[發(fā)明專利]液浸構(gòu)件及曝光裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380029835.3
• 申請日: 2013-03-15
• 公開（公告）號: CN104350425B
• 公開（公告）日: 2017-11-28
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 柴崎祐一
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11127
• 代理人: 湯在彥

背景技術(shù)

本發(fā)明是關(guān)于液浸構(gòu)件、曝光裝置、曝光方法、元件制造方法、程序、及記錄媒體。

本申請案主張2012年4月10日申請的美國專利暫時申請61/622,235及2013年3月11日申請的美國專利申請第13/793,667號的優(yōu)先權(quán)，并將其內(nèi)容援用于此。

在光刻制造工藝所使用的曝光裝置中，已知一種通過液體以曝光用光使基板曝光的液浸曝光裝置，例如下述的美國專利第7,864,292號。

發(fā)明內(nèi)容

液浸曝光裝置中，例如當(dāng)液體從既定空間流出、或殘留在基板等物體上時，即有可能發(fā)生曝光不良的情形。其結(jié)果，有可能產(chǎn)生不良元件。

本發(fā)明的態(tài)樣，其目的在提供一種能抑制曝光不良的發(fā)生的液浸構(gòu)件、曝光裝置及曝光方法。此外，本發(fā)明的態(tài)樣，其目的在提供一種能抑制不良元件的產(chǎn)生的元件制造方法、程序及記錄媒體。

本發(fā)明第1態(tài)樣，提供一種液浸構(gòu)件，是以從光學(xué)構(gòu)件的射出面射出的曝光用光的光路被液體充滿的方式，在能于該光學(xué)構(gòu)件下方移動的物體上形成液浸空間，具備：第1構(gòu)件，配置在該光學(xué)構(gòu)件周圍的至少一部分；以及第2構(gòu)件，能與該第1構(gòu)件隔著間隙在該第1構(gòu)件的下方移動，具有回收該液浸空間的液體的至少一部分的回收口。

本發(fā)明第2態(tài)樣，提供一種液浸構(gòu)件，是以從光學(xué)構(gòu)件的射出面射出的曝光用光的光路被液體充滿的方式，在能于該光學(xué)構(gòu)件下方移動的物體上形成液浸空間，具備：第1構(gòu)件，配置在該光學(xué)構(gòu)件周圍的至少一部分；以及第2構(gòu)件，能相對該曝光用光的該光路在該第1構(gòu)件的至少一部分的外側(cè)移動，具有回收該液浸空間的液體的至少一部分的回收口。

本發(fā)明第3態(tài)樣，提供一種曝光裝置，是通過液體以曝光用光使基板曝光，其具備第1態(tài)樣的液浸構(gòu)件。

本發(fā)明第4態(tài)樣，提供一種元件制造方法，包含：使用第1至3態(tài)樣中的任一態(tài)樣的曝光裝置使基板曝光的動作；以及使曝光后的該基板顯影的動作。

本發(fā)明第5態(tài)樣，提供一種曝光方法，是通過液體以曝光用光使基板曝光，包含：形成從光學(xué)構(gòu)件的射出面射出的該曝光用光的光路被該液體充滿的液浸空間的動作；通過該液浸空間的液體以從該射出面射出的該曝光用光使該基板曝光的動作；以及移動第2構(gòu)件的動作，該第2構(gòu)件是與配置在該光學(xué)構(gòu)件周圍的至少一部分的第1構(gòu)件隔著間隙配置在該第1構(gòu)件下方、具有回收該液浸空間的液體的至少一部分的回收口。

本發(fā)明第6態(tài)樣，提供一種元件制造方法，包含：使用第5態(tài)樣的曝光方法使基板曝光的動作，以及使曝光后基板顯影的動作。

本發(fā)明第7態(tài)樣，提供一種程序，是使電腦實施通過液體以曝光用光使基板曝光的曝光裝置的控制，包含：形成從光學(xué)構(gòu)件的射出面射出的該曝光用光的光路被該液體充滿的液浸空間的動作；通過該液浸空間的液體以從該射出面射出的該曝光用光使該基板曝光的動作；以及移動第2構(gòu)件的動作，該第2構(gòu)件是與配置在該光學(xué)構(gòu)件周圍的至少一部分的第1構(gòu)件隔著間隙配置在該第1構(gòu)件下方、具有回收該液浸空間的液體的至少一部分的回收口。

本發(fā)明第8態(tài)樣，提供一種電腦可讀取的記錄媒體，其記錄有第7態(tài)樣的程序。

根據(jù)本發(fā)明的態(tài)樣，能抑制曝光不良的發(fā)生。此外，根據(jù)本發(fā)明的態(tài)樣，能抑制不良元件的產(chǎn)生。

附圖說明

圖1顯示第1實施形態(tài)的曝光裝置的一例的圖。

圖2顯示第1實施形態(tài)的液浸構(gòu)件的一例的側(cè)視剖面圖。

圖3從下方觀察第1實施形態(tài)的液浸構(gòu)件的圖。

圖4顯示第1實施形態(tài)的液浸構(gòu)件的一部分的側(cè)視剖面圖。

圖5顯示第1實施形態(tài)的液浸構(gòu)件的一動作例的圖。

圖6顯示第1實施形態(tài)的液浸構(gòu)件的一動作例的圖。

圖7是用以說明第1實施形態(tài)的曝光裝置的一動作例的圖。

圖8是用以說明第1實施形態(tài)的曝光裝置的一動作例的示意圖。

圖9是用以說明第1實施形態(tài)的液浸構(gòu)件的一動作例的示意圖。

圖10是用以說明第1實施形態(tài)的液浸構(gòu)件的一動作例的示意圖。

圖11是用以說明速度剖線(speed profile)的一例的圖。

圖12是用以說明速度剖線的一例的圖。

圖13是用以說明第1實施形態(tài)的曝光裝置的一動作例的示意圖。

圖14顯示第2實施形態(tài)的液浸構(gòu)件的一例的側(cè)視剖面圖。

圖15顯示第3實施形態(tài)的液浸構(gòu)件的一例的側(cè)視剖面圖。

圖16是從下方觀察第4實施形態(tài)的液浸構(gòu)件的圖。