[發明專利]用于測量光譜系統的性能的方法和設備

有效

• 申請號: 201380029284.0
• 申請日: 2013-04-02
• 公開（公告）號: CN104350378B
• 公開（公告）日: 2017-10-03
• 發明（設計）人: 托馬斯·瑟斯頓;伊恩·貝爾;布賴恩·史密斯;安德魯·伍爾夫雷伊;朱莉·格林
• 申請（專利權）人: 瑞尼斯豪公司
• 主分類號: G01N21/65
• 分類號: G01N21/65;G01N33/53
• 代理公司: 北京金思港知識產權代理有限公司11349
• 代理人: 邵毓琴

1.一種測量光譜系統的性能的方法，該方法包括：

a)針對將由所述光譜系統識別的一組成分中的每種成分獲得多個成分光譜，所述成分光譜是針對影響該成分光譜的至少一個因素的變化獲得的；

b)模擬樣品光譜，每個樣品光譜都是針對對應的潛在樣品使用與用于模擬其他樣品光譜的成分光譜不同的至少一個不同成分光譜和/或所述成分光譜中的至少一個成分光譜的不同量來模擬的；

c)對所述樣品光譜進行分析，以針對每個樣品光譜獲得所述對應的潛在樣品的特征的測量數量和/或性質；以及

d)基于所述測量數量和/或性質生成性能測量。

2.根據權利要求1所述的方法，其中所述分析包括對成分的存在和/或不存在進行定性。

3.根據權利要求1或2所述的方法，其中所述性能測量包括所述系統在識別和/或量化樣品中的所述一組成分中的一種或多種成分時的靈敏度和/或特異性的測量和/或樣品中的所述一組成分中的一種或多種成分的濃度限度，在所述濃度限度時能夠實現用于識別和/或量化所述一組成分中的所述一種或多種成分的最小靈敏度水平。

4.根據權利要求1或2所述的方法，其中每個樣品光譜都是針對所述對應的潛在樣品的特征的指定數量和/或性質來模擬的，并且生成性能測量包括將所述測量數量和/或性質與用于每個樣品光譜的指定數量或性質進行比較。

5.根據權利要求1或2所述的方法，其中所述分析包括使用用于每種成分的參考光譜對每個樣品光譜進行分析以獲得所述特征的所述測量數量和/或性質。

6.根據權利要求1或2所述的方法，其中通過根據實驗設計進行實驗來獲得用于每種成分的所述多個成分光譜，其中被識別為影響所述一組成分中的一種或多種成分的光譜響應的因素在一定概率范圍內變化。

7.根據權利要求1或2所述的方法，其中在步驟a)中針對每種成分得到的所述多個成分光譜在所述每種成分具有相同參考濃度的情況下獲得。

8.根據權利要求1或2所述的方法，其中針對所述對應的潛在樣品中的至少一個不同成分的不同濃度來模擬所述樣品光譜。

9.根據權利要求1或2所述的方法，其中從適當的一組所述成分光譜中隨機地選擇用于模擬所述樣品光譜的一個或多個成分光譜和/或參考光譜。

10.根據權利要求1或2所述的方法，其中基于至少一種概率分布隨機地選擇所述對應的潛在樣品中的至少一個不同成分和/或所述對應的潛在樣品中的至少一個不同成分的濃度。

11.根據權利要求5所述的方法，所述分析進一步包括選擇用于所述一組成分中的每種成分的參考光譜，每個參考光譜是從用于該成分的多個成分光譜選擇的并且與用來模擬使用該參考光譜分析的樣品光譜的成分光譜不同。

12.根據權利要求11所述的方法，所述分析進一步包括選擇不同的參考光譜用于不同的樣品光譜的分析。

13.根據權利要求6所述的方法，其中所述因素包括操作者、樣品準備與測量之間的時間、獲得光譜的儀器、成分批次和試劑批次中的一種或多種。

14.一種設計光譜系統的方法，該方法包括使用根據權利要求1至10中任一項所述的方法測量所述光譜系統的性能并且基于性能測量來選擇和/或修改所述光譜系統的規范。

15.一種根據權利要求14所述的方法設計的光譜系統。

16.一種用于測量光譜系統的性能的設備，該設備包括處理器，該處理器被設置成：

a)針對將由光譜系統識別的一組成分中的每種成分獲得多個成分光譜，所述成分光譜是針對影響該成分光譜的至少一個因素的變化獲得的；

b)模擬樣品光譜，每個樣品光譜都是針對對應的潛在樣品使用與用于模擬其他樣品光譜的成分光譜不同的至少一個不同成分光譜和/或所述成分光譜中的至少一個成分光譜的不同量來模擬的；

c)對所述樣品光譜進行分析，以針對每個樣品光譜獲得所述對應的潛在樣品的特征的測量數量和/或性質；以及

d)基于所述測量數量和/或性質生成性能測量。

17.一種測量光譜系統的性能的方法，該方法包括：

a)針對將由所述光譜系統識別的一組成分中的每種成分獲得多個成分光譜，所述成分光譜是針對影響該成分光譜的至少一個因素的變化獲得的；

b)使用所述成分光譜針對潛在樣品模擬樣品光譜；

c)使用從所述多個成分光譜選擇的不同組的參考光譜對所述樣品光譜進行多次分析，以利用每組參考光譜獲得所述潛在樣品的特征的測量數量和/或性質；以及

d)基于所述測量數量和/或性質生成性能測量。