[發(fā)明專(zhuān)利]基于光譜敏感度及工藝變化的測(cè)量配方優(yōu)化

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201380031757.0
• 申請(qǐng)日: 2013-05-07
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104395996A
• 公開(kāi)（公告）日: 2015-03-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 史帝藍(lán)·伊凡渥夫·潘戴夫
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 科磊股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): H01L21/66
• 分類(lèi)號(hào): H01L21/66;G01N21/956
• 代理公司: 北京律盟知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11287
• 代理人: 張世俊

1.一種方法，其包括：

接收與使用測(cè)量技術(shù)及機(jī)器參數(shù)值集合執(zhí)行的目標(biāo)結(jié)構(gòu)的測(cè)量相關(guān)聯(lián)的第一數(shù)量的測(cè)量數(shù)據(jù)；

確定包含第一參數(shù)集合的所述目標(biāo)結(jié)構(gòu)的第一測(cè)量模型；

接收與所述目標(biāo)結(jié)構(gòu)相關(guān)聯(lián)的一定數(shù)量的工藝變化數(shù)據(jù)；

確定所述第一測(cè)量模型對(duì)所述第一參數(shù)集合的變化的光譜敏感度；

將所述第一測(cè)量模型變換為包含第二參數(shù)集合的所述結(jié)構(gòu)的第二測(cè)量模型，其中所述第一模型的所述變換是基于所述第一測(cè)量模型的所述光譜敏感度及所述一定數(shù)量的工藝變化數(shù)據(jù)，且其中所述第二參數(shù)集合不同于所述第一參數(shù)集合；

確定與使用縮減的測(cè)量技術(shù)及機(jī)器參數(shù)值集合執(zhí)行的所述目標(biāo)結(jié)構(gòu)的測(cè)量相關(guān)聯(lián)的第二數(shù)量的測(cè)量數(shù)據(jù)；

確定所述第二數(shù)量的測(cè)量數(shù)據(jù)對(duì)所述第二測(cè)量模型的回歸的結(jié)果與所述目標(biāo)結(jié)構(gòu)的參考測(cè)量的結(jié)果之間的差；及

將所述縮減的測(cè)量技術(shù)及機(jī)器參數(shù)值集合存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器中。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其進(jìn)一步包括：

確定所述第二數(shù)量的測(cè)量數(shù)據(jù)對(duì)所述第二測(cè)量模型的所述回歸的所述結(jié)果與所述目標(biāo)結(jié)構(gòu)的所述參考測(cè)量之間的所述差是否超過(guò)閾值；及

如果所述差未超過(guò)所述閾值，那么將所述縮減的測(cè)量技術(shù)及機(jī)器參數(shù)值集合存儲(chǔ)在所述存儲(chǔ)器中。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其進(jìn)一步包括：

如果所述差的確超過(guò)所述閾值，那么確定與使用第二縮減的測(cè)量技術(shù)及機(jī)器參數(shù)值集合執(zhí)行的所述目標(biāo)結(jié)構(gòu)的測(cè)量相關(guān)聯(lián)的第三數(shù)量的測(cè)量數(shù)據(jù)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述第一參數(shù)集合包含至少一個(gè)幾何參數(shù)及至少一個(gè)色散參數(shù)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中將所述結(jié)構(gòu)的所述第一模型所述變換到所述結(jié)構(gòu)的所述第二模型涉及將所述第一參數(shù)集合的自由度的數(shù)目減小到所述第二參數(shù)集合的自由度的較小數(shù)目。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述一定數(shù)量的工藝變化數(shù)據(jù)包含以下任一者：約束方程式，其定義兩個(gè)或兩個(gè)以上參數(shù)之間的關(guān)系；相關(guān)矩陣，其定義兩個(gè)或兩個(gè)以上參數(shù)之間的所述關(guān)系；及所期望配置文件集合，其由用戶(hù)選擇。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述第一模型及所述第二模型描述多個(gè)目標(biāo)。

8.一種用以基于光譜敏感度及工藝變化數(shù)據(jù)產(chǎn)生優(yōu)化測(cè)量配方的系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括：

光學(xué)度量系統(tǒng)，其包含照明源及檢測(cè)器，所述光學(xué)度量系統(tǒng)經(jīng)配置以使用測(cè)量技術(shù)及機(jī)器參數(shù)值集合對(duì)目標(biāo)結(jié)構(gòu)執(zhí)行測(cè)量；及

計(jì)算系統(tǒng)，其經(jīng)配置以：

接收與使用所述測(cè)量技術(shù)及機(jī)器參數(shù)值集合執(zhí)行的目標(biāo)結(jié)構(gòu)的所述測(cè)量相關(guān)聯(lián)的第一數(shù)量的測(cè)量數(shù)據(jù)；

確定包含第一參數(shù)集合的所述目標(biāo)結(jié)構(gòu)的第一測(cè)量模型；

接收與所述目標(biāo)結(jié)構(gòu)相關(guān)聯(lián)的一定數(shù)量的工藝變化數(shù)據(jù)；

確定所述第一測(cè)量模型對(duì)所述第一參數(shù)集合的變化的光譜敏感度；

將所述第一測(cè)量模型變換為包含第二參數(shù)集合的所述結(jié)構(gòu)的第二測(cè)量模型，其中所述第一模型的所述變換是基于所述第一測(cè)量模型的所述光譜敏感度及所述一定數(shù)量的工藝變化數(shù)據(jù)，且其中所述第二參數(shù)集合不同于所述第一參數(shù)集合；

確定與使用縮減的測(cè)量技術(shù)及機(jī)器參數(shù)值集合執(zhí)行的所述目標(biāo)結(jié)構(gòu)的測(cè)量相關(guān)聯(lián)的第二數(shù)量的測(cè)量數(shù)據(jù)；

確定所述第二數(shù)量的測(cè)量數(shù)據(jù)對(duì)所述第二測(cè)量模型的回歸的結(jié)果與所述目標(biāo)結(jié)構(gòu)的參考測(cè)量的結(jié)果之間的差；及

將所述縮減的測(cè)量技術(shù)及機(jī)器參數(shù)值集合存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器中。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的系統(tǒng)，其中所述計(jì)算系統(tǒng)進(jìn)一步經(jīng)配置以：

確定所述第二數(shù)量的測(cè)量數(shù)據(jù)對(duì)所述第二測(cè)量模型的所述回歸的所述結(jié)果與所述目標(biāo)結(jié)構(gòu)的所述參考測(cè)量之間的所述差是否超過(guò)閾值；及

如果所述差未超過(guò)所述閾值，那么將所述縮減的測(cè)量技術(shù)及機(jī)器參數(shù)值集合存儲(chǔ)在所述存儲(chǔ)器中。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，其中所述計(jì)算系統(tǒng)進(jìn)一步經(jīng)配置以：

如果所述差的確超過(guò)所述閾值，那么確定與使用第二縮減的測(cè)量技術(shù)及機(jī)器參數(shù)值集合執(zhí)行的所述目標(biāo)結(jié)構(gòu)的測(cè)量相關(guān)聯(lián)的第三數(shù)量的測(cè)量數(shù)據(jù)。

11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的系統(tǒng)，其中所述第一參數(shù)集合包含至少一個(gè)幾何參數(shù)及至少一個(gè)色散參數(shù)。