[發(fā)明專利]偏光薄膜、圖像顯示裝置、以及偏光薄膜的制造方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380020727.X
• 申請日: 2013-03-22
• 公開（公告）號: CN104246553A
• 公開（公告）日: 2014-12-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 中西貞裕;黑木美由紀(jì)
• 申請（專利權(quán)）人: 日東電工株式會社
• 主分類號: G02B5/30
• 分類號: G02B5/30;G02F1/1335
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;李茂家

1.一種偏光薄膜，其包含下述通式(1)表示的雙偶氮化合物，

Q表示取代或者未取代的苯基、或具有雜環(huán)的取代或者未取代的苯基，所述苯基的不相鄰的碳原子可以被氮原子取代，R¹表示烷基，R²表示氫、乙酰基、或取代或者未取代的苯甲酰基，n表示1或2，M表示抗衡離子。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏光薄膜，其中，所述Q為下述通式(2)表示的苯基，

X表示碳數(shù)1～6的烷基、碳數(shù)1～6的烷氧基、碳數(shù)1～6的硫代烷基、碳數(shù)1～6的羥烷基、碳數(shù)1～6的烷基氨基、碳數(shù)1～6的羧酸酰胺基、鹵代基、硝基、氰基、氨基、乙酰胺基、羧酸基、羥基、或-CONH₂基，下標(biāo)x表示所述X的取代數(shù)即0～5的整數(shù)，所述x為2以上時，所述X分別相同或不同。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏光薄膜，其中，所述通式(2)的X為硝基或-CONH₂基，所述通式(2)的x為1。

4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的偏光薄膜，其中，所述通式(1)的R¹為碳數(shù)1～6的烷基，所述通式(1)的R²為氫或乙酰基。

5.一種圖像顯示裝置，其具備權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的偏光薄膜。

6.一種偏光薄膜的制造方法，其具有將包含下述通式(1)表示的雙偶氮化合物和溶劑的涂布液涂覆在基材上的工序，

Q表示取代或者未取代的苯基、或具有雜環(huán)的取代或者未取代的苯基，所述苯基的不相鄰的碳原子可以被氮原子取代，R¹表示烷基，R²表示氫、乙酰基、或取代或者未取代的苯甲酰基，n表示1或2，M表示抗衡離子。