[發明專利]用于制造太陽能電池的雙掩模裝置

有效

• 申請號: 201380026127.4
• 申請日: 2013-04-19
• 公開（公告）號: CN104685095B
• 公開（公告）日: 2017-12-29
• 發明（設計）人: T·布盧克;I·拉奇福特;V·沙阿;A·里波薩恩
• 申請（專利權）人: 因特瓦克公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司72002
• 代理人: 劉興鵬

1.用于利用掩模在真空處理系統中處理晶片的裝置，其包括：

晶片承載器，所述晶片承載器被構造成在所述真空處理系統中的處理過程中同時支撐多個晶片，所述晶片承載器包含框架以及兩個傳輸軌道，所述兩個傳輸軌道分別設置在框架的一個邊緣上，所述傳輸軌道被構造成貫穿所述真空處理系統傳輸所述晶片承載器；

附接至所述框架的多個基座，每個基座被構造成支撐單個晶片；

多個內掩模，每個內掩模被構造用于放置在由所述基座之一支撐的晶片之一的頂部上，所述內掩模具有用于掩蔽晶片的一些部分并暴露晶片的剩余部分的開口圖案；

多個外掩模，每個外掩模被構造用于放置在相應的內掩模的頂部上，所述外掩模具有被構造成部分地覆蓋所述內掩模的開口；

掩模框架，所述掩模框架被構造成支撐所述多個內掩模和所述多個外掩模并從所述承載器升起內掩模和外掩模，并且將所述多個內掩模和所述多個外掩模固定至對應的基座。

2.如權利要求1所述的裝置，其中每個所述內掩模由平坦的金屬片構成，所述金屬片具有尺寸小于所述晶片的敞開式切口，使得當所述內掩模被置于所述晶片上時所述內掩模覆蓋所述晶片的外周邊緣。

3.如權利要求2所述的裝置，其中每個所述內掩模由鋼制成。

4.如權利要求2所述的裝置，其中每個所述內掩模具有0.001到0.003英寸的厚度。

5.如權利要求1所述的裝置，還包括多個磁體，所述多個磁體被埋置在每個對應的所述承載器中并被構造成將對應的所述內掩模牽引至與所述晶片接觸。

6.如權利要求5所述的裝置，其中每個所述外掩模由磁性材料制成以用于從所述磁體分流磁場并用于保持所述外掩模與對應的所述內掩模接觸。

7.如權利要求1所述的裝置，其中每個所述外掩模由鋁制成并且以物理接觸地擱在對應的所述內掩模的頂部上。

8.如權利要求1所述的裝置，其中每個所述基座包括靜電卡盤。

9.如權利要求8所述的裝置，其中所述框架包括保持所述多個基座的陶瓷條。

10.如權利要求8所述的裝置，其中所述軌道被構造用于傳輸各晶片承載器以經受RIE處理。

11.如權利要求8所述的裝置，其中所述晶片承載器還包括掩模升降器，其被構造用于接合所述掩模框架以從所述晶片承載器升起所述外掩模和內掩模。

12.如權利要求8所述的裝置，其中所述晶片承載器還包括晶片舉升銷，其被構造用于接合所述掩模框架以從基座升起晶片。

13.如權利要求1所述的裝置，其中所述外掩模和內掩模被構造成僅通過磁性力而被保持至所述承載器，以便允許容易和快速地裝載和卸載晶片。

14.如權利要求1所述的裝置，其中，每個所述基座具有帶凹部的凸起式框架，所述凹部限定出位于晶片下面的凹穴，使得晶片通過擱在所述凹部上的晶片外周而被懸置在所述凹穴上面。

15.如權利要求1所述的裝置，其中所述晶片承載器包括對正銷并且每個所述外掩模具有相應的對正凹部。

16.如權利要求1所述的裝置，其中每個所述外掩模包括折疊的鋁片。

17.如權利要求5所述的裝置，其中所述多個磁體由釤鈷制成。

18.如權利要求1所述的裝置，還包括每個所述內掩模被夾在所述掩模框架和對應的所述外掩模之間。

19.如權利要求5所述的裝置，其中所述磁體完全在所述框架周圍以N-S-N-S-N的極性交替。