[發(fā)明專利]微粒測量裝置中的數(shù)據(jù)校正方法和微粒測量裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380028501.4
• 申請日: 2013-04-03
• 公開（公告）號: CN104321635B
• 公開（公告）日: 2018-06-05
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 新田尚;今西慎悟;竹內(nèi)太一
• 申請（專利權(quán)）人: 索尼公司
• 主分類號: G01N15/14
• 分類號: G01N15/14;G01N21/49;G01N21/64
• 代理公司: 北京康信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責任公司 11240
• 代理人: 余剛;吳孟秋

提供一種技術(shù)，據(jù)此通過有效地校正由微粒的流道中的流動位置的不一致引起的測量誤差能夠高精確度地測量熒光和散射光的強度和光譜。提供一種微粒測量裝置中的數(shù)據(jù)校正方法，包括：強度檢測過程，允許通過將光照射在流過流道的微粒上來檢測從微粒發(fā)射的光以獲取光的強度信息；位置檢測過程，用于獲取微粒的位置信息；以及校正過程，用于基于位置信息校正強度信息。在數(shù)據(jù)校正方法的位置檢測過程中，檢測器接收從微粒發(fā)射的散射光中分離的像散S偏振分量，使得S偏振分量在檢測器中的接收位置被獲取為位置信息。

技術(shù)領(lǐng)域

本技術(shù)涉及用于微粒測量裝置的數(shù)據(jù)校正方法和微粒測量裝置。更具體地，本技術(shù)涉及，例如用于微粒測量裝置的數(shù)據(jù)校正方法，該方法用于校正由微粒在形成在流動池、微芯片等中的流道中的流動位置的變化所引起的測量誤差。

背景技術(shù)

已知的微粒測量裝置形成包括形成在流動池、微芯片等中的流道中的微粒的層流(也稱為鞘流)，將光發(fā)射在層流中的微粒上，并且檢測從微粒產(chǎn)生的熒光和散射光。例如，流式細胞儀可以基于檢測的熒光或者散射光的強度或者光譜測量和分析微粒的光學性能，諸如細胞和珠子。

在微粒測量裝置中，形成層流使得微?；旧显诹鞯赖闹行牧鲃樱敲總€微粒在流道中的流動位置改變，并且因此，由這個變化所引起的測量誤差成問題。為了減小進行測量花費的時間，在包括層流中的微粒的樣品液體層流的流動速率被配置為大于鞘液層流的流動速率時，微粒在流道中的流動位置的變化和由這個變化所引起的測量誤差尤其大。

在流道中的流動位置在微粒中改變時，微粒與用于微粒的光發(fā)射系統(tǒng)和從微粒產(chǎn)生的熒光和散射光的檢測系統(tǒng)之間的光學而言的位置的關(guān)系在微粒中不同。因此，由光學位置的偏差所引起的測量誤差出現(xiàn)在在每個微粒中檢測的熒光和散射光的強度和光譜中。

專利文獻1和專利文獻2公開了用于抑制由微粒的流動位置的變化所引起的測量誤差的技術(shù)。在專利文獻1中描述的流動微粒分析裝置中，通過四分部光電二極管、區(qū)域CCD等檢測經(jīng)由光學分隔器從前向散射光、側(cè)向散射光或者反向散射光重新得到(retrieved)的檢測光(散射光)。然后，從檢測位置檢測到激發(fā)光的中心和鞘流的中心之間的位置的偏差，并調(diào)節(jié)流動池的位置使得位置的這個偏差停在預(yù)定的范圍內(nèi)。專利文獻2描述通過使用在從微粒產(chǎn)生的散射光中出現(xiàn)的偏振角變化和調(diào)節(jié)激發(fā)光的焦點位置或者流動池的位置檢測關(guān)于微粒的位置信息的技術(shù)。

現(xiàn)有技術(shù)文獻

專利文獻

專利文獻1：JP 9-166541A

專利文獻2：JP 2011-149822A

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明要解決的問題

在從微粒產(chǎn)生的熒光作為光譜進行測量時，由于微粒的流動位置的變化導(dǎo)致的測量誤差成問題。從微粒產(chǎn)生的熒光被使用分光器件，諸如棱鏡和光柵鏡分為光譜。然后，熒光的光譜通過具有以一維方式布置的PMT、光電二極管等的光接收器件陣列和諸如CCD和CMOS的二維光接收器件檢測。在這時候，在微粒的流動位置改變時，入射到布置在光接收器件陣列或者二維光接收器件中的多個獨立的檢測流道之一上的熒光的波長范圍可能在微粒中不同。

更具體地，從微粒k投影在檢測流道n上的熒光的波長范圍是λ_k至λ_k+1時，從流道中的流動位置不同于微粒k的流動位置的從微粒l投影的熒光的波長范圍是λ_l至λ_l+1，并且(λ_k，λ_k+1)和(λ_l，λ_l+1)的值可能是不同的。因此，檢測每個微粒的熒光光譜可能涉及由入射到檢測流道n上的熒光的波長范圍的偏差所引起的測量誤差。

本技術(shù)的主要目的是提供能夠通過有效地校正由于微粒在流道中的流動位置的變化而出現(xiàn)的測量誤差來高度準確地測量熒光和散射光的強度和光譜的技術(shù)。