[發明專利]溫度測定方法及溫度測定裝置

有效

• 申請號: 201380018614.6
• 申請日: 2013-03-01
• 公開（公告）號: CN104204744B
• 公開（公告）日: 2017-03-08
• 發明（設計）人: 大重貴彥
• 申請（專利權）人: 杰富意鋼鐵株式會社
• 主分類號: G01J5/10
• 分類號: G01J5/10;G01J5/00
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司11219
• 代理人: 高培培,車文

1.一種溫度測定方法，對從測定對象物發出的放射能量進行分光測定，對所得到的分光光譜信息進行信號處理，從而對測定對象物的表面溫度進行測定，所述溫度測定方法的特征在于，

基于從所述測定對象物得到的分光光譜信息而算出預先取得的基礎光譜的得分，按照預先取得的檢量式而使用所述得分來進行所述表面溫度的測定，

根據使用接觸式溫度計對測定對象物進行了測定的溫度測定值，來決定所述基礎光譜及所述檢量式。

2.根據權利要求1所述的溫度測定方法，其特征在于，

根據測定對象物的分光光譜信息和測定與所述接觸式溫度計的溫度測定值相同溫度的黑體爐而得到的放射能量的分光光譜信息之比，來算出放射率，對基于該放射率的放射率變動進行主成分分析而得到主成分，將與該主成分正交的光譜決定作為所述基礎光譜。

3.根據權利要求2所述的溫度測定方法，其特征在于，

預先算出對關于多個溫度進行了測定的黑體爐的放射能量的分光光譜信息進行了主成分分析而得到的一個以上的主成分的得分與所述黑體爐的溫度之間的關系式，

根據測定對象物的分光光譜信息與使用利用所述關系式確定的所述接觸式溫度計的溫度測定值所對應的得分而再構成的分光光譜信息之比，來算出放射率，對基于該放射率的放射率變動進行主成分分析而得到主成分，將與該主成分正交的光譜決定作為所述基礎光譜。

4.根據權利要求1所述的溫度測定方法，其特征在于，

對于測定對象物的分光光譜信息和所述接觸式溫度計的溫度測定值適用局部的最小二乘法，由此來決定所述基礎光譜。

5.一種溫度測定裝置，對從測定對象物發出的放射能量進行分光測定，對所得到的分光光譜信息進行信號處理，從而對測定對象物的表面溫度進行測定，所述溫度測定裝置的特征在于，

基于從所述測定對象物得到的分光光譜信息而算出預先取得的基礎光譜的得分，按照預先取得的檢量式，使用所述得分來進行所述表面溫度的測定，

所述基礎光譜及所述檢量式根據使用接觸式溫度計對測定對象物進行了測定的溫度測定值來決定。

6.根據權利要求5所述的溫度測定裝置，其特征在于，

根據測定對象物的分光光譜信息和測定與所述接觸式溫度計的溫度測定值相同溫度的黑體爐而得到的放射能量的分光光譜信息之比，來算出放射率，對基于該放射率的放射率變動進行主成分分析而得到主成分，與該主成分正交的光譜被決定作為所述基礎光譜。

7.根據權利要求6所述的溫度測定裝置，其特征在于，

預先算出對關于多個溫度進行了測定的黑體爐的放射能量的分光光譜信息進行了主成分分析而得到的一個以上的主成分的得分與所述黑體爐的溫度之間的關系式，

根據測定對象物的分光光譜信息與使用利用所述關系式確定的所述接觸式溫度計的溫度測定值所對應的得分再構成的分光光譜信息之比，來算出放射率，對基于該放射率的放射率變動進行主成分分析而得到主成分，與該主成分正交的光譜被決定作為所述基礎光譜。

8.根據權利要求5所述的溫度測定裝置，其特征在于，

對于測定對象物的分光光譜信息和所述接觸式溫度計的溫度測定值適用局部的最小二乘法，由此決定所述基礎光譜。