[發(fā)明專利]高分子化合物、光致抗蝕劑用樹脂組合物、及半導體的制造方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380029608.0
• 申請日: 2013-06-17
• 公開（公告）號: CN104379617A
• 公開（公告）日: 2015-02-25
• 發(fā)明（設計）人: 西村政通;江口明良;大野充
• 申請（專利權）人: 株式會社大賽璐
• 主分類號: C08F220/28
• 分類號: C08F220/28;C08F220/18;G03F7/039;H01L21/027
• 代理公司: 北京坤瑞律師事務所 11494
• 代理人: 封新琴

1.高分子化合物，其至少包含：下述式(a)所示的單體單元a、及含有具有極性基團的脂環(huán)式骨架的單體單元b，

[化學式1]

式中，R表示氫原子、鹵素原子、或任選具有鹵素原子的碳原子數1～6的烷基；R¹、R²相同或不同，表示任選具有取代基的碳原子數1～6的烷基；R³為與環(huán)Z¹鍵合的取代基，表示氧代基、烷基、任選被保護基保護的羥基、任選被保護基保護的羥基烷基、任選被保護基保護的羧基、或氰基；n表示0～3的整數，在n為2以上的情況下，2個以上的R³可以相同，也可以不同，環(huán)Z¹表示碳原子數3或4的脂環(huán)式烴環(huán)。

2.權利要求1所述的高分子化合物，其中，所述單體單元b的極性基團為選自-O-、-C(＝O)-、-C(＝O)-O-、-O-C(＝O)-O-、-C(＝O)-O-C(＝O)-、-C(＝O)-NH-、-S(＝O)-O-、-S(＝O)₂-O-、-OR^a、-C(＝O)-OR^a、及-CN中的至少1種基團，其中R^a為任選具有取代基的烷基。

3.權利要求1所述的高分子化合物，其中，所述單體單元b為選自下述式(b1)～(b6)中的至少1種，

[化學式2]

式中，R表示氫原子、鹵素原子、或任選具有鹵素原子的碳原子數1～6的烷基；A表示單鍵或連接基團；X表示非鍵合、亞甲基、亞乙基、氧原子、或硫原子；Y表示亞甲基、或羰基；R⁴～R⁸相同或不同，表示氫原子、烷基、任選被保護基保護的羥基、任選被保護基保護的羥基烷基、任選被保護基保護的羧基、或氰基；R⁹表示任選被保護基保護的羥基、任選被保護基保護的羥基烷基、任選被保護基保護的羧基、或氰基；環(huán)Z²表示碳原子數6～20的脂環(huán)式烴環(huán)；m表示1～5的整數。

4.權利要求1～3中任一項所述的高分子化合物，其還含有選自下述式(c1)～(c4)中的至少1種單體單元c，

[化學式3]

式中，R表示氫原子、鹵素原子、或任選具有鹵素原子的碳原子數1～6的烷基；R¹⁰～R¹²相同或不同，表示任選具有取代基的碳原子數1～6的烷基；R¹³、R¹⁴相同或不同，表示氫原子或任選具有取代基的碳原子數1～6的烷基；R¹⁵表示-COOR^d基，所述R^d表示任選具有取代基的叔烴基、四氫呋喃基、四氫吡喃基、或氧雜環(huán)庚烷基；p表示1～3的整數；R^c為與環(huán)Z³鍵合的取代基，相同或不同，表示氧代基、烷基、任選被保護基保護的羥基、任選被保護基保護的羥基烷基、或任選被保護基保護的羧基；q表示0～3的整數；環(huán)Z³表示碳原子數5～20的脂環(huán)式烴環(huán)。

5.權利要求1～4中任一項所述的高分子化合物，其中，重均分子量為1000～50000。

6.權利要求1～5中任一項所述的高分子化合物，其中，分子量分布(重均分子量和數均分子量的比：Mw/Mn)為1.0～3.0。

7.光致抗蝕劑用樹脂組合物，其至少含有權利要求1～6中任一項所述的高分子化合物、光酸產生劑及有機溶劑。

8.半導體的制造方法，其特征在于，使用權利要求7所述的光致抗蝕劑用樹脂組合物形成圖案。