[發(fā)明專利]試樣分析元件以及檢測(cè)裝置無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201380020394.0 | 申請(qǐng)日: | 2013-04-12 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104321639A | 公開(kāi)(公告)日: | 2015-01-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 杉本守;尼子淳;西田秀明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 精工愛(ài)普生株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G01N21/65 | 分類號(hào): | G01N21/65 |
| 代理公司: | 北京康信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240 | 代理人: | 余剛;吳孟秋 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 試樣 分析 元件 以及 檢測(cè) 裝置 | ||
1.一種試樣分析元件,其特征在于,
在電介質(zhì)表面具備多列金屬納米體列,所述金屬納米體列包含以小于入射光的波長(zhǎng)的第一節(jié)距排列成一列的多個(gè)金屬納米體,
所述多列金屬納米體列以大于所述第一節(jié)距的第二節(jié)距并排排列。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的試樣分析元件,其特征在于,
所述金屬納米體列彼此之間形成有不含金屬納米體的區(qū)域。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的試樣分析元件,其特征在于,
所述試樣分析元件具備:
金屬膜;以及
電介質(zhì),在所述金屬膜的表面擴(kuò)展并構(gòu)成所述電介質(zhì)表面。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的試樣分析元件,其特征在于,
所述第二節(jié)距的大小設(shè)定為,用于在比在所述金屬納米體生成的局域表面等離子體共振的共振波長(zhǎng)短的波長(zhǎng)確立反射率的1次極小值,并且在比局域表面等離子體共振的共振波長(zhǎng)長(zhǎng)的波長(zhǎng)確立比1次高的高次的極小值。
5.一種檢測(cè)裝置,其特征在于,
所述檢測(cè)裝置具備:
根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的試樣分析元件;
光源,向所述金屬納米體列發(fā)射光;以及
光檢測(cè)器,根據(jù)所述光的照射檢測(cè)從所述金屬納米體列發(fā)射的光。
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- 同類專利
- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
- 接收裝置以及接收方法、以及程序
- 凈水濾芯以及凈水裝置、以及洗漱臺(tái)
- 隱匿檢索系統(tǒng)以及公開(kāi)參數(shù)生成裝置以及加密裝置以及用戶秘密密鑰生成裝置以及查詢發(fā)布裝置以及檢索裝置以及計(jì)算機(jī)程序以及隱匿檢索方法以及公開(kāi)參數(shù)生成方法以及加密方法以及用戶秘密密鑰生成方法以及查詢發(fā)布方法以及檢索方法
- 編碼方法以及裝置、解碼方法以及裝置
- 編碼方法以及裝置、解碼方法以及裝置
- 圖片顯示方法以及裝置以及移動(dòng)終端
- ENB以及UEUL發(fā)送以及接收的方法
- X射線探測(cè)方法以及裝置以及系統(tǒng)
- 圖書(shū)信息錄入方法以及系統(tǒng)以及書(shū)架
- 護(hù)耳器以及口罩以及眼鏡





