[發明專利]用于二維基板的加工站與用于加工二維基板的方法

有效

• 申請號: 201380018401.3
• 申請日: 2013-02-25
• 公開（公告）號: CN104321858B
• 公開（公告）日: 2016-11-23
• 發明（設計）人: M.賴興巴赫;M.鮑
• 申請（專利權）人: JRT光電有限責任兩合公司
• 主分類號: H01L21/677
• 分類號: H01L21/677
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 董均華;譚祐祥

1.?一種用于二維基板的加工站，包括：至少兩個加工單元(12,?14)和彼此平行布置的用于基板的至少兩個傳送線(16,?18)、以及用于使基板自傳送線(16,?18)運動至加工單元(12,?14)及自加工單元返回傳送線的器件，其中，所述加工單元(12,?14)兩者均設置在所述兩個傳送線(16,?18)之間，

其特征在于，

用于使基板運動的器件具有各包括至少一個基板支撐件(32,?34,?36,?38)的四個線性傳送單元(24,?26,?28,?30)，其中，第一線性傳送單元(24)布置于第二傳送線(18)的轉運點(22)與第一加工單元(12)之間，第二線性傳送單元(26)布置于第一傳送線(16)的轉運點(20)與第一加工單元(12)之間，第三線性傳送單元(26)布置于第一傳送線(16)的轉運點(20)與該第二加工單元(14)之間，第四線性傳送單元(30)布置于第二傳送線(18)的轉運點(22)與該第二加工單元(14)之間。

2.?如權利要求1的加工站，其特征在于，該第一及第四線性傳送單元(24,?30)被構造成使得相應的基板支撐件(32,?38)運動至該第二傳送線(18)區域內的公共轉運點(22)。

3.?如權利要求1或2的加工站，其特征在于，該第二及第三線性傳送單元(26,?28)被構造成使得相應的基板支撐件(32,?38)運動至該第一傳送線(16)區域內的公共轉運點(20)。

4.?如前述權利要求中至少一項的加工站，其特征在于，所述加工單元(12,?14)兩者均沿傳送線(16,?18)的前進方向彼此隔開，所述四個線性傳送單元(24,?26,?28,?30)從上方看處于菱形布置。

5.?如前述權利要求中至少一項的加工站，其特征在于，線性傳送單元(24,?26,?28,?30)是線性導引裝置(62)，滑塊(60)在線性導引裝置上引導，所謂的線性軸。

6.?如前述權利要求中至少一項的加工站，其特征在于，第一及第二傳送線(16,?18)在至線性傳送單元(24,?26,?28,?30)的相應轉運點(20,?22)區域內適合于分段移離線性傳送單元(24,?26,?28,?30)的基板支撐件(32,?34,?36,?38)的軌跡。

7.?如權利要求6的加工站，其特征在于，該第一及第二傳送線(16,?18)在相應轉運點(20,?22)區域內具有升降帶(40,?42,?44,?46)、折疊帶、回轉帶及/或伸縮帶。

8.?如前述權利要求中至少一項的加工站，其特征在于，加工單元(12,?14)是絲網印刷站，基板支撐件(32,?34,?36,?38)是印刷巢。

9.?如前述權利要求中至少一項的加工站，其特征在于，基板支撐件配設有沿支撐表面運行的帶。

10.?如權利要求9的加工站，其特征在于，設有用于使該帶以兩個相反方向沿該支撐表面運動的裝置。

11.?如前述權利要求中至少一項的加工站，其特征在于，基板支撐件(32,?34,?36,?38)配設有沿支撐表面運行的環形帶(64)。

12.?如權利要求11的加工站，其特征在于，該環形帶(64)適合于透射輻射和/或適合于被抽吸通過。

13.?一種利用如前述權利要求中任一項的加工站(10)加工二維基板的方法，其特征在于，

借助于線性傳送單元(24,?26,?28,?30)中的一個使未經加工的基板自傳送線(16,?18)的轉運點(20,?22)中的一個運動至加工單元(12,?14)，并借助于同一線性傳送單元(24,?26,?28,?30)將已加工的基板自加工單元(12,?14)送回傳送線(16,?18)的同一轉運點(20,?22)。

14.?如權利要求13的方法，其特征在于以下大體同時進行的傳送運動：

借助于第一線性傳送單元(24)使第一基板自第二傳送線(18)運動至第一加工單元(12)并借助于第二線性傳送單元(26)使第二基板自第一加工單元(12)運動至第一傳送線(16)。