[發明專利]用于對襯底進行表面處理的裝置和方法和用于制造光電子構件的方法在審
| 申請號: | 201380022535.2 | 申請日: | 2013-04-26 |
| 公開(公告)號: | CN104271798A | 公開(公告)日: | 2015-01-07 |
| 發明(設計)人: | 于爾根·鮑爾;弗蘭克·福爾克梅爾;格哈德·德爾;克勞斯-迪特爾·鮑爾;菲利普·艾哈德 | 申請(專利權)人: | 歐司朗有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/455 | 分類號: | C23C16/455;C23C16/54;H01L21/02 |
| 代理公司: | 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240 | 代理人: | 余剛;李慧 |
| 地址: | 德國*** | 國省代碼: | 德國;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 襯底 進行 表面 處理 裝置 方法 制造 光電子 構件 | ||
1.一種用于對襯底(30)進行表面處理的裝置,所述裝置具有能圍繞旋轉軸線(58)轉動安裝的工藝頭部(22),所述工藝頭部具有多個排氣口(50),所述排氣口至少部分地構造在所述工藝頭部(22)的徑向的外邊緣上。
2.根據權利要求1所述的裝置,其中所述排氣口(50)構造且布置成,使得在運行時,過程氣體如下地離開所述排氣口(50)中的至少一個,以至于所述過程氣體至少部分地在具有徑向定向的方向分量的方向上流動遠離所述工藝頭部。說明:直接或間接地經由在工藝頭部處的偏轉。
3.根據前述權利要求中任一項所述的裝置,其中,所述工藝頭部(22)構造成柱形的并且具有軸線和外周面,其中所述軸線位于所述旋轉軸線(58)上,并且其中,布置在所述外邊緣處的所述排氣口(50)構造在所述外周面上。
4.根據前述權利要求中任一項所述的裝置,其中,在所述工藝頭部(22)的徑向的所述外邊緣處構造至少一個進氣口(51)。
5.根據前述權利要求中任一項所述的裝置,其中,至少一個所述排氣口(50)和/或至少一個布置在徑向的所述外邊緣處的所述進氣口(51)構造成狹槽形和/或圓形。
6.根據前述權利要求中任一項所述的裝置,其中,所述工藝頭部(22)具有
用于向第一工藝室(100)輸送第一反應氣體的第一排氣口(50a),
用于向第二工藝室(110)輸送第二反應氣體的第二排氣口(50b),
用于向另一個工藝室(134)輸送吹洗氣體的另一個的排氣口(50e)。
7.根據前述權利要求中任一項所述的裝置,所述裝置具有殼體(24),在所述殼體中能轉動地安裝有所述工藝頭部(22),并且所述殼體具有用于輸送所述襯底(30)的輸送開口(78)和用于導出所述襯底(30)的導出開口(76)。
8.根據權利要求7所述的裝置,所述裝置具有加熱設備(74),所述加熱設備加熱所述殼體(24)的內部空間。
9.根據權利要求7或8中任一項所述的裝置,所述裝置具有用于從所述殼體(24)中抽吸出氣體的殼體抽吸系統(72)。
10.根據權利要求7至9中任一項所述的裝置,其中,所述殼體(24)具有用于將吹洗氣體輸送到所述殼體(24)中的殼體吹洗氣體輸送系統(70)。
11.根據前述權利要求中任一項所述的裝置,所述裝置具有進給設備,所述進給設備用于朝向所述工藝頭部(22)進給所述襯底(30)和用于繼續引導所述襯底(30)遠離所述工藝頭部(22)。
12.根據前述權利要求中任一項所述的裝置,所述裝置為了預設所述襯底(30)和所述工藝頭部(22)之間的間距而具有兩個或多個間隔件(140)。
13.根據權利要求12所述的裝置,其中,所述間隔件(140)具有至少兩個接片(102,104),所述接片布置在所述工藝頭部(22)的軸向外邊緣中。
14.根據前述權利要求中任一項所述的裝置,所述裝置在所述裝置的徑向的所述外邊緣處具有多個橫壁(131),所述橫壁在徑向方向上從徑向的所述外邊緣中突起,并且所述橫壁在具有沿軸向方向的方向分量的方向上延伸。
15.根據前述權利要求中任一項所述的裝置,其中,在所述工藝頭部(22)中構造與徑向的所述外邊緣間隔開的通道(52,53,54,55,56,57),所述通道用于:將所述排氣口(50)和所述進氣口(51)與相應的氣體穿引部連接。
16.根據前述權利要求中任一項所述的裝置,所述裝置具有用于旋轉所述工藝頭部(22)的驅動單元(90)。
17.根據前述權利要求中任一項所述的裝置,所述裝置具有多個串聯布置的工藝頭部(22)。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





