[發明專利]新型芴類肟酯化合物，及含有該芴類肟酯化合物的光聚合引發劑和光阻劑組合物

有效

• 申請號: 201380024274.8
• 申請日: 2013-05-03
• 公開（公告）號: CN104661997B
• 公開（公告）日: 2018-06-26
• 發明（設計）人: 辛承林;全根;申鐘一;樸壽烈;安慶龍;李相悟;文奉錫;吳泉林;崔兒娜;蘇仁永
• 申請（專利權）人: 韓國化學研究院;株式會社三養社
• 主分類號: C07C251/66
• 分類號: C07C251/66
• 代理公司: 北京遠大卓悅知識產權代理事務所(普通合伙) 11369
• 代理人: 史霞

提供了一種新型芴類肟酯化合物，及含有該芴類肟酯化合物的光聚合引發劑和光阻劑組合物。

技術領域

本發明涉及一種新型芴類肟酯化合物，以及含有該芴類肟酯化合物的光聚合引發劑和光阻劑的組合物。

背景技術

作為應用于光阻劑組合物的光聚合引發劑的現有示例，現已知多種類型。例如苯乙酮衍生物，二苯甲酮衍生物，三嗪衍生物，雙咪唑衍生物，酰基氧化膦衍生物，肟酯衍生物等。其中，肟酯衍生物的優勢在于吸收紫外光后它們幾乎無色，并且具有高水平的自由基(radical)生成效率，以及具有與光阻劑組合物的原材料的卓越的相容性和穩定性。然而，最初開發的肟衍生物的光引發效率低，并且在執行圖案曝光的時候，敏感性特別低。這樣需要增加曝光劑量，從而降低了生產率。

因此，通過具有卓越的光敏性的光聚合引發劑的發展，即使通過少量的光聚合引發劑，也能實現足夠的敏感性。這樣可以降低成本，且曝光劑量可以因為卓越的敏感性而降低，從而使提高生產率成為可能。

已知的是，多種可用于作為光阻劑組合物中光敏引發劑的肟酯衍生物，并且可以通過以下化學式2表示。

[化學式2]

在光敏引發劑含有肟酯基團的情況下，容易合成多種光敏引發劑，通過在此化合物的R，R’和R’處引入適當的取代基能夠調節光敏引發劑的吸收范圍。

通過在光阻劑組合物上照射波長為365～435nm的光，該肟酯化合物在聚合和硬化具有不飽和鍵的聚合物中可以提供優異的成績，于是該肟酯化合物的使用已經被延伸至黑底，濾色鏡，柱狀間隔物(column spacer)，撓性絕緣膜，用于涂層的光阻劑組物等等。

因此，一種新型的光敏引發劑能夠對波長介于365至435nm之間的光源或類似光源具有高敏感度。該新型光敏引發劑還具有卓越的光化聚合反應性，能夠輕易地制造，且由于高熱固性和存儲穩定性而能夠輕易地保存，并且滿足以下工業要求，例如，在溶劑(丙二醇一甲基醚乙酸酯(PGMEA))中有令人滿意的溶解度等等。因此適用于不斷被要求的各種目的。

最近，研究進入用于諸如液晶設備或有機發光二極管(OLED)等薄膜顯示器的光阻劑組合物。尤其是，研究進入包含高敏感性的光敏引發劑的光阻劑組合物。這種光阻劑組合物能夠通過堿性顯影劑溶液顯影，以形成圖案來作為諸如薄膜電晶體管液晶顯示器(TFT-LCD)，柱狀間隔物，紫外涂層，紅，綠，藍(RGB)彩色保護層，黑底等的液晶設備的有機絕緣膜。上述研究已經被基本實施。

通常，作為用以形成圖案抗蝕劑組合物，包含粘合劑樹脂的光阻劑組合物、具有烯屬不飽和鍵的多功能單體、和光敏引發劑已經被很好的應用。

然而，在使用現有的光敏引發劑形成圖案的實例中，在形成圖案的曝光過程中敏感性是低的，使得光敏引發劑或曝光劑的使用量需要增加。因此，這里存在些問題，在曝光過程中光掩膜可能被污染，產量可能由于光敏引發劑的通過熱耦合而分解所產生的副產物而降低。根據曝光劑量的增加，生產率可能是由于曝光過程的時間增加而降低。從而，為了解決這些問題的努力已經被實施。

發明內容

技術問題

本發明的目的是提供一種新型芴類肟酯化合物，及含有該的芴類肟酯化合物的光聚合引發劑和光阻劑組合物，其能夠具有更高的敏感性，同時降低含有所述新型芴類肟酯化合物的光聚合引發劑的使用量。

技術方案

在一個總的方面，提供了一種通過以下化學式1所表示的化合物，及含有該化合物的光聚合引發劑和光阻劑組合物。

[化學式1]

在化學式1中，