[發(fā)明專利]印刷式化學(xué)機(jī)械研磨墊有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201380023299.6 | 申請(qǐng)日: | 2013-04-05 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104285281B | 公開(kāi)(公告)日: | 2017-06-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | R·巴賈杰;B·L·欽;T·Y·李 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 應(yīng)用材料公司 |
| 主分類號(hào): | B24B37/26 | 分類號(hào): | B24B37/26;B24D18/00;B33Y80/00 |
| 代理公司: | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司31100 | 代理人: | 徐偉 |
| 地址: | 美國(guó)加利*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 印刷 化學(xué) 機(jī)械 研磨 | ||
1.一種制造研磨墊的研磨層的方法,所述方法包括以下步驟:
使用3D液滴噴出式印刷機(jī)相繼地沉積多個(gè)層以形成所述研磨層,藉由從所述液滴噴出式印刷機(jī)的噴嘴噴出墊材料前驅(qū)物的液滴、且固化所述墊材料前驅(qū)物以形成固化的墊材料的方式來(lái)沉積所述多個(gè)研磨層的每一層,其中固化所述墊材料前驅(qū)物的步驟包括硬化所述墊材料前驅(qū)物,且其中藉由所述噴嘴將所述墊材料前驅(qū)物的液滴噴射在支座上來(lái)沉積第一層以及藉由所述噴嘴將所述墊材料前驅(qū)物的液滴噴射在已固化的墊材料上來(lái)沉積每一后續(xù)沉積層。
2.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述多個(gè)層的每一層的厚度小于所述研磨層的總厚度的50%。
3.如權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,所述多個(gè)層的每一層的厚度小于所述研磨層的總厚度的1%。
4.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,包括藉由在計(jì)算機(jī)上執(zhí)行的3D繪圖程序控制所述墊材料前驅(qū)物的射出以在所述多個(gè)層的至少一些層中形成圖案的方式來(lái)在所述研磨層中形成凹槽。
5.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,硬化所述墊材料前驅(qū)物的步驟包括紫外線(UV)硬化。
6.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述墊材料前驅(qū)物包括胺甲酸乙酯單體。
7.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,包括通過(guò)使用所述3D印刷機(jī)相繼地沉積多個(gè)層以形成所述研磨墊的背托層。
8.如權(quán)利要求7所述的方法,其特征在于,形成所述背托層的步驟包括硬化所述背托層的所述多個(gè)層,且用于硬化所述背托層的所述多個(gè)層的硬化量與硬化所述研磨層的所述多個(gè)層的硬化量不同以提供不同的硬度。
9.如權(quán)利要求8所述的方法,其特征在于,使用與所述研磨層相同的前驅(qū)物和相同的孔隙度形成所述背托層。
10.如權(quán)利要求7所述的方法,其特征在于,形成所述背托層的步驟包括噴出與所述墊前驅(qū)物材料不同的材料。
11.一種制造研磨墊的研磨層的設(shè)備,包括:
支座,用于支持所述研磨層;
3D液滴噴出式印刷機(jī),配置成相繼地沉積多個(gè)層以形成所述研磨層,所述3D液滴噴出式印刷機(jī)包括噴嘴并且配置成藉由從所述噴嘴噴出墊材料前驅(qū)物的液滴、且固化所述墊材料前驅(qū)物以形成固化的墊材料的方式來(lái)沉積所述多個(gè)層的每一層,其中藉由所述噴嘴將所述墊材料前驅(qū)物的液滴噴射在支座上來(lái)沉積第一層以及藉由所述噴嘴將所述墊材料前驅(qū)物的液滴噴射在已固化的墊材料上來(lái)沉積每一后續(xù)沉積層;以及
UV輻射,用于硬化所述墊材料前驅(qū)物以固化所述墊材料前驅(qū)物。
12.如權(quán)利要求11所述的設(shè)備,其特征在于,所述多個(gè)層的每一層的厚度小于所述研磨層的總厚度的50%。
13.如權(quán)利要求12所述的設(shè)備,其特征在于,所述多個(gè)層的每一層的厚度小于所述研磨層的總厚度的1%。
14.如權(quán)利要求11所述的設(shè)備,其特征在于,包括具有3D繪圖程序的計(jì)算機(jī),所述3D繪圖程序配置成控制所述3D印刷機(jī)藉由控制所述墊材料前驅(qū)物的射出以在所述多個(gè)層的至少一些層中形成圖案的方式來(lái)在所述研磨層中形成凹槽。
15.如權(quán)利要求11所述的設(shè)備,其特征在于,所述噴嘴配置成平移而橫越所述支座。
16.如權(quán)利要求11所述的設(shè)備,其特征在于,所述墊材料前驅(qū)物包括胺甲酸乙酯單體。
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