[發(fā)明專利]暗場計(jì)算機(jī)斷層攝影成像

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201380025354.5
• 申請(qǐng)日: 2013-05-13
• 公開（公告）號(hào): CN104321805B
• 公開（公告）日: 2017-12-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: T·克勒;B·J·布倫德爾;E·勒斯?fàn)?/a>;U·范斯特文達(dá)勒
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 皇家飛利浦有限公司
• 主分類號(hào): G06T11/00
• 分類號(hào): G06T11/00
• 代理公司: 永新專利商標(biāo)代理有限公司72002
• 代理人: 李光穎,王英

1.一種成像方法，包括：

獲得從目標(biāo)的暗場CT掃描生成的暗場信號(hào)，其中，所述暗場CT掃描至少是360度掃描；

對(duì)所述暗場信號(hào)進(jìn)行針對(duì)所述暗場CT掃描中的反向信號(hào)放大的加權(quán)；并且

對(duì)所述360度掃描上的經(jīng)加權(quán)的暗場信號(hào)執(zhí)行錐形束重建，從而生成體積圖像數(shù)據(jù)。

2.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述錐形束重建不要求針對(duì)被掃描的目標(biāo)的互補(bǔ)暗場信號(hào)，所述互補(bǔ)暗場信號(hào)是與所述暗場信號(hào)相隔一百八十度采集的信號(hào)。

3.如權(quán)利要求2所述的方法，其中，所述錐形束重建是在所述360度掃描上的2D濾波反投影重建的擴(kuò)展。

4.如權(quán)利要求3所述的方法，其中，所述2D濾波反投影重建包括是所述互補(bǔ)暗場信號(hào)的函數(shù)的項(xiàng)，并且還包括：

利用所述暗場信號(hào)來近似所述項(xiàng)中的所述互補(bǔ)暗場信號(hào)。

5.如權(quán)利要求3至4中的任一項(xiàng)所述的方法，其中，所述2D濾波反投影重建包括將濾波反投影應(yīng)用于所述經(jīng)加權(quán)的暗場信號(hào)，并且將所述濾波反投影的結(jié)果乘以二。

6.如權(quán)利要求1至4中的任一項(xiàng)所述的方法，其中，所述暗場CT掃描是軸向錐形束CT掃描，并且所述錐形束重建是360度FDK錐形束重建。

7.如權(quán)利要求1至4中的任一項(xiàng)所述的方法，其中，所述暗場CT掃描是螺旋錐形束CT掃描。

8.如權(quán)利要求7所述的方法，還包括：

將所述暗場信號(hào)重新分箱到楔形幾何結(jié)構(gòu)，并且其中，所述錐形束重建是孔徑加權(quán)的楔形重建。

9.如權(quán)利要求7所述的方法，還包括：

將所述暗場信號(hào)重新分箱到楔形幾何結(jié)構(gòu)，并且其中，所述錐形束重建是角度加權(quán)的楔形重建。

10.如權(quán)利要求9所述的方法，其中，具有2π距離的所有視圖的權(quán)重獨(dú)立地加到1/2。

11.一種成像系統(tǒng)(700)，包括：

焦斑(710)，其發(fā)射穿過檢查區(qū)域的輻射；

干涉儀(714、718、720)，其針對(duì)目標(biāo)的暗場成像掃描對(duì)發(fā)射的輻射進(jìn)行濾波；

探測器陣列(712)，其探測穿過所述檢查區(qū)域的經(jīng)濾波的輻射，并且產(chǎn)生指示其的暗場信號(hào)；以及

重建器(728)，其對(duì)所述暗場信號(hào)進(jìn)行針對(duì)所述暗場成像掃描中的反向信號(hào)放大的加權(quán)并且使用錐形束重建來重建360度上的經(jīng)加權(quán)的暗場信號(hào)，生成體積圖像數(shù)據(jù)。

12.如權(quán)利要求11所述的成像系統(tǒng)，其中，所述錐形束重建不要求針對(duì)被掃描目標(biāo)的互補(bǔ)暗場信號(hào)，所述互補(bǔ)暗場信號(hào)是與所述暗場信號(hào)相隔一百八十度采集的信號(hào)。

13.如權(quán)利要求12所述的成像系統(tǒng)，其中，所述重建器應(yīng)用錐形束重建，所述錐形束重建是在所述360度上的2D濾波反投影重建的擴(kuò)展。

14.如權(quán)利要求13所述的成像系統(tǒng)，其中，所述2D濾波反投影重建包括是所述互補(bǔ)暗場信號(hào)的函數(shù)的項(xiàng)，利用所述暗場信號(hào)來近似所述互補(bǔ)暗場信號(hào)。