[發明專利]濺射靶在審
| 申請號： | 201380031894.4 | 申請日： | 2013-09-13 |
| 公開（公告）號： | CN104379801A | 公開（公告）日： | 2015-02-25 |
| 發明（設計）人： | 池田祐希 | 申請（專利權）人： | 吉坤日礦日石金屬株式會社 |
| 主分類號： | C23C14/34 | 分類號： | C23C14/34;G11B5/64;G11B5/851 |
| 代理公司： | 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219 | 代理人： | 王海川;穆德駿 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 濺射 | ||
【權利要求書】：
1.一種濺射靶，其包含含有Co的金屬基質相和6～25摩爾％的形成粒子并分散存在的氧化物的相(以下稱為“氧化物相”)，其特征在于，XRD的單峰中最高峰的積分寬度為0.7以下。
2.如權利要求1所述的濺射靶，其特征在于，金屬基質相中，Cr為5摩爾％以上且40摩爾％以下，其余為Co和不可避免的雜質。
3.如權利要求1所述的濺射靶，其特征在于，金屬基質相中，Cr為5摩爾％以上且40摩爾％以下，Pt為5摩爾％以上且30摩爾％以下，其余為Co和不可避免的雜質。
4.如權利要求1～3中任一項所述的濺射靶，其特征在于，氧化物相包含選自SiO2、TiO2、Ti2O3、Cr2O3、Ta2O5、Ti5O9、B2O3、CoO、Co3O4的一種以上氧化物，并且所述濺射靶含有5～25摩爾％這些氧化物。
5.如權利要求1～4中任一項所述的濺射靶，其特征在于，金屬基質相含有0.5摩爾％～10摩爾％的選自B、Ti、V、Mn、Zr、Nb、Ru、Mo、Ta、W的一種以上元素。
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