)所述開(kāi)口部供給到所述探針的前端，

所述氣體供給機(jī)構(gòu)在與所述開(kāi)口部相對(duì)的面內(nèi)均勻地分散具有噴出所述防氧化氣體的多個(gè)噴出口。

2.如權(quán)利要求1所述的檢查裝置，其特征在于：

所述檢查裝置包括除去所述防氧化氣體中所含的灰塵的過(guò)濾器。

3.如權(quán)利要求2所述的檢查裝置，其特征在于：

在所述被檢查體為圖像傳感器的情況下，所述過(guò)濾器具有除去比所述圖像傳感器的最小像素尺寸乘以0.1～0.7的范圍內(nèi)的規(guī)定的比率而得到的尺寸大的灰塵的能力。

4.如權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的檢查裝置，其特征在于：

所述檢查裝置具有遮蔽體，所述遮蔽體將除所述探測(cè)卡的所述開(kāi)口部和所述氣體供給機(jī)構(gòu)的所述多個(gè)噴出口以外的、所述探測(cè)卡與所述氣體供給機(jī)構(gòu)之間的空間密封。

5.如權(quán)利要求4所述的檢查裝置，其特征在于：

所述遮蔽體的上端與分散配置有所述多個(gè)噴出口的面的外周部緊密接觸，

所述遮蔽體的下端與所述探測(cè)卡的所述開(kāi)口部的外周部緊密接觸。

6.如權(quán)利要求1～5中任一項(xiàng)所述的檢查裝置，其特征在于：

所述探測(cè)卡為同時(shí)測(cè)定多個(gè)用的探測(cè)卡。

7.如權(quán)利要求1～6中任一項(xiàng)所述的檢查裝置，其特征在于：

所述多個(gè)噴出口在每基準(zhǔn)面積中存在1個(gè)以上，該基準(zhǔn)面積與所述被檢查體的芯片面積為同等大小。

8.如權(quán)利要求1～7中任一項(xiàng)所述的檢查裝置，其特征在于，還包括：

進(jìn)行所述被檢查體的電檢查的檢查部；

供氣線路，其接受所述防氧化氣體，并將該防氧化氣體向所述氣體供給機(jī)構(gòu)供給；和

氣體供給源，其與所述檢查部相鄰配置，并且將填充的或生成的所述防氧化氣體供給到所述供氣線路。

9.如權(quán)利要求8所述的檢查裝置，其特征在于：

所述氣體供給源以從周圍取入的空氣為原料，生成作為所述防氧化氣體的氮?dú)狻?/p>

10.如權(quán)利要求9所述的檢查裝置，其特征在于：

所述氣體供給源包括：

氮?dú)馍刹浚湟运隹諝鉃樵仙伤龅獨(dú)猓缓?/p>

供氣用過(guò)濾裝置，其從被供給到所述氮?dú)馍刹康乃隹諝夂退龅獨(dú)馍刹可傻乃龅獨(dú)庵械闹辽僖环街谐セ覊m。

11.如權(quán)利要求10所述的檢查裝置，其特征在于：

所述供氣用過(guò)濾裝置包括：

將從周圍取入的所述空氣中所含的灰塵除去的第一過(guò)濾裝置；和

將所述氮?dú)馍刹可傻乃龅獨(dú)庵兴幕覊m除去的第二過(guò)濾裝置，

由所述第二過(guò)濾裝置除去的灰塵的大小的下限值小于由所述第一過(guò)濾裝置除去的灰塵的大小的下限值。

12.如權(quán)利要求8～11中任一項(xiàng)所述的檢查裝置，其特征在于，還包括：

箱體，在其內(nèi)部的空間進(jìn)行所述檢查；

將所述箱體的內(nèi)部的所述防氧化氣體排出到外部的排氣口；和

將從所述排氣口排出的所述防氧化氣體中所含的灰塵除去的排氣用過(guò)濾裝置。

13.如權(quán)利要求8～12中任一項(xiàng)所述的檢查裝置，其特征在于，還包括：

箱體，在其內(nèi)部的空間進(jìn)行所述檢查；

將所述箱體的內(nèi)部的所述防氧化氣體排出到外部的排氣口；和

歸還管道，其接受從所述排氣口排出的所述防氧化氣體并將該防氧化氣體供給到所述氣體供給源。