[發(fā)明專利]偏振元件及偏振片有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201380018822.6 | 申請(qǐng)日: | 2013-04-10 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104335084B | 公開(公告)日: | 2018-09-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 望月典明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 日本化藥株式會(huì)社;寶來技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02B5/30 | 分類號(hào): | G02B5/30;G02F1/1335;G03B21/14 |
| 代理公司: | 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人: | 龐東成;褚瑤楊 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 偏振 元件 | ||
1.一種染料系偏振元件,其包含吸附二色性染料并經(jīng)拉伸而成的聚乙烯醇樹脂膜,其中,所述染料系偏振元件是經(jīng)用pH大于8且為12以下的堿性水溶液處理得到的,將0.65重量份的該偏振元件溶解于90至100℃的熱水100重量份中后冷卻至25℃時(shí),該水溶液的pH值顯示為5.9至9.0,所述二色性染料為偶氮系化合物。
2.如權(quán)利要求1所述的染料系偏振元件,其中,硼酸含量為5至28重量%。
3.如權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的染料系偏振元件,其中,偶氮系化合物為游離酸如式(1)所示的二色性染料或其鹽,
[化1]
式(1)中,A表示具有取代基的苯基或萘基,R1至R6分別獨(dú)立表示氫原子、低級(jí)烷基、低級(jí)烷氧基、磺基或具有磺基的低級(jí)烷氧基,X表示具有或不具有取代基的胺基、具有或不具有取代基的苯甲酰基胺基、具有或不具有取代基的苯基胺基、具有或不具有取代基的苯基偶氮基,m、n分別獨(dú)立表示0或1。
4.如權(quán)利要求3所述的染料系偏振元件,其中,X如式(2)所示,
[化2]
式(2)中,R7及R8分別獨(dú)立表示氫原子、甲基、甲氧基、磺基、胺基或取代胺基。
5.如權(quán)利要求3所述的染料系偏振元件,其中,A為具有羰基的苯基。
6.如權(quán)利要求4所述的染料系偏振元件,其中,A為具有羰基的苯基。
7.如權(quán)利要求3所述的染料系偏振元件,其中,A為具有羥基的苯基。
8.如權(quán)利要求4所述的染料系偏振元件,其中,A為具有羥基的苯基。
9.一種偏振片,其為在權(quán)利要求1至權(quán)利要求8中任一項(xiàng)所述的染料系偏振元件的至少單面上設(shè)置支持體膜而成的偏振片。
10.一種帶無機(jī)基板的偏振片,其特征在于,在無機(jī)基板上積層有權(quán)利要求1所述的染料系偏振元件或權(quán)利要求9所述的偏振片。
11.如權(quán)利要求1至權(quán)利要求2中任一項(xiàng)所述的染料系偏振元件或如權(quán)利要求9至權(quán)利要求10中任一項(xiàng)所述的偏振片,其用于液晶投影儀。
12.一種投影儀,其搭載有權(quán)利要求1至權(quán)利要求8、權(quán)利要求11中任一項(xiàng)所述的染料系偏光元件。
13.一種投影儀,其搭載有權(quán)利要求9至權(quán)利要求11中任一項(xiàng)所述的偏振片。
14.一種染料系偏振元件的制造方法,其為權(quán)利要求1所述的染料系偏振元件的制造方法,其中,進(jìn)行拉伸處理后,浸泡于pH值大于8且為12以下的堿性水溶液中,并立刻進(jìn)行干燥處理。
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