[發(fā)明專利]用于在還原反應(yīng)器井筒中進行表面吹氣的裝置和方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380020715.7
• 申請日: 2013-04-18
• 公開（公告）號: CN104245964A
• 公開（公告）日: 2014-12-24
• 發(fā)明（設(shè)計）人: G.艾興格爾;K-H.貝哈姆;R.普姆;W.施特雷爾;K.韋德;J.武爾姆
• 申請（專利權(quán)）人: 西門子VAI金屬科技有限責任公司
• 主分類號: C21B13/02
• 分類號: C21B13/02;F27B15/00;F27B15/10
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 梁冰;宣力偉

1.?用于由含金屬氧化物的、塊狀的物料在使用還原氣體的情況下生產(chǎn)海綿金屬或者生鐵的裝置，包括

-一還原反應(yīng)器井筒（1）；

-多條在所述還原反應(yīng)器井筒（1）內(nèi)室中終止的、用于將還原氣體導(dǎo)入到所述還原反應(yīng)器井筒（1）的內(nèi)室中的還原氣體入口管路；

其特征在于，存在著一橫穿所述還原反應(yīng)器井筒（1）內(nèi)室的、用于將還原氣體分布到所述還原反應(yīng)器井筒（1）的內(nèi)室中的還原氣體通道本體（11），

其中

-在所述還原氣體通道本體（11）的、至少一個內(nèi)壁側(cè)的端部上基本上垂直地在所述還原氣體通道本體（11）的下方存在著至少一條用于將還原氣體在所述還原氣體通道本體的下方輸入到所述還原反應(yīng)器井筒（1）的內(nèi)室中的還原氣體供給管路，并且

-所述還原氣體通道本體（11）具有一能夠被冷卻介質(zhì)貫穿流過的支承管。

2.?按權(quán)利要求1所述的裝置，其持征在于，所述還原氣體入口管路的、處于還原反應(yīng)器井筒（1）的內(nèi)室中的還原氣體出口全部處于所述還原反應(yīng)器井筒（1）的垂直的縱向伸長部的區(qū)段的內(nèi)部，該區(qū)段垂直地看具有所述還原反應(yīng)器井筒（1）的直徑的高達100%的厚度。

3.?按權(quán)利要求1到2中任一項所述的裝置，其持征在于，由同樣的內(nèi)部的和/或外部的環(huán)管來向用于在還原氣體通道本體的下方輸入還原氣體的所述還原氣體供給管路以及至少一些、優(yōu)選全部還原氣體入口管路供給還原氣體。

4.?按權(quán)利要求1到3中任一項所述的裝置，其持征在于，所述還原氣體通道本體（11）至少部分地處于所述還原反應(yīng)器井筒（1）的垂直的縱向伸長部的下述區(qū)段的內(nèi)部：該區(qū)段垂直地看具有所述還原反應(yīng)器井筒（1）的直徑的高達100%的、優(yōu)選高達40%的、特別優(yōu)選高達30%的、尤其優(yōu)選高達20%的厚度，所述還原氣體入口管路的還原氣體出口處于其中。

5.?按權(quán)利要求1到4中任一項所述的裝置，其持征在于，內(nèi)部的或者外部的環(huán)管設(shè)有至少一個用于還原氣體的饋入口，通過所述饋入口來將還原氣體導(dǎo)送到所述內(nèi)部的或者外部的環(huán)管中，其特征在于，至少一個饋入口關(guān)于所述還原反應(yīng)器井筒（1）的周邊相對于所述還原氣體供給管路的位置在所述還原氣體通道本體（11）的內(nèi)壁側(cè)的端部的下方優(yōu)選相差45°-90°地、特別優(yōu)選基本上相差90°地偏置。

6.?按權(quán)利要求1到5中任一項所述的裝置，其持征在于，所述還原反應(yīng)器井筒（1）的、在其縱向伸長部的、在其中設(shè)有還原氣體通道本體（11）以及必要時懸置管（21）的區(qū)域中的內(nèi)直徑相對于其縱向伸長部的其它區(qū)域得到了加寬。

7.?用于由一種由含金屬氧化物的、塊狀的物料構(gòu)成的裝料在還原反應(yīng)器井筒中在使用還原氣體的情況下生產(chǎn)海綿金屬或者生鐵的方法，其中，

借助于多條在所述還原反應(yīng)器井筒的內(nèi)室中終止的還原氣體入口管路來將第一部分還原氣體導(dǎo)入到裝料中，

其特征在于，

借助于一橫穿所述還原反應(yīng)器井筒內(nèi)室的還原氣體通道本體來將第二部分還原氣體分布到所述裝料中，并且基本上垂直地在所述還原氣體通道本體的下方將所述第二部分還原氣體輸入到所述還原反應(yīng)器井筒的內(nèi)室中。

8.?按權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，由同樣的內(nèi)部的和/或外部的環(huán)管來提供所述第一部分和第二部分還原氣體。