[發(fā)明專利]駐極體性微粒及其制造方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201380021131.1 | 申請(qǐng)日: | 2013-03-21 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104246595A | 公開(公告)日: | 2014-12-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 清江龍一;井上浩 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社櫻花彩色筆 |
| 主分類號(hào): | G02F1/167 | 分類號(hào): | G02F1/167;C08J3/12;C08J3/28;G02F1/17 |
| 代理公司: | 北京匯思誠(chéng)業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11444 | 代理人: | 龔敏;王剛 |
| 地址: | 日本大阪府大阪市*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 體性 微粒 及其 制造 方法 | ||
1.一種駐極體性微粒,其特征在于,
所述駐極體性微粒至少表面部分含有駐極體性樹脂和高分子分散劑,
所述駐極體性樹脂為含氟樹脂,并且由電子束照射、放射線照射或者電暈放電而被駐極體化。
2.如權(quán)利要求1所述的駐極體性微粒,其特征在于,
所述駐極體性微粒為具有核體部分和殼體部分的核殼型駐極體性微粒,
所述核體部分含有可分散顏料的材料,
所述殼體部分含有駐極體性樹脂和高分子分散劑,
所述駐極體性樹脂為含氟樹脂,并且由電子束照射、放射線照射或者電暈放電而被駐極體化。
3.如權(quán)利要求1或2所述的駐極體性微粒,其特征在于,
所述駐極體性樹脂為氟取代率在10%以上的含氟樹脂。
4.如權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)中所述的駐極體性微粒,其特征在于,
所述駐極體性樹脂為偏氟乙烯-六氟丙烯-四氟乙烯三元共聚物。
5.如權(quán)利要求2~4中任一項(xiàng)中所述的駐極體性微粒,其特征在于,
所述可分散顏料的材料為樹脂。
6.如權(quán)利要求1~5中任一項(xiàng)中所述的駐極體性微粒,其特征在于,
所述駐極體性微粒的平均粒徑在1000μm以下。
7.如權(quán)利要求1所述的駐極體性微粒,其特征在于,
所述駐極體性微粒為具有核體部分和殼體部分的核殼型駐極體性微粒,
所述核體部分含有可分散顏料的樹脂和平均粒徑為0.02~0.2μm的顏料,
所述殼體部分含有駐極體性樹脂和高分子分散劑,
所述駐極體性樹脂為偏氟乙烯-六氟丙烯-四氟乙烯三元共聚物,并且由電子束照射、放射線照射或者電暈放電而被駐極體化,
所述駐極體性微粒的平均粒徑為1000μm以下。
8.一種駐極體性微粒的制造方法,其特征在于,
在形成至少表面部分含有駐極體性樹脂和高分子分散劑的微粒后,對(duì)所述微粒進(jìn)行電子束照射、放射線照射或者電暈放電。
9.如權(quán)利要求8所述的制造方法,其特征在于,
使所述微粒分散于電泳介質(zhì),進(jìn)行電子束照射、放射線照射或者電暈放電。
10.如權(quán)利要求8所述的制造方法,其特征在于,所述制造方法為核殼型駐極體性微粒的制造方法,
在形成包含核體部分和殼體部分的核殼結(jié)構(gòu)體后,對(duì)所述核殼結(jié)構(gòu)體進(jìn)行電子束照射、放射線照射或者電暈放電;
所述核體部分含有可分散顏料的材料,
所述殼體部分含有高分子分散劑和作為駐極體性樹脂的含氟樹脂。
11.如權(quán)利要求10中所述的制造方法,其特征在于,
使所述核殼體構(gòu)分散于電泳介質(zhì),進(jìn)行電子束照射、放射線照射或者電暈放電。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于株式會(huì)社櫻花彩色筆,未經(jīng)株式會(huì)社櫻花彩色筆許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201380021131.1/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種二氧化碳含量監(jiān)測(cè)模塊
- 下一篇:接合高分子薄膜與高分子薄膜的方法、接合高分子薄膜與無(wú)機(jī)材料基板的方法、高分子薄膜層疊體及高分子薄膜與無(wú)機(jī)材料基板的層疊體
- 同類專利
- 專利分類
G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
- 氫燃料制造系統(tǒng)、氫燃料制造方法以及氫燃料制造程序
- 單元控制系統(tǒng)、生產(chǎn)系統(tǒng)以及控制方法
- 制造裝置及制造方法以及制造系統(tǒng)
- 一種三相異步電動(dòng)機(jī)制造工藝方法
- 制造設(shè)備、制造裝置和制造方法
- 用于監(jiān)測(cè)光學(xué)鏡片制造過(guò)程的方法
- 產(chǎn)品的制造系統(tǒng)、惡意軟件檢測(cè)系統(tǒng)、產(chǎn)品的制造方法以及惡意軟件檢測(cè)方法
- 一種面向制造服務(wù)的制造能力評(píng)估方法
- 一種基于云制造資源的制造能力建模方法
- 制造設(shè)備系統(tǒng)、制造設(shè)備以及制造方法





