[發(fā)明專利]氧氣分離器和產(chǎn)生氧氣的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201380025425.1 | 申請日: | 2013-05-08 |
| 公開(公告)號: | CN104302383A | 公開(公告)日: | 2015-01-21 |
| 發(fā)明(設計)人: | P·L·布利斯;R·希爾比希;J·T·多倫斯基;A·G·R·克貝爾;P·范德斯路易斯;M·克萊;W·C·科爾 | 申請(專利權)人: | 皇家飛利浦有限公司 |
| 主分類號: | B01D53/04 | 分類號: | B01D53/04;B01D53/047 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人: | 蔡洪貴 |
| 地址: | 荷蘭艾*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 氧氣 分離器 產(chǎn)生 方法 | ||
1.一種氧氣分離裝置,包括:
在第一側的氣體入口(29、31)和在第二側的氣體出口(33、35),所述氣體入口用于將包含氧氣的氣體流引導到所述氧氣分離裝置(12、14)中,所述氣體出口用于引導富含氧氣的氣體流離開所述氧氣分離裝置(12、14);
具有氧氣分離吸附劑(16、18)的至少一個氧氣分離區(qū)域(20、22),所述氧氣分離吸附劑能夠通過吸附所述包含氧氣的氣體中除氧氣以外的至少一種組分而從包含氧氣的氣體中分離氧氣且能夠被污染物污染;以及
具有去污材料(17、19)的去污區(qū)域(21、23),所述去污材料用于使所述包含氧氣的氣體從至少一種污染物去污,其中
所述氧氣分離區(qū)域(20、22)和所述去污區(qū)域(21、23)通過間隔件(76、78)流體連接,所述間隔件包括至少一個擴散抑制通道(80、82),其中所述間隔件(76、78)具有的擴散抑制值rR為rR>1。
2.根據(jù)權利要求1所述的氧氣分離裝置,其特征在于,所述間隔件具有的擴散抑制值rR為rR>100。
3.根據(jù)權利要求1所述的氧氣分離裝置,其特征在于,所述去污材料(17、19)包括微粒,且一個擴散抑制通道(80、82)的橫截面積Ad具有的尺寸為Ab/2<Ad<Az/3,和/或其中所述氧氣分離材料(16、18)包括微粒,且一個擴散抑制通道(80、82)的所述橫截面積Ad具有的尺寸為Ab/2<Ad<Az/3。
4.根據(jù)權利要求1所述的氧氣分離裝置,其特征在于,所述擴散抑制通道(80、82)包括沿偏離所述間隔件(76、78)主方向的方向伸展的至少一個區(qū)段。
5.根據(jù)權利要求4所述的氧氣分離裝置,其特征在于,所述擴散抑制通道(80、82)至少部分地包括彎曲結構和/或成角度結構。
6.根據(jù)權利要求5所述的氧氣分離裝置,其特征在于,所述彎曲結構和/或所述成角度結構被形成為螺旋結構。
7.根據(jù)權利要求5所述的氧氣分離裝置,其特征在于,設置兩個彎曲結構,每一個彎曲結構都在基本上垂直于所述間隔件(76、78)的所述主方向的平面中伸展且彼此流體連接,其中第一彎曲結構連接到所述氧氣分離區(qū)域20、22),且另一彎曲結構連接到所述去污區(qū)域(21、23),和/或其中設置兩個成角度結構,每一個成角度結構都在基本上垂直于所述間隔件(76、78)的所述主方向的平面中伸展且彼此流體連接,其中第一成角度結構連接到所述氧氣分離區(qū)域(20、22),且另一成角度結構連接到所述去污區(qū)域(21、23)。
8.根據(jù)權利要求1所述的氧氣分離裝置,其特征在于,在所述擴散抑制通道(80、82)中布置閥。
9.根據(jù)權利要求8所述的氧氣分離裝置,其特征在于,設置至少兩個擴散抑制通道(80、82),每一個擴散抑制通道中都布置有止回閥(88、90),至少兩個止回閥(88、90)是以反向平行方式布置的。
10.根據(jù)權利要求1所述的氧氣分離裝置,其特征在于,所述氧氣分離區(qū)域(20、22)包括氮吸附材料,和/或其中所述去污區(qū)域(21、23)包括水吸附材料。
11.一種氧氣分離器,包括:
根據(jù)權利要求1所述的至少一個氧氣分離裝置(12、14),所述氧氣分離器還包括
壓力調(diào)節(jié)裝置,其用于在所述氧氣分離裝置(12、14)的所述第一側和所述第二側之間形成壓力差。
12.根據(jù)權利要求11所述的氧氣分離器,其特征在于,設置用于加熱所述氧氣分離裝置(12、14)的加熱裝置(74)。
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