[發(fā)明專利]用于漸逝模式電磁波空腔諧振器的平面內(nèi)諧振器結(jié)構(gòu)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201380027638.8 | 申請日： | 2013-04-19 |
| 公開（公告）號： | CN104335416A | 公開（公告）日： | 2015-02-04 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 菲利普·賈森·斯蒂法諾;樸相俊;拉溫德拉·V·社諾伊 | 申請（專利權(quán)）人： | 高通MEMS科技公司 |
| 主分類號： | H01P1/208 | 分類號： | H01P1/208;H01P7/06 |
| 代理公司： | 北京律盟知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11287 | 代理人： | 宋獻(xiàn)濤 |
| 地址： | 美國加利*** | 國省代碼： | 美國;US |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 模式 電磁波 空腔 諧振器 平面 結(jié)構(gòu) | ||
1.一種裝置(11，40)，其包括漸逝模式電磁波空腔諧振器結(jié)構(gòu)(1900，2100，2200)，所述結(jié)構(gòu)包括：
包含第一空腔(1906a，2106a，2206)的第一空腔部分(1902，2102，2202)，其具有內(nèi)部空腔表面和所述第一空腔的外圍周圍的配合表面，所述內(nèi)部空腔表面具有位于其上的導(dǎo)電層；
包含第二空腔(1906b，2106b)的第二空腔部分(1904，2104)，其具有內(nèi)部空腔表面和所述第二空腔的外圍周圍的配合表面，所述內(nèi)部空腔表面具有位于其上的導(dǎo)電層，所述第一空腔(1906a，2106a)和所述第二空腔(1906b，2106b)形成可操作以支持一或多個漸逝電磁波模式的體積；以及
平面內(nèi)諧振器結(jié)構(gòu)(1910，2110，2210)，其具有至少部分地位于所述體積內(nèi)以便支持所述一或多個漸逝電磁波模式的部分，所述諧振器結(jié)構(gòu)為導(dǎo)電的或具有位于其上的導(dǎo)電層，所述諧振器結(jié)構(gòu)的第一配合表面與所述第一空腔部分的所述配合表面連接，所述諧振器結(jié)構(gòu)的第二配合表面與所述第二空腔部分的所述配合表面連接，所述諧振器結(jié)構(gòu)的遠(yuǎn)表面(1922，2122)在所述體積的一部分上延伸且和與其最靠近的表面分離或電絕緣一間隙距離，所述諧振器結(jié)構(gòu)的諧振電磁波模式至少部分地取決于所述間隙距離。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的諧振器結(jié)構(gòu)，其中電介質(zhì)材料布置于所述間隙距離的一些或全部內(nèi)以使得所述電介質(zhì)材料填充所述間隙距離內(nèi)的空間的一部分。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的諧振器結(jié)構(gòu)，其中所述諧振器結(jié)構(gòu)(1900)包含：
第一部分(1910)，其在所述體積內(nèi)徑向或橫向延伸，所述第一部分的所述遠(yuǎn)表面(1922)是所述諧振器結(jié)構(gòu)的所述遠(yuǎn)表面；以及
第二部分(1911)，其物理支撐所述第一部分，所述第二部分布置于所述第一空腔部分(1902，2102，2202)的所述配合表面與所述第二空腔部分(1904，2104)的所述配合表面之間且與所述配合表面連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的諧振器結(jié)構(gòu)，其中所述諧振器結(jié)構(gòu)(1900)的所述第一部分(1910)包含在所述體積上徑向或橫向延伸的柱(1910)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的諧振器結(jié)構(gòu)，其中所述柱(1910)的所述遠(yuǎn)表面是所述諧振器結(jié)構(gòu)的所述遠(yuǎn)表面。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的諧振器結(jié)構(gòu)，其中所述諧振器結(jié)構(gòu)(1900)的所述第一部分(1910)進(jìn)一步包含柱頂部(1912)，所述柱頂部布置于所述柱(1910)的遠(yuǎn)端處或與所述柱一體式形成且具有比所述柱的寬度大的寬度，且其中所述柱頂部的所述遠(yuǎn)表面(1922)是所述諧振器結(jié)構(gòu)的所述遠(yuǎn)表面。
7.根據(jù)權(quán)利要求3到6中任一權(quán)利要求所述的諧振器結(jié)構(gòu)，其中與所述諧振器結(jié)構(gòu)(1900)的所述第一部分(1910)的所述遠(yuǎn)表面(1922)最靠近的所述表面是與所述諧振器結(jié)構(gòu)的所述第一部分的所述遠(yuǎn)表面最靠近的所述第一空腔部分(1902)的所述內(nèi)部空腔表面或所述第二空腔部分(1904)的所述內(nèi)部空腔表面。
8.根據(jù)權(quán)利要求3到6中任一權(quán)利要求所述的諧振器結(jié)構(gòu)，其中與所述諧振器結(jié)構(gòu)(1900)的所述第一部分(1910)的所述遠(yuǎn)表面(1922)最靠近的所述表面是與所述諧振器結(jié)構(gòu)的所述第一部分的所述遠(yuǎn)表面最靠近的所述諧振器結(jié)構(gòu)的所述第二部分(1911)的表面。
9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的諧振器結(jié)構(gòu)，其中：
所述諧振器結(jié)構(gòu)(2100，2200)包含沿著所述體積的圓周的至少一部分延伸的第一部分(2110，2210)，所述第一部分的遠(yuǎn)表面(2122)是所述諧振器結(jié)構(gòu)的所述遠(yuǎn)表面；且
所述諧振器結(jié)構(gòu)包含物理支撐所述第一部分的第二部分(2103)，所述第二部分布置于所述第一空腔部分(2102，2202)的所述配合表面與所述第二空腔部分(2104)的所述配合表面之間且與所述配合表面連接。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的諧振器結(jié)構(gòu)，其中：
所述諧振器結(jié)構(gòu)(2100，2200)的所述第一部分(2110，2210)包含其中具有間隙的環(huán)；且
鄰接所述間隙的表面(2122)是所述諧振器結(jié)構(gòu)的所述遠(yuǎn)表面。
11.根據(jù)任一前述權(quán)利要求所述的諧振器結(jié)構(gòu)，其中所述諧振器結(jié)構(gòu)(2100，2200)以懸置環(huán)諧振器拓?fù)浠蜷_口環(huán)諧振器拓?fù)渑渲谩?/p>
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