[發(fā)明專利]CT探測器的散射輻射格柵

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380020541.4
• 申請日: 2013-04-16
• 公開（公告）號: CN104246905B
• 公開（公告）日: 2017-12-15
• 發(fā)明（設計）人: M.艾興澤;A.弗羅因德;S.沃思
• 申請（專利權）人: 西門子公司
• 主分類號: G21K1/02
• 分類號: G21K1/02
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所11105
• 代理人: 謝強

1.一種具有多個探測器元件的CT探測器的散射輻射格柵(G)，所述探測器元件被多行地布置在CT系統(tǒng)(1)的方向和z方向上，具有多個與所述探測器元件相適應地布置的自由通路通道(K)，并且所述自由通路通道(K)在其縱向面被壁(W)完全包圍，其特征在于，通過應用三維篩網印刷方法制造散射輻射格柵(G)的壁(W)，其中基于兩步驟的三維篩網印刷方法能夠使尚未最終固化的坯體在篩網印刷之后最終固化之前經受額外的整形，其中，在第一步驟中通過多次篩網印刷形成相對穩(wěn)定但未最終固化的坯體，該坯體在第二步驟中才獲得最終強度，其中方向是機架的旋轉方向并且z方向是系統(tǒng)軸方向。

2.按照權利要求1所述的散射輻射格柵(G)，其特征在于，為了在三維篩網印刷方法期間構造壁(W)，使用由具有原子序數大于19的元素和粘合劑組成的懸掛。

3.按照權利要求1所述的散射輻射格柵(G)，其特征在于，為了在三維篩網印刷方法期間構造壁(W)，使用由金屬粉末和粘合劑組成的懸掛。

4.按照權利要求1至3中任一項所述的散射輻射格柵(G)，其特征在于，在三維篩網印刷方法期間，通過至少一次更換所使用的具有在篩網中逐漸改變的開口光柵的篩網，產生具有按照散射輻射格柵的高度改變的橫截面的通路通道(K)。

5.按照權利要求1至3中任一項所述的散射輻射格柵(G)，其特征在于，在三維篩網印刷方法期間，通過多次更換所使用的具有在篩網中逐漸變窄的開口光柵的篩網，產生棱錐式的通路通道(K)。

6.按照權利要求1至3中任一項所述的散射輻射格柵(G)，其特征在于，在三維篩網印刷方法期間，為了制造，通過至少一次更換所使用的篩網，形成棱錐式的通路通道(K)，其縱軸分別對齊到共同的焦點。

7.按照權利要求1至3中任一項所述的散射輻射格柵(G)，其特征在于，所述通路通道(K)和所述壁(W)在第一制造階段互相平行地對齊，并且在最終固化之前應用機械式整形，由此使得所述通路通道(K)對齊到共同的焦點。

8.按照權利要求7所述的散射輻射格柵(G)，其特征在于，為了機械 式整形，將原始的長方體形狀的散射輻射格柵壓制成圓臺式形狀。

9.按照權利要求7所述的散射輻射格柵(G)，其特征在于，為了機械式整形，將輻射入射側和/或輻射出射側壓到柱形或球形表面上。

10.按照權利要求1至3中任一項所述的散射輻射格柵(G)，其特征在于，所述通路通道(K)在散射輻射格柵的射線出射側的區(qū)域內被更窄地實施。

11.按照權利要求1至3中任一項所述的散射輻射格柵(G)，其特征在于，所述通路通道(K)沿著其縱軸對齊到焦點。

12.按照權利要求1所述的散射輻射格柵(G)，其特征在于，所述散射輻射格柵(G)由多個單個制造的格柵模塊(10)構成。

13.按照權利要求12所述的散射輻射格柵(G)，其特征在于，形成所述格柵模塊(10)的外側的格柵模塊的壁(W)比所述格柵模塊(10)的其余壁(W)更薄。

14.按照權利要求12所述的散射輻射格柵(G)，其特征在于，形成所述格柵模塊(10)的外側但不形成探測器的外側的格柵模塊(10)的壁(W)比所述格柵模塊(10)的其余壁(W)更薄。

15.按照權利要求12至14中任一項所述的散射輻射格柵(G)，其特征在于，所述格柵模塊(10)在其外壁(W)處被構造成，其相互形狀配合地彼此銜接。

16.按照權利要求12至14中任一項所述的散射輻射格柵(G)，其特征在于，所述格柵模塊(10)的壁(W)在射線出射側具有部分延長，其被用于對齊到探測器。

17.按照權利要求1至3中任一項所述的散射輻射格柵(G)，其特征在于，所述格柵的壁(W)或格柵模塊(10)逐級變細地構造。