[發明專利]光信息記錄介質在審
| 申請號: | 201380018693.0 | 申請日: | 2013-03-14 |
| 公開(公告)號: | CN104221087A | 公開(公告)日: | 2014-12-17 |
| 發明(設計)人: | 見上龍雄;北原淑行 | 申請(專利權)人: | 富士膠片株式會社 |
| 主分類號: | G11B7/26 | 分類號: | G11B7/26;G11B7/24;G11B7/24038 |
| 代理公司: | 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112 | 代理人: | 何立波;張天舒 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 信息 記錄 介質 | ||
技術領域
本發明涉及一種光信息記錄介質。
背景技術
近些年,作為光信息記錄介質的大容量化的技術,對在1張記錄介質中以多層記錄信息的3維記錄進行了研究。在用于進行3維記錄的光信息記錄介質中,為了防止記錄層間的串擾,通常在多個記錄層之間設置適當厚度的中間層。
而且,在日本特開2005-209328號公報(對應美國專利申請以公開號US2005/0142318A1進行了公開)中公開有一種光信息記錄介質的制造方法,在該方法中,為了簡單地形成用于進行3維記錄的光信息記錄介質的多個記錄層,將具有記錄層的壓敏粘合片(單位構造片)進行貼合。
發明內容
在制造如日本特開2005-209328號公報所示的單位構造片的情況下,優選以向一個方向涂敷記錄層、粘接層等的材料的網狀涂敷方式形成。但是,如果以網狀涂敷方式進行涂敷,則在對與涂敷方向正交的截面進行觀察時,會產生基于涂敷裝置的特性所引起的層厚度的不均勻。而且,如果將多個單位構造片以使各層的涂敷方向一致的方式彼此貼合,則會存在該不均勻發生累積,厚度的均勻性惡化這樣的問題。
因此,在使單位構造片層疊而構成的光信息記錄介質中,期望使厚度的均勻性提高。
作為本發明的一個技術方案,提供一種光信息記錄介質,其是將單位構造片層疊而成的,其中,該單位構造片具有:作為中間層的粘接層和至少一層的記錄層。在該單位構造片中,記錄層以及粘接層通過向一定的涂敷方向涂敷材料而形成。而且,1個光信息記錄介質中的單位構造片能夠分類為涂敷方向的朝向彼此相差180°的組。
根據如上所述的結構,即使在各單位構造片中,在利用網狀涂敷方式進行涂敷時,出現了厚度的不均勻,由于具有涂敷方向的朝向相差180°的單位構造片的組,所以也能在成為該組的單位構造片之間彼此抵消厚度的不均勻。因此,即使單位構造片進行了多層層疊,也不會使該厚度的不均勻發生累積,作為光信息記錄介質整體,也能提高厚度的均勻性。另外,向一定的涂敷方向涂敷材料是指向一個方向直線地涂敷材料。
另外,無需使所述光信息記錄介質中的所有的中間層為粘接層,只要至少一部分的多個中間層以粘接層形成即可。即,也可以是在單位構造片中,作為中間層,包含與粘接層不同的第2中間層,該第2中間層通過與記錄層以及粘接層相同地向一定的涂敷方向涂敷材料而形成。
在該情況下,由于在成為組的單位構造片之間彼此抵消厚度的不均勻,所以由網狀涂敷方式的涂敷而導致的厚度的不均勻不會發生累積,厚度的均勻性變高。
在所述光信息記錄介質中,優選包含于該光信息記錄介質中的所有的粘接層,其材料的涂敷方向以該光信息記錄介質的中心為基準,形成小于180°的等角度間隔的朝向,并且,在每個朝向上以相同的層數而分布在該光信息記錄介質中。
粘接層在層內具有較小的要收縮的拉伸力,該粘接層要使光信息記錄介質發生翹曲。但是,如該結構所示,如果在1個光信息記錄介質中,粘接層的材料的涂敷方向以光信息記錄介質的中心為基準,形成等角度間隔的朝向,并且,在每個朝向上具有相同的層數,則各粘接層的要翹曲的力在該中心的周圍變得均勻,所以能夠減小光信息記錄介質的翹曲。
此外,具有在一側的表面上附著通過向一定的涂敷方向涂敷材料而形成的保護層的覆蓋層,有時也具有如上所述的要翹曲的力。在光信息記錄介質具有如上所述的覆蓋層的情況下,優選包含于該光信息記錄介質中的所有的粘接層的材料的涂敷方向、以及附著在覆蓋層上的保護層的材料的涂敷方向,以該光信息記錄介質的中心為基準,形成小于180°的等角度間隔的朝向,并且,在每個朝向上以相同的層數而分布在該光信息記錄介質中。
由此,粘接層和覆蓋層的要使光信息記錄介質翹曲的力在中心的周圍變得均勻,所以能夠減小光信息記錄介質的翹曲。
在所述的各光信息記錄介質中,所述單位構造片層疊在基板的兩面。
根據該結構,由于能夠在基板的兩側設置記錄層,所以能夠增大每張的記錄容量。
前述的本發明的技術方案和效果,以及其它的效果和進一步的特征,能夠通過參照附圖而對后述的本發明的例示且非制限性的實施方式的詳細的說明而進一步明確。
附圖說明
圖1是光信息記錄介質的剖視圖。
圖2是說明光信息記錄介質中的粘接層的材料的涂敷方向的圖(a)、(b)。
圖3是說明作為一個例子的單位構造片的制造工序的圖(a)~(e)。
圖4是說明光信息記錄介質的制造工序的一個例子的圖(a)~(c)。
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