[發(fā)明專利]與間接的冷卻裝置相匹配的靶

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201380018809.0
• 申請(qǐng)日: 2013-03-05
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104204286B
• 公開(kāi)（公告）日: 2017-03-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: S.克拉斯尼策爾;J.哈格曼
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 歐瑞康表面解決方案股份公司;普費(fèi)菲孔
• 主分類號(hào): C23C14/34
• 分類號(hào): C23C14/34
• 代理公司: 中國(guó)專利代理(香港)有限公司72001
• 代理人: 陳浩然,李婷

1.?一種靶，其構(gòu)造為用于氣相沉積方法的材料源、帶有前側(cè)和背側(cè)，其特征在于，在所述背側(cè)處粘有自粘性的碳薄膜。

2.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的靶，其特征在于，靶構(gòu)造為用于濺射方法和/或用于陰極火花蒸鍍方法的材料源。

3.?根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的靶，其特征在于，自粘性的碳薄膜的厚度在0.125mm與小于0.5mm之間且優(yōu)選具有0.125mm的厚度。

4.?一種涂覆源，包括帶有前側(cè)和背側(cè)的靶，其背側(cè)布置在源支架處，在源支架中集成有帶有冷卻通道的間接的冷卻部，其特征在于，在靶的背側(cè)處和/或在源支架的這樣的壁處粘有自粘性的碳薄膜，靶布置在源支架的該壁處。

5.?根據(jù)權(quán)利要求4所述的涂覆源，其特征在于，靶為根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的靶。

6.?根據(jù)權(quán)利要求4或5中任一項(xiàng)所述的涂覆源，其特征在于，使冷卻通道與自粘性的碳薄膜分開(kāi)的這樣的壁構(gòu)造為柔性的膜片，且自粘性的碳薄膜與膜片形成面接觸。

7.?根據(jù)權(quán)利要求4至6中任一項(xiàng)所述的涂覆源，其特征在于，靶的周圍與呈卡口接頭的形式的源支架共同作用，由此實(shí)現(xiàn)很高且均勻的壓緊力。