[發(fā)明專(zhuān)利]容器沖洗系統(tǒng)和方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201380019628.X | 申請(qǐng)日: | 2013-03-11 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104254404B | 公開(kāi)(公告)日: | 2017-05-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | R-Y·A·吳;M·J·馬斯蒂奧 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 斯托克里-豐康普公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | B08B9/28 | 分類(lèi)號(hào): | B08B9/28 |
| 代理公司: | 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所11038 | 代理人: | 柳愛(ài)國(guó) |
| 地址: | 美國(guó)伊*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 容器 沖洗 系統(tǒng) 方法 | ||
1.一種組裝用于容器的空氣沖洗系統(tǒng)的方法,包括:
提供空氣源以便用于沖洗所述容器;
將歧管連接到所述空氣源,所述歧管包括歧管入口、電離單元和歧管出口,用于在所述容器處引導(dǎo)來(lái)自所述空氣源的空氣以幫助從所述容器去除碎屑;
將所述電離單元放置在所述歧管內(nèi),使得在操作期間當(dāng)空氣供應(yīng)到所述歧管并且暴露于電離單元時(shí)空氣在所述歧管內(nèi)被電離,并且在操作期間在空氣離開(kāi)所述歧管出口之前空氣被電離;以及
提供真空系統(tǒng)以便去除顆粒,所述真空系統(tǒng)包括:真空盤(pán),所述真空盤(pán)在容器流動(dòng)路徑下方延伸;和肘狀歧管,所述肘狀歧管具有抽吸入口。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述真空系統(tǒng)配置成保持所述容器沖洗系統(tǒng)中的負(fù)壓。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述容器沖洗系統(tǒng)配置成將空氣從所述真空系統(tǒng)再循環(huán)到所述空氣源。
4.一種用于沖洗容器的方法,包括:
提供空氣源以便將空氣供應(yīng)到容器;
在連接到所述空氣源的歧管處接收來(lái)自所述空氣源的空氣,所述歧管包括歧管入口、在所述歧管內(nèi)的電離單元和多個(gè)歧管出口;
在空氣離開(kāi)所述多個(gè)歧管出口之前當(dāng)空氣暴露于電離單元時(shí)用所述電離單元電離所述歧管內(nèi)的從所述空氣源接收的空氣;
通過(guò)所述多個(gè)歧管出口從所述歧管排出電離了的空氣;
使容器經(jīng)過(guò)所述多個(gè)歧管出口,其中所述電離了的空氣幫助從所述容器去除有害顆粒;以及
用真空系統(tǒng)真空處理有害顆粒,所述真空系統(tǒng)包括:真空盤(pán),所述真空盤(pán)在容器流動(dòng)路徑下方延伸;和肘狀歧管,所述肘狀歧管具有抽吸入口。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,其中所述真空系統(tǒng)保持所述歧管附近的負(fù)壓。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,還包括將空氣從所述真空系統(tǒng)再循環(huán)到所述空氣源。
7.一種容器沖洗系統(tǒng),包括:
空氣源;
連接到所述空氣源的歧管,所述歧管包括歧管入口、電離單元和多個(gè)出口;其中所述電離單元放置在所述歧管內(nèi)并且多個(gè)噴嘴位于所述歧管上使得在操作期間空氣在離開(kāi)所述歧管之前暴露于電離單元并且被電離;以及
用于去除顆粒的真空系統(tǒng),所述真空系統(tǒng)包括:真空盤(pán),所述真空盤(pán)在容器流動(dòng)路徑下方延伸;和肘狀歧管,所述肘狀歧管具有抽吸入口。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的容器沖洗系統(tǒng),其中所述真空系統(tǒng)配置成保持所述容器沖洗系統(tǒng)中的負(fù)壓。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的容器沖洗系統(tǒng),其中所述容器沖洗系統(tǒng)配置成將空氣從所述真空系統(tǒng)再循環(huán)到所述空氣源。
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