[發(fā)明專利]表面連接的交聯(lián)的抗微生物和/或抗生物污垢的聚合物網(wǎng)絡(luò)的合成與微結(jié)構(gòu)/納米結(jié)構(gòu)形成

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201380024223.5
• 申請(qǐng)日: 2013-03-08
• 公開（公告）號(hào): CN104350081B
• 公開（公告）日: 2017-02-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: K·林坎普;J·貝拉爾迪;P·鄒;A·阿爾-阿麥德;T·斯坦伯格;P·托馬基迪
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 弗賴堡大學(xué)醫(yī)院;阿爾布萊希特-路德維希-弗萊堡大學(xué)
• 主分類號(hào): C08G61/12
• 分類號(hào): C08G61/12;C08G61/08;C09D5/14;A61L2/00
• 代理公司: 北京市中咨律師事務(wù)所11247
• 代理人: 胡晨曦,黃革生

1.用于制備底物的方法，所述底物包含共價(jià)連接到底物表面的抗微生物和/或抗生物污垢聚合物的交聯(lián)網(wǎng)絡(luò)，所述方法包括以下步驟：

a)任選地預(yù)處理底物表面以包含氧化物或氫氧化物基團(tuán)，所述的底物表面優(yōu)選地選自無(wú)機(jī)表面、有機(jī)表面或聚合物表面，植入物、醫(yī)療或手術(shù)裝置或工具的表面，包括墊片、管子、水管、管道、給水管、瓶和瓶嵌體的表面，醫(yī)療設(shè)備的嵌體或表面，繃帶或書皮、鍵盤、計(jì)算機(jī)鍵盤、計(jì)算機(jī)、便攜機(jī)、顯示屏、顯示屏罩、燈、工具和設(shè)備的柄的表面，適合于組織支持的生物材料的表面，用于儲(chǔ)存細(xì)胞、組織或器官的表面，或者用于儲(chǔ)存食物的表面；

b)任選地通過(guò)將反應(yīng)性的硅烷化合物共價(jià)連接到步驟a)所得到的預(yù)處理表面，從而使預(yù)處理表面官能化；

c)將光敏交聯(lián)劑共價(jià)連接到步驟b)所得的底物的預(yù)處理表面；

d)將步驟c)所得的底物表面用包含一種或多種(被保護(hù)的)抗微生物或抗生物污垢聚合物和多官能團(tuán)交聯(lián)劑的混合物涂層，所述抗微生物或抗生物污垢聚合物具有大于30,000g?mol^-1的分子量并且包含作為重復(fù)單元的式(Ia)、(Ib)、(Ic)、(Id)和/或(Ie)、或式(IIa)、(IIb)、(IIc)、(IId)和/或(IIe)中任意式的結(jié)構(gòu):

其中

(i)式(Ia)、(Ib)、(Ic)、(Id)和/或(Ie)選自：

其中

A各自獨(dú)立地選自O(shè)、S或NH中任何一個(gè)；

R是選自(CH₂)_pN⁺(R₆)₃

其中：

R₆是選自H或者是優(yōu)選獨(dú)立的不帶電的疏水或親水基團(tuán)；且

p是選自約1至約10范圍內(nèi)的整數(shù)；

R₁是親水基團(tuán)，帶有正電荷；

R₂是疏水基團(tuán)；

X是選自CH₂、CH₂CH₂、O、S、N-R₃、P-R₃或C＝C(R₄R₅)中任一；

其中

R₃、R₄和/或R₅各自獨(dú)立地選自H或者疏水或親水基團(tuán)；

n是選自約10至約2500范圍內(nèi)的整數(shù)；

m是選自約0至約20范圍內(nèi)的整數(shù)；且

其中每個(gè)以其脫保護(hù)形式的式(Ia)、(Ib)、(Ic)、(Id)和/或(Ie)中任一式的重復(fù)單元的全部正和負(fù)電荷的凈電荷>0；

(ii)式(IIa)、(IIb)、(IIc)、(IId)和/或(IIe)選自：

其中

A各自獨(dú)立地選自任何下述基團(tuán)：O、S或NH；

W選自任何下述基團(tuán)：(CH₂)_qN⁺(R₁₁R₁₂R₁₃)或(CH₂)_qO-PO₂^--(CH₂)_rN⁺(R₁₄R₁₅R₁₆)，

其中

R₁₁、R₁₂各自獨(dú)立地是不帶電的疏水或親水基團(tuán)，且

R₁₃是選自任何下述基團(tuán)：(CH₂)_rCO₂^-、(CH₂)_rSO₃^-、(CH₂)_r-O-SO₃^-、(CH₂)_r-O-PO₃^-、(CH₂)_rPO₃^-，

R₁₄、R₁₅、R₁₆各自獨(dú)立地是H或疏水或親水基團(tuán)，

q、r是整數(shù)，其各自獨(dú)立地選自約1至約10；

X是選自任何下述基團(tuán)：CH₂；CH₂CH₂；O；S；N-R₉；N-R₁₀；N-W；P-R₉；P-R₁₀；P-W；N⁺(R₉R₉)；N⁺(R₉R₁₀)；N⁺(R₉W)；N⁺(R₁₀W)；N⁺(R₁₀R₁₀)；N⁺(WW)；C＝CH₂；C＝C(R₉R₉)；C＝C(R₉R₁₀)、C＝C(R₉W)；C＝C(R₁₀W)、C＝C(R₁₀R₁₀)、C＝C(WW)，

其中：

R₉優(yōu)選的各自獨(dú)立地選自疏水或親水基團(tuán)，

R₁₀各自獨(dú)立地選自任何下述基團(tuán)：(CH₂)_rCO₂^-、(CH₂)_rSO₃^-、(CH₂)_r-O-SO₃^-、(CH₂)_r-O-PO₃^-、(CH₂)_rPO₃^-；且

r是選自約1至約10的整數(shù)；

Y是選自W或任何親水或疏水基團(tuán)

Z是選自W或任何親水或疏水基團(tuán)

n是選自約10到約2500的整數(shù)；

m是選自約0至約20的整數(shù)；且

其中每個(gè)以其脫保護(hù)形式的式(IIa)、(IIb)、(IIc)、(IId)和/或(IIe)的任一式的重復(fù)單元的全部正電荷和負(fù)電荷的凈電荷為0。

e)對(duì)用步驟d)的混合物涂層的底物表面照射，優(yōu)選使用紫外光照射，從而形成(被保護(hù)的)抗微生物或抗生物污垢聚合物的交聯(lián)網(wǎng)絡(luò)和同時(shí)將交聯(lián)網(wǎng)絡(luò)的(被保護(hù)的)抗微生物或抗生物污垢聚合物共價(jià)連接到光敏交聯(lián)劑的光敏基團(tuán)；

f)任選地重復(fù)步驟d)和e)至少一次；

g)任選地通過(guò)水解或熱處理脫保護(hù)和/或進(jìn)行洗滌步驟，對(duì)步驟e)所得到的抗微生物或抗生物污垢聚合物的共價(jià)連接的和交聯(lián)的網(wǎng)絡(luò)進(jìn)行照射后處理。