[發(fā)明專利]1,2,4三唑衍生物作為除草劑

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201380017917.6
• 申請(qǐng)日: 2013-03-27
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104220434A
• 公開(kāi)（公告）日: 2014-12-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: G·米歇爾
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 先正達(dá)有限公司
• 主分類號(hào): C07D401/12
• 分類號(hào): C07D401/12;C07D249/14;C07D249/16;A01N43/653
• 代理公司: 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所 11038
• 代理人: 張敏

1.一種具有化學(xué)式(I)的化合物：

或其農(nóng)學(xué)上可接受的鹽，

其中：-

R¹和R⁷獨(dú)立地選自下組，該組由以下各項(xiàng)組成：氫、C₁-C₆烷基、C₁-C₆鹵代烷基以及C₁-C₆烷氧基-C₁-C₃烷基；

或R¹和R⁷一起形成一個(gè)C₁-C₆亞烷基鏈、一個(gè)C₁-C₆鹵代亞烷基鏈或一個(gè)C₁-C₃亞烷氧基-C₁-C₃亞烷基鏈；

R²選自下組，該組由以下各項(xiàng)組成：C₁-C₆烷基-、C₁-C₆鹵代烷基-、C₁-C₆烷氧基-C₁-C₆烷基-、C₁-C₃烷氧基-C₂-C₃烷氧基-C₁-C₃烷基-、鹵素、氰基、硝基、C₁-C₆烷基-S(O)p-以及C₁-C₆鹵代烷基-S(O)_p-；

X是CR³或N；

R³選自下組，該組由以下各項(xiàng)組成：氫、鹵素、C₁-C₆烷基、C₁-C₆鹵代烷基、C₁-C₆烷氧基-C₁-C₆-烷基、C₁-C₆鹵代烷氧基-C₁-C₆烷基、C₁-C₆烷氧基-C₁-C₆烷氧基-C₁-C₆烷基、C₁-C₆烷氧基、C₁-C₆鹵代烷氧基、C₁-C₆烷氧基-C₁-C₆烷氧基、C₁-C₆烷氨基、C₁-C₆二烷氨基-、哌啶基、嗎啉基、氰基、C₁-C₆烷基-S(O)p-以及C₁-C₆鹵代烷基-S(O)_p-；

R⁴選自下組，該組由以下各項(xiàng)組成：氫、C₁-C₆烷基、C₁-C₆鹵代烷基、C₁-C₆烷氧基-C₁-C₆烷基、鹵素、氰基、硝基、C₁-C₆烷基-S(O)p-以及C₁-C₆鹵代烷基-S(O)_p-；

或R³和R⁴一起形成飽和的5元或6元環(huán)，所述環(huán)任選地包含一個(gè)氧或一個(gè)S(O)_p雜原子，該5元或6元環(huán)任選地被一個(gè)或多個(gè)R⁶取代；

R⁵選自下組，該組由以下各項(xiàng)組成：氫、鹵素、C₁-C₆烷基以及C₁-C₆鹵代烷基；

或R⁴和R⁵一起形成5元或6元芳香環(huán)，所述芳香環(huán)任選地包含一個(gè)氮雜原子，該5元或6元芳香環(huán)任選地被一個(gè)或多個(gè)R⁶取代；

R⁶選自下組，該組由以下各項(xiàng)組成：鹵素、C₁-C₆烷基、C₁-C₆鹵代烷基、C₁-C₆烷氧基-C₁-C₆烷基、C₁-C₆鹵代烷氧基-C₁-C₆烷基、C₁-C₆烷氧基-C₁-C₆烷氧基-C₁-C₆烷基-、C₁-C₆烷氧基以及C₁-C₆鹵代烷氧基；并且

p＝0、1或2。