[發明專利]含堿土金屬的膜的沉積法

有效

• 申請號: 201380030127.1
• 申請日: 2013-06-28
• 公開（公告）號: CN104350175B
• 公開（公告）日: 2017-05-31
• 發明（設計）人: D·湯普森
• 申請（專利權）人: 應用材料公司
• 主分類號: C23C16/44
• 分類號: C23C16/44;C23C16/06
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司31100
• 代理人: 黃嵩泉

1.一種在基板上沉積金屬氧化物膜的方法，包括：

(a)使基板表面暴露于金屬前體及鹵化物前體，藉以在所述基板表面上提供金屬鹵化物膜，其中所述金屬前體包括第二族金屬，且其中所述鹵化物前體選自F₂、C1₂、Br₂或I₂；隨后

(b)使含有所述金屬鹵化物膜的基板表面暴露于氧化劑；及

(c)隨后使所述基板表面受熱或暴露于等離子體以在所述基板上提供金屬氧化物膜。

2.如權利要求1所述的方法，進一步包括在每個暴露步驟之后流入凈化氣體。

3.如權利要求1所述的方法，其特征在于，步驟(a)、步驟(b)或步驟(c)重復一次或更多次。

4.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述金屬前體是選自于鍶前體、鈣前體及鎂前體之中。

5.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述金屬前體包括：Sr(thd)₂(雙(四甲基庚二酮酸)鍶)(bis(tetramethylheptanedionate)strontium)、Sr(methd)₂(雙(甲氧基乙氧基四甲基庚二酮酸)鍶)(bis(methoxyethoxytetramethylheptanedionate)strontium)及Sr(dpm)₂(雙(二新戊酰基甲烷)鍶)(bis(dipivaloylmethanate)strontium)、Ca(C₁₁H₁₉O₂)₂(雙(四甲基庚二酮酸)鈣)、C₁₀H₂F₁₂O₄Ca(六氟戊二酮酸鈣)、C₆H₁₄O₄Ca(甲氧基乙醇鈣)、Mg(C₅H₅)₂(雙(環戊二烯基)鎂(II))、C₂₀H₃₀Mg(雙(五甲基環戊二烯)鎂)或上述化合物的組合物。

6.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述氧化劑包括以下物質的其中一者或更多者：H₂O、H₂O₂、O₂、O₃、N₂O、NOx、硝酸鹽類(nitrates)、醇類(alcohols)、羧酸類(carboxylic acids)、CO、CO₂及HCOH。

7.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述金屬氧化物膜具有達約的厚度。

8.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述基板受熱。

9.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述基板暴露于等離子體。

10.一種在基板上沉積氧化鍶膜的方法，所述方法包括：

(a)使基板表面暴露在鍶前體及鹵化物前體的交替脈沖下，藉以在所述基板表面上提供鹵化鍶膜，且其中所述鹵化物前體選自F₂、Cl₂、Br₂或I₂；隨后

(b)使包含鹵化鍶膜的所述基板表面暴露于氧化劑；及

(c)使所述基板表面受熱或暴露于等離子體下，藉以在所述基板表面上提供氧化鍶膜。

11.如權利要求10所述的方法，其特征在于，所述鍶前體包括Sr(thd)₂(雙(四甲基庚二酮)鍶)、Sr(methd)₂(雙(甲氧基乙氧基四甲基庚二酮)鍶)或Sr(dpm)₂(雙(二叔戊酰基甲烷)鍶)。

12.如權利要求10所述的方法，其中所述氧化劑包括以下物質的其中一者或更多者：H₂O、H₂O₂、O₂、O₃、N₂O、NOx、硝酸鹽類、醇類、羧酸類、CO、CO₂及HCOH。