[發明專利]一種密封圈

有效

• 申請號: 201310705306.2
• 申請日: 2013-12-19
• 公開（公告）號: CN103682187A
• 公開（公告）日: 2014-03-26
• 發明（設計）人: 楊輝;汪保國;李雪梅;張海峰;邢新峰
• 申請（專利權）人: 中國科學院上海高等研究院
• 主分類號: H01M2/08
• 分類號: H01M2/08
• 代理公司: 上海光華專利事務所 31219
• 代理人: 李儀萍

技術領域

本發明涉及流體密封技術領域，特別是用于液流電池的密封圈。

背景技術

密封對液流電池來說相當重要，是保障液流電池系統安全運行的基本條件，若系統出現漏液現象或者密封安全系數低，則會直接影響系統的使用效率，進而造成不必要的經濟損失。傳統技術設計的密封圈，都要求其密封面不能出現漏點，如圖1所示，當密封面1出現漏點3，或者密封面5出現漏點4時，密封圈2就無法密封。但在實際生產過程中，密封面經常會出現一些漏點，特別是液流電池的液流框，因為液流框都是用工程塑料制成的，由于塑料薄板在內應力的作用下會自然翹曲，其塑料薄板的表面會變得起伏不平，在塑料薄板表面加工密封圈槽時，其密封圈槽的深度經常會出現深淺不一的情況，在密封圈槽的最深處往往會形成一個個漏點。由于種種原因塑料薄板在成型過程中會產生一些凹坑，如果這些凹坑出現在密封面上就形成了漏點。我們在搬運、儲存、加工塑料薄板過程中，其塑料薄板的表面很容易被劃傷、碰傷，這些傷痕都有可能成為密封面上的漏點。總之引起密封面表面出現漏點的因素很多，這會讓人防不勝防。如果要人為消除這些漏點，不僅費工、費料、費時，而且其密封的可靠性仍然不高。因此，傳統設計的密封圈已無法滿足液流電池對密封可靠性的要求。

發明內容

鑒于以上所述現有技術的缺點，本發明的目的在于提供一種密封圈，用于解決現有密封圈所帶來的缺點和不足，提供一種可防密封面漏點的密封圈。

為實現上述目的及其他相關目的，本發明采用如下技術方案，一種密封圈，所述密封圈內設有若干密封艙室結構。

優選地，所述密封艙室結構容納密封圈在20～40%壓縮率的情況下的變形。

優選地，所述密封艙室結構為雙層密封艙室結構。

優選地，所述雙層密封艙室結構之間由H形墻板結構和矩形墻結構交替組成。

優選地，所述每一密封艙室結構的橫截面為圓形、跑道圓、正方形、矩形、三角形、多邊

形和扇形中的一種。

優選地，所述每層密封艙室結構為雙排艙室。

優選地，所述雙排艙室對稱設置或交錯設置。

本發明可防密封面漏點的密封圈，其設置上下兩層，上層與下層都設置形狀、數量、大小都相等的密封艙室，密封圈的橫截面的幾何形狀由H型和矩形墻板組成，其密封面由數條幾何邊呈封閉形狀，并要求密封艙室能夠容納高壓縮率的幾何變形，通過本發明，當密封面上出現諸多漏點時，密封圈仍具有良好密封性能。

附圖說明

圖1顯示為傳統橡膠密封圈結構示意圖。

圖2a-2c顯示為本發明密封圈結構示意圖。

圖3顯示為本發明防深度漏點的效果圖。

圖4顯示為無限淺漏點示意圖。

圖5顯示為本發明在檢漏裝置的安裝圖。

圖6顯示為檢漏裝置密封面刻有限深漏點的意圖。

圖7顯示為檢漏裝置密封面刻有無限淺漏點示意圖。

圖8顯示為液流框密封圈安裝示意圖。

圖9a-9c顯示為艙室橫截面為圓形的密封面結構示意圖。

圖10a-10c顯示為艙室橫截面為跑道形的密封面結構示意圖。

圖11a-11c顯示為艙室橫截面為方形的密封面結構示意圖。

圖12a-12c顯示為艙室橫截面為矩形的密封面結構示意圖。

圖13a-13c顯示為艙室橫截面為三角形的密封面結構示意圖。

圖14a-14b顯示為艙室橫截面為蜂窩狀的密封面結構示意圖。

元件標號說明

上密封面???????????????1?????密封圈橫截面??????2

上密封面漏點???????????3?????下密封面漏點??????4

下密封面???????????????5?????H形承力墻板???????6

下層密封艙室???????????7?????外承力墻板????????8

隔層???????????????????9?????內承力墻板????????10

上密封面???????????????11????上層密封艙室?????12

矩形承力墻板???????????13????下密封面?????????14、15

密封圈橫截面???????????16????上密封面?????????17

深漏點?????????????????18????檢漏裝置螺栓孔???19