[發明專利]用于制造硬盤基片的方法在審
| 申請號： | 201380030531.9 | 申請日： | 2013-04-02 |
| 公開（公告）號： | CN104364847A | 公開（公告）日： | 2015-02-18 |
| 發明（設計）人： | 石田元;迎展彰;吉田隆廣 | 申請（專利權）人： | 東洋鋼鈑株式會社 |
| 主分類號： | G11B5/84 | 分類號： | G11B5/84;G11B5/73 |
| 代理公司： | 北京安信方達知識產權代理有限公司 11262 | 代理人： | 高瑜;鄭霞 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 制造 硬盤 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種用于制造硬盤基片的方法，所述硬盤基片具有NiP化學鍍鍍膜，所述方法包括：
第一覆鍍步驟，將基片浸泡在包含具有平整作用的添加劑的第一NiP化學鍍鍍液中，從而在所述基片的表面上形成所述NiP化學鍍鍍膜的下層，所述下層具有比所述表面更小的平均表面粗糙度；以及
第二覆鍍步驟，將具有通過所述第一覆鍍步驟在其上形成的所述NiP化學鍍鍍膜的所述下層的所述基片浸泡在第二NiP化學鍍鍍液中，從而形成所述NiP化學鍍鍍膜的上層，所述上層具有對酸溶液的抗腐蝕性，
其中在從所述第一覆鍍步驟過渡到所述第二覆鍍步驟的時期中，抑制所述下層暴露于大氣。
2.根據權利要求1所述的制造硬盤基片的方法，還包括在所述第一覆鍍步驟之后用清洗液清洗所述基片的清洗步驟，其中在所述清洗步驟之后，所述清洗液在其中粘附至所述下層的表面的潮濕條件被維持以抑制所述下層暴露于大氣。
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