[發明專利]具有含硅氧烷的聚合物加工助劑的可熔融加工的組合物

有效

• 申請號: 201380030815.8
• 申請日: 2013-05-22
• 公開（公告）號: CN104583328B
• 公開（公告）日: 2017-10-13
• 發明（設計）人: 克勞德·拉瓦萊;瑪麗亞·P·狄龍
• 申請（專利權）人: 3M創新有限公司
• 主分類號: C08L83/10
• 分類號: C08L83/10;C08K5/3432;C08G77/455;C08L23/04
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司11219
• 代理人: 張爽,郭國清

1.一種組合物，其包含：

基于所述組合物的總重量計，50至99.5重量百分比的可熔融加工的熱塑性烴聚合物；

含硅氧烷的聚合物加工助劑；和

受阻胺光穩定劑；

其中所述含硅氧烷的聚合物加工助劑與受阻胺光穩定劑的比率為0.1:1至2.5:1，

所述組合物中不含阻燃劑，

其中所述含硅氧烷的聚合物加工助劑選自硅氧烷-聚氨酯和硅氧烷-聚酰胺，其中所述硅氧烷-聚酰胺選自：

包含至少兩個式I的重復單元的共聚物：

其中每個R¹獨立地選自：烷基基團、鹵代烷基基團、芳烷基基團、烯基基團、芳基基團、烷氧基基團和鹵素；

每個Y獨立地選自：亞烷基基團、亞芳烷基基團和它們的組合；

G為二價基團；

每個B獨立地選自：共價鍵、具有4至20個碳原子的亞烷基基團、亞芳烷基基團、亞芳基基團和它們的組合；n為0至1500的整數；并且p為1至10的整數；并且

每個R³獨立地選自：烷基基團、鹵代烷基基團、芳烷基基團、烯基基團、芳基基團、烷氧基基團和亞烷基基團，所述亞烷基基團具有2個或更多個形成包括R³基團、氮原子和G的雜環的碳原子；

其中所述受阻胺光穩定劑選自具有以下通式的化合物：

其中R₂選自H和C1至C6烷基基團，z為1至5的整數，并且R₁為化合價為z的有機部分。

2.根據權利要求1所述的組合物，其中所述烴聚合物選自：聚乙烯均聚物、聚丙烯均聚物、改性聚乙烯聚合物、改性聚丙烯聚合物、聚乙烯共聚物、聚丙烯共聚物和它們的組合。

3.根據權利要求1所述的組合物，其中所述烴聚合物選自高密度聚合物和低密度聚合物。

4.根據權利要求1所述的組合物，其中所述烴聚合物為線性低密度聚乙烯。

5.根據權利要求1所述的組合物，其中基于所述組合物的總重量計，所述含硅氧烷的加工助劑以0.01wt％至5.0wt％的重量百分比存在。

6.根據權利要求5所述的組合物，其中基于所述組合物的總重量計，所述含硅氧烷的加工助劑以0.01wt％至0.5wt％的重量百分比存在。

7.根據權利要求1所述的組合物，其中R₁選自：C1至C20烷基基團；C1至C20亞烷基基團；C6至C20芳基基團；C6至C20亞芳基基團；C7至C30烷芳基基團；C7至C30亞烷芳基基團；C7至C30烷芳基基團；或C7至C30亞烷芳基基團；其中所述C1至C20亞烷基基團、所述C6至C20亞芳基基團、所述C7至C30亞烷芳基基團、所述C7至C30亞烷芳基基團適用于其中z大于1的情況；

其中R₁還可具有下列特征中的一者或多者：(a)以醚鍵的形式插入一個或多個氧原子；(b)以酯、酰胺或酮的形式包含一個或多個羰基基團；(c)能夠包含一個或多個鹵素原子。

8.根據權利要求1所述的組合物，其中基于所述組合物的總重量計，所述受阻胺光穩定劑以0.01wt％至3wt％的重量百分比存在。

9.根據權利要求8所述的組合物，其中基于所述組合物的總重量計，所述受阻胺光穩定劑以0.01wt％至1wt％的重量百分比存在。

10.根據權利要求1所述的組合物，其中基于所述組合物的總重量計，所述烴聚合物以99.9wt％至95wt％的重量百分比存在。

11.根據權利要求1所述的組合物，其還包括增效劑。

12.根據權利要求11所述的組合物，其中所述增效劑選自i)硅氧烷-聚醚共聚物；ii)脂族聚酯；iii)芳族聚酯；iv)聚醚多元醇；v)氧化胺；vi)羧酸；vii)脂肪酸酯；和vii)聚(氧化烯)聚合物。

13.根據權利要求11所述的組合物，其中所述增效劑為聚乙二醇。

14.根據權利要求13所述的組合物，其中基于所述增效劑和所述加工助劑的總重量計，所述增效劑以10wt％至75wt％的量存在。