[發(fā)明專利]光學(xué)膜

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380024318.7
• 申請日: 2013-05-07
• 公開（公告）號: CN104284923A
• 公開（公告）日: 2015-01-14
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 金源曄;金明來;金奕錢;趙容均;林珉貞;曹永民;李承彥;郭孝信
• 申請（專利權(quán)）人: SK新技術(shù)株式會社
• 主分類號: C08J5/18
• 分類號: C08J5/18;C08K5/00;G02B5/02;G02F1/13363
• 代理公司: 北京路浩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002
• 代理人: 謝順星;張晶

1.一種光學(xué)膜，其包含：

選自由下面的化學(xué)式1表示的化合物中的至少一種，用作添加劑,

[化學(xué)式1]

在化學(xué)式1中，X表示O、S或N-R₅，Y表示O、S、N-R₂₅或化學(xué)鍵，R₁、R₃、R₅和R₂₅各自獨立地選自氫、(C1-C10)烷基、(C6-C20)芳基、(C1-C20)烷氧基、(C3-C20)環(huán)烷基、(C2-C7)烯基、(C1-C10)烷氧基羰基(C1-C10)烷基、羰基(C1-C10)烷基、(C3-C20)雜環(huán)烷基和(C4-C20)雜芳基，

R₂和R₄各自獨立地選自氫、(C1-C10)烷基、(C6-C20)芳基、(C3-C20)環(huán)烷基、羰基(C1-C10)烷基、(C3-C20)雜環(huán)烷基和(C4-C20)雜芳基，R₁、R₂、R₃和R₄不同時是氫，以及

R₁、R₂、R₃、R₄、R₅和R₂₅的烷基、芳基、烷氧基、環(huán)烷基、烯基、烷氧基羰基、羰基芳基、雜環(huán)烷基和雜芳基可進(jìn)一步由選自(C1-C7)烷基、鹵素、硝基、氰基、羥基、氨基(C6-C20)芳基、(C2-C7)烯基、(C3-C20)環(huán)烷基、(C3-C20)雜環(huán)烷基或(C4-C20)雜芳基中的至少一種來取代。

2.如權(quán)利要求1所述的一種光學(xué)膜，其中由化學(xué)式1表示的所述化合物選自下面的化學(xué)式2、3或4,

[化學(xué)式2]

[化學(xué)式3]

[化學(xué)式4]

在化學(xué)式中，R₁₁和R₂₁各自獨立的選自氫、(C1-C5)烷基、(C6-C10)芳基、(C3-C20)雜芳基、(C3-C10)雜環(huán)芳基和(C4-C10)雜芳基，R₃₁選自氫、(C1-C5)烷基，(C6-C10)芳基，和(C1-C10)烷氧基，R₄₁選自氫，(C1-C5)烷基，羰基(C1-C5)烷基和(C6-C10)芳基，以及

R₁₁、R₂₁、R₃₁和R₄₁的烷基，芳基，雜芳基，烷氧基，羰基烷基，雜環(huán)芳基和雜芳基可進(jìn)一步被選自(C1-C7)烷基，鹵素，硝基、氰基、羥基和氨基中的至少一種取代。

3.如權(quán)利要求2所述的一種光學(xué)膜，其中化學(xué)式2或3中的R₁₁、R₂₁和R₃₁各自獨立的選自氫、(C1-C5)烷基、(C3-C20)環(huán)烷基、(C3-C20)雜環(huán)烷基、(C6-C10)芳基和(C6-C10)雜芳基，

R₁₁、R₂₁和R₃₁的烷基、環(huán)烷基、雜環(huán)烷基、芳基和雜芳基進(jìn)一步被選自(C1-C7)烷基，鹵素，硝基、氰基、羥基和氨基中的至少一種取代，

R₁₁、R₂₁和R₃₁中的至少兩種包括選自(C3-C20)雜芳基、(C6-C20)芳基、(C3-C20)雜環(huán)芳基和(C4-C20)雜芳基中的環(huán)形取代基。

4.如權(quán)利要求2所述的一種光學(xué)膜，其中由化學(xué)式2或3表示的所述化合物選自下面的化學(xué)式，

5.如權(quán)利要求2所述的一種光學(xué)膜，其中由化學(xué)式2、3或4表示的所述化合物選自下面的化學(xué)式，

6.如權(quán)利要求1所述的一種光學(xué)膜，其中，其中Re(λ)和Rth(λ)滿足下式(I)和(II)，

(I)0≤Re(587)≤10

(II)-10≤Rth(587)≤10

在式中，Re(λ)表示波長λnm下的面內(nèi)相位差(單位：nm)，Rth(λ)表示波長λnm下的厚度方向相位差(單位：nm)。