[發明專利]微波加熱裝置

有效

• 申請號: 201380025395.4
• 申請日: 2013-04-26
• 公開（公告）號: CN104488352B
• 公開（公告）日: 2016-10-12
• 發明（設計）人: 吉野浩二;貞平匡史;細川大介;信江等隆;大森義治
• 申請（專利權）人: 松下知識產權經營株式會社
• 主分類號: H05B6/72
• 分類號: H05B6/72;F24C7/02;H05B6/64;H05B6/70
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇

1.一種微波加熱裝置，具備：

加熱室，其收納被加熱物；

微波產生部，其產生微波；

波導管，其傳送微波；以及

多個微波輻射部，該多個微波輻射部將微波從上述波導管輻射到上述加熱室內，

其中，上述加熱室具有被來自上述多個微波輻射部的微波輻射的輻射區域，該輻射區域在上述波導管的傳送方向上具有管內波長的大致2倍的長度，

至少兩個上述微波輻射部設置于在上述波導管的傳送方向上相距大致管內波長的量的位置處，并相對于上述輻射區域的與上述傳送方向正交的中心線對稱地配置。

2.根據權利要求1所述的微波加熱裝置，其特征在于，

上述輻射區域由載置被加熱物的載置臺規定。

3.根據權利要求1所述的微波加熱裝置，其特征在于，

上述輻射區域由上述加熱室的相向的壁面之間的空間規定。

4.根據權利要求1所述的微波加熱裝置，其特征在于，

上述輻射區域由設置有上述微波輻射部的位置與配置在上述微波輻射部的上方的載置臺的位置之間的底部空間規定。

5.根據權利要求1～4中的任一項所述的微波加熱裝置，其特征在于，

至少兩個上述微波輻射部構成為配置在上述波導管內產生的駐波的波腹附近。

6.根據權利要求1～5中的任一項所述的微波加熱裝置，其特征在于，

至少兩個上述微波輻射部構成為沿著上述波導管的傳送方向配置，在至少兩個上述微波輻射部之間的區域具有其它的微波輻射部。

7.根據權利要求1～6中的任一項所述的微波加熱裝置，其特征在于，

至少兩個上述微波輻射部構成為以每兩個排列在上述波導管的寬度方向上的方式配置。

8.根據權利要求1～7中的任一項所述的微波加熱裝置，其特征在于，

上述微波輻射部以輻射出圓偏振波的開口形狀構成。

9.根據權利要求8所述的微波加熱裝置，其特征在于，

輻射出圓偏振波的微波輻射部由兩個長孔交叉的大致X字形狀的開口構成。