[發(fā)明專利]顯示裝置、制造方法和電子設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201380024040.3 | 申請日： | 2013-05-08 |
| 公開（公告）號： | CN104272372A | 公開（公告）日： | 2015-01-07 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 島山努 | 申請（專利權(quán)）人： | 索尼公司 |
| 主分類號： | G09F9/30 | 分類號： | G09F9/30;G09G3/20;G09G3/30;H01L21/336;H01L27/32;H01L29/786;H01L51/50 |
| 代理公司： | 北京信慧永光知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11290 | 代理人： | 陳桂香;曹正建 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 顯示裝置 制造 方法 電子設(shè)備 | ||
1.一種顯示裝置，其包括：
像素陣列部，在所述像素陣列部中以矩陣狀布置有多個像素，
其中預(yù)定量的發(fā)光變化被添加到各所述像素的發(fā)光狀態(tài)中，并且在所述添加的情況下所述像素陣列部的發(fā)光狀態(tài)的周期比在所述預(yù)定量的發(fā)光變化被添加之前所述像素陣列部的發(fā)光狀態(tài)的周期短。
2.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其中所述發(fā)光變化的所述添加是通過調(diào)節(jié)驅(qū)動晶體管的漏極源極間電流來完成的。
3.如權(quán)利要求2所述的顯示裝置，其中所述驅(qū)動晶體管的所述漏極源極間電流的所述調(diào)節(jié)是通過改變溝道寬度來完成的。
4.如權(quán)利要求2所述的顯示裝置，其中所述驅(qū)動晶體管的所述漏極源極間電流的所述調(diào)節(jié)是通過調(diào)節(jié)所述驅(qū)動晶體管的制造工藝中的準(zhǔn)分子激光的輻射能量來完成的。
5.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其中所述發(fā)光變化的所述添加是通過調(diào)節(jié)像素寬度來完成的。
6.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其中所述發(fā)光變化的所述添加是通過調(diào)節(jié)彩色濾光片的透過率來完成的。
7.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其中所述發(fā)光變化的所述添加是通過調(diào)節(jié)信號線電壓來完成的。
8.一種顯示裝置制造方法，所述顯示裝置包括像素陣列部，在所述像素陣列部中以矩陣狀布置有多個像素，
所述制造方法包括如下的步驟：將預(yù)定量的發(fā)光變化添加到各所述像素的發(fā)光狀態(tài)中，并且將在所述添加的情況下所述像素陣列部的發(fā)光狀態(tài)的周期設(shè)定為比在所述預(yù)定量的發(fā)光變化被添加之前所述像素陣列部的發(fā)光狀態(tài)的周期短。
9.一種電子設(shè)備，其包括顯示裝置，其中
所述顯示裝置包括像素陣列部，在所述像素陣列部中以矩陣狀布置有多個像素，并且
預(yù)定量的發(fā)光變化被添加到各所述像素的發(fā)光狀態(tài)中，并且在所述添加的情況下所述像素陣列部的發(fā)光狀態(tài)的周期比在所述預(yù)定量的發(fā)光變化被添加之前所述像素陣列部的發(fā)光狀態(tài)的周期短。
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