[發明專利]粘晶裝置以及利用粘晶裝置的半導體晶粒的破損檢測方法有效
| 申請號: | 201380023188.5 | 申請日: | 2013-08-19 |
| 公開(公告)號: | CN104937702B | 公開(公告)日: | 2017-09-29 |
| 發明(設計)人: | 豊川雄也 | 申請(專利權)人: | 株式會社新川 |
| 主分類號: | H01L21/52 | 分類號: | H01L21/52;H01L21/60 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識產權代理有限公司11205 | 代理人: | 張洋 |
| 地址: | 日本東京武藏村*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 裝置 以及 利用 半導體 晶粒 破損 檢測 方法 | ||
1.一種利用粘晶裝置的半導體晶粒的破損檢測方法,包括:
圖像獲取步驟,對整體圖像進行攝像,所述整體圖像包括吸附所述半導體晶粒的夾頭的吸附面圖像及吸附于所述夾頭的所述半導體晶粒的圖像;
圖像區域劃定步驟,基于所述夾頭的吸附面圖像與所述半導體晶粒的圖像的明度差、及所述半導體晶粒的基準圖像,來劃定所述整體圖像中的所述半導體晶粒的圖像區域;以及
半導體晶粒的破損檢測步驟,對藉由所述圖像區域劃定步驟而劃定的所述圖像區域內進行掃描,在掃描方向上的明度的變化比例為規定的臨限值以上的情況下,判斷為所述半導體晶粒的破損,所述破損檢測步驟將藉由所述圖像區域劃定步驟而劃定的所述半導體晶粒的所述圖像區域的除周圍外的內側部分設定為檢查區域,并對所述檢查區域內進行掃描。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





