[發(fā)明專利]選擇性外延生長裝置及集群設備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380017310.8
• 申請日: 2013-03-26
• 公開（公告）號: CN104246977B
• 公開（公告）日: 2016-10-12
• 發(fā)明（設計）人: 樸用城;李成光;金東烈;金基勛
• 申請（專利權）人: 國際電氣高麗株式會社
• 主分類號: H01L21/20
• 分類號: H01L21/20;H01L21/02
• 代理公司: 北京律智知識產(chǎn)權代理有限公司 11438
• 代理人: 姜燕;王衛(wèi)忠

1.一種選擇性外延生長裝置，其特征在于，包括：

工藝管，包括內(nèi)管和包圍所述內(nèi)管的外管，所述內(nèi)管收容用于收納多個基板的基板搭載單元，

加熱組件，包圍所述工藝管，

側(cè)部噴嘴部，鉛垂設置于所述工藝管的內(nèi)側(cè)；

所述側(cè)部噴嘴部包括第一側(cè)部噴嘴及第二側(cè)部噴嘴，所述第一側(cè)部噴嘴噴射用于選擇性外延生長的蝕刻氣體，所述第二側(cè)部噴嘴噴射用于選擇性外延生長的沉積氣體。

2.如權利要求1所述的選擇性外延生長裝置，其特征在于，所述側(cè)部噴嘴部還包括多個側(cè)簾噴嘴，所述多個側(cè)簾噴嘴隔著所述第一側(cè)部噴嘴并排配置在該第一側(cè)部噴嘴的兩側(cè)，并且，所述多個側(cè)簾噴嘴為了提高從所述第一側(cè)部噴嘴噴射出的第一工藝氣體的直線前進特性而噴射非活性氣體。

3.如權利要求1或2所述的選擇性外延生長裝置，其特征在于，還包括載板旋轉(zhuǎn)部，該載板旋轉(zhuǎn)部用于使所述基板搭載單元旋轉(zhuǎn)。

4.如權利要求1或2所述的選擇性外延生長裝置，其特征在于，所述側(cè)部噴嘴部還包括預沉積噴嘴，該預沉積噴嘴用于對所述內(nèi)管內(nèi)部進行預涂覆。

5.如權利要求1或2所述的選擇性外延生長裝置，其特征在于，所述側(cè)部噴嘴部還包括下部清洗噴嘴，在清洗所述內(nèi)管內(nèi)部時，所述下部清洗噴嘴清洗所述內(nèi)管的下端部。

6.如權利要求5所述的選擇性外延生長裝置，其特征在于，所述下部清洗噴嘴的長度比其他側(cè)部噴嘴的長度短。

7.如權利要求1所述的選擇性外延生長裝置，其特征在于，所述第一側(cè)部噴嘴和第二側(cè)部噴嘴中的至少一個包括多個區(qū)間噴嘴，所述多個區(qū)間噴嘴分別對所述基板搭載單元的長度方向上的至少兩個區(qū)間噴射氣體。

8.如權利要求7所述的選擇性外延生長裝置，其特征在于，就所述多個區(qū)間噴嘴而言，為了使噴嘴內(nèi)部中的氣體停滯時間相同，所述多個區(qū)間噴嘴中的負責所述基板搭載單元的下側(cè)區(qū)間的區(qū)間噴嘴具有雙重管結(jié)構。

9.如權利要求7所述的選擇性外延生長裝置，其特征在于，就所述多個區(qū)間噴嘴而言，為了使噴嘴內(nèi)部中的氣體停滯時間相同，在所述多個區(qū)間噴嘴中的負責所述基板搭載單元的下側(cè)區(qū)間的區(qū)間噴嘴設置有用于抑制氣體流動的限制結(jié)構體。

10.如權利要求1或2所述的選擇性外延生長裝置，其特征在于，所述內(nèi)管形成為上部封閉的圓頂形狀，在所述內(nèi)管的一側(cè)面還包括切開部，該切開部與所述第一側(cè)部噴嘴設置于同一直線上。

11.如權利要求10所述的選擇性外延生長裝置，其特征在于，所述切開部形成為隨著從下端靠近上端而寬度逐漸變寬的倒三角形、隨著從下端靠近上端而寬度逐漸變窄的三角形、上下不對稱的形狀或者分別與所述第一側(cè)部噴嘴的多個噴射孔相向的獨立孔形狀。

12.如權利要求3所述的選擇性外延生長裝置，其特征在于，

包括控制部，該控制部用于控制所述載板旋轉(zhuǎn)部的動作，

所述控制部根據(jù)所述側(cè)部噴嘴部的各個氣體供應階段的時間，對所述載板旋轉(zhuǎn)部的旋轉(zhuǎn)速度進行控制。

13.一種集群設備，用于處理基板，其特征在于，包括：

設備前端模塊，具有多個裝載端口，搭載有多個基板的卡匣放置于該多個裝載端口；

第一負荷固定艙，通過閘閥與所述設備前端模塊相連接，并且，該第一負荷固定艙的內(nèi)部空間能夠在大氣壓和真空壓之間進行選擇性轉(zhuǎn)換；

傳送室，通過閘閥與所述第一負荷固定艙相連接，并且具有用于搬運基板的搬運裝置；

多個第二負荷固定艙，通過閘閥與所述傳送室相連接，并且具有用于批量搭載多個基板的基板搭載單元；

多個工藝腔室，分別配置在所述多個第二負荷固定艙的上部，用于對搭載于所述基板搭載單元的多個基板進行工藝處理。

14.如權利要求13所述的集群設備，其特征在于，

所述工藝腔室包括：

工藝管，具有內(nèi)管和包圍所述內(nèi)管的外管，所述內(nèi)管用于收容所述基板搭載單元；

旋轉(zhuǎn)部，用于使所述基板搭載單元旋轉(zhuǎn)；

加熱組件，包圍所述工藝管；

第一側(cè)部噴嘴及第二側(cè)部噴嘴，鉛垂設置于所述工藝管的內(nèi)側(cè)，所述第一側(cè)部噴嘴噴射用于選擇性外延生長的蝕刻氣體，所述第二側(cè)部噴嘴噴射用于選擇性外延生長的沉積氣體。