[發明專利]觀察拍攝裝置

有效

• 申請號: 201380024943.1
• 申請日: 2013-06-18
• 公開（公告）號: CN104470681B
• 公開（公告）日: 2017-11-21
• 發明（設計）人: 足立吉隆;中山誠
• 申請（專利權）人: 國立大學法人鹿兒島大學;株式會社中山電機
• 主分類號: B24B37/04
• 分類號: B24B37/04;B24B37/10;B24B37/24;B24B37/26;B24B37/34;B24B49/12;B24B57/02;C25F3/00;C25F3/16
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司11127
• 代理人: 李輝,黃綸偉

1.一種觀察拍攝裝置，其在帶拍攝部的顯微鏡上附設有電解研磨機構，該拍攝部能夠觀察并拍攝試樣的表面，在進行所述觀察之前，該電解研磨機構對所述試樣的表面在垂直方向上以等間隔或設定的量反復進行電解研磨，其特征在于，

所述電解研磨機構具有：旋轉軸鉛直的旋轉盤；電解液吸收布，其安裝在該旋轉盤的下表面上并吸收對觀察面進行電解研磨的電解液；以及電解液噴嘴，其配置在比該電解液吸收布靠下方的位置，并朝上噴射所述電解液以潤濕所述電解液吸收布，

所述觀察拍攝裝置具有：測量器，其測量從該測量器到達所述試樣的表面或觀察面的距離；以及運算部，其根據由該測量器測量的研磨前的距離和研磨后的距離之差來運算研磨量。

2.根據權利要求1所述的觀察拍攝裝置，其特征在于，

所述觀察拍攝裝置從所述電解液噴嘴噴射腐蝕液。

3.根據權利要求1所述的觀察拍攝裝置，其特征在于，

所述旋轉盤配置在筒狀罩內，所述帶拍攝部的顯微鏡配置在所述筒狀罩的外部，所述電解液噴嘴的噴射區域被設定在所述筒狀罩內。

4.根據權利要求1所述的觀察拍攝裝置，其特征在于，

所述觀察拍攝裝置具有：試樣臺升降機構，其使實施了電解研磨的所述試樣移動至所述帶拍攝部的顯微鏡的觀察位置；以及控制部，其將所述研磨量考慮在內來控制所述試樣臺升降機構，使得所述表面或觀察面與所述帶拍攝部的顯微鏡的焦點一致。

5.根據權利要求4所述的觀察拍攝裝置，其特征在于，

所述帶拍攝部的顯微鏡安裝在水平地移動的承載臺上，

所述控制部保存由所述承載臺實現的移動之前的圖像，并且還具有下述控制功能：以使借助所述承載臺移動的所述帶拍攝部的顯微鏡根據所述移動之前的圖像返回至初始位置的方式對所述承載臺進行控制。

6.一種觀察拍攝裝置，其在帶拍攝部的顯微鏡上附設有電解研磨機構，該拍攝部能夠觀察并拍攝試樣的表面，在進行所述觀察之前，該電解研磨機構對所述試樣的表面在垂直方向上以等間隔或設定的量反復進行電解研磨，其特征在于，

所述電解研磨機構具有：旋轉軸鉛直的旋轉盤；電解液吸收布，其安裝在該旋轉盤的下表面上并吸收對觀察面進行電解研磨的電解液；以及電解液噴嘴，其配置在比該電解液吸收布靠下方的位置，并朝上噴射所述電解液以潤濕所述電解液吸收布，

所述觀察拍攝裝置具有：測量器，其測量從該測量器到達所述試樣的表面或觀察面的距離；以及統計處理部，其對由該測量器測量所述表面或觀察面的多個部位而得到的多個測量值進行統計性處理而求出表面粗糙度。

7.根據權利要求6所述的觀察拍攝裝置，其特征在于，

所述觀察拍攝裝置從所述電解液噴嘴噴射腐蝕液。

8.根據權利要求6所述的觀察拍攝裝置，其特征在于，

所述旋轉盤配置在筒狀罩內，所述帶拍攝部的顯微鏡配置在所述筒狀罩的外部，所述電解液噴嘴的噴射區域被設定在所述筒狀罩內。