[發(fā)明專利]激光熔覆表面處理有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201380016683.3 | 申請日： | 2013-03-21 |
| 公開（公告）號： | CN104203479B | 公開（公告）日： | 2017-12-19 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | L·E·布朗寧;J·C·普爾;C·D·普雷斯特;S·P·扎德斯凱 | 申請（專利權(quán)）人： | 蘋果公司 |
| 主分類號： | B23K20/00 | 分類號： | B23K20/00;B23K26/00;B23K20/02 |
| 代理公司： | 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會專利商標(biāo)事務(wù)所11038 | 代理人： | 李躍龍 |
| 地址： | 美國加*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 激光 表面 處理 | ||
1.一種用于激光熔覆電子設(shè)備外殼的金屬殼體的方法，包括：
在金屬殼體的第一外表面區(qū)域上進(jìn)行第一激光熔覆工藝以形成熔合到該金屬殼體的第一金屬涂層，其中第一金屬涂層的特征在于具有第一體積百分比的懸浮在金屬基質(zhì)中的陶瓷顆粒；和
在金屬殼體的第二外表面區(qū)域上進(jìn)行第二激光熔覆工藝以形成熔合到該金屬殼體的第二金屬涂層，其中第二金屬涂層的特征在于具有第二體積百分比的懸浮在金屬基質(zhì)中的陶瓷顆粒，且其中第二體積百分比大于第一體積百分比。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括在第一或第二金屬涂層的至少一者上執(zhí)行修整工藝。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中所述修整工藝包括拋光、噴砂、砂磨、滾光、刷光、電解拋光、或化學(xué)拋光中的至少一者。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中在第一和第二外表面區(qū)域上執(zhí)行第一和第二激光熔覆工藝之前，該方法還包括：
在所述第一和第二外表面區(qū)域上執(zhí)行修整工藝。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中第一外表面區(qū)域是所述金屬殼體中的溝槽，和執(zhí)行第一激光熔覆工藝包括使用第一熔覆材料來填充所述溝槽以形成鑲嵌的熔覆區(qū)域。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中第一金屬涂層具有選自耐腐蝕性、硬度或斷裂韌度的至少一種的結(jié)構(gòu)特性。
7.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，所述方法還包括：
在所述第二金屬涂層上執(zhí)行陽極化工藝以形成陽極化區(qū)域，其中第一金屬涂層包括所述金屬殼體的拐角，并且所述陽極化區(qū)域相鄰所述第一金屬涂層；以及
在所述陽極化區(qū)域或第一金屬涂層中的至少一者上執(zhí)行修整工藝以誘使所述陽極化區(qū)域和第一金屬涂層彼此大體上齊平。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中金屬基質(zhì)包括鋁、鎳、鈷、鎂、鈦或鋼中的至少一者。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述第二金屬涂層與所述第一金屬涂層具有不同的組成。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中執(zhí)行第一和第二激光熔覆工藝包括：
將第一熔覆材料和第二熔覆材料放置到模具中以形成熔覆預(yù)成型件；
將所述金屬殼體放置到所述模具中，使得所述熔覆預(yù)成型件的所述第一熔覆材料和所述第二熔覆材料附著到所述金屬殼體的相應(yīng)的所述第一外表面區(qū)域和所述第二外表面區(qū)域；
將所述金屬殼體從所述模具移除；以及
向所述熔覆預(yù)成型件施加激光束以形成所述第一和第二金屬涂層。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中在將所述第一熔覆材料和所述第二熔覆材料放置到所述模具中之前將所述金屬殼體放置到所述模具中。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述第一金屬涂層的第一硬度高于所述第二金屬涂層的第二硬度，并且所述第二金屬涂層的第一斷裂韌度高于所述第一金屬涂層的第二斷裂韌度。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述第一外表面區(qū)域和所述第二外表面區(qū)域形成所述金屬殼體的同一表面的至少一部分。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述金屬殼體包括兩個(gè)表面，所述第一外表面區(qū)域形成所述兩個(gè)表面中的一個(gè)表面的至少一部分，并且所述第二外表面區(qū)域形成所述兩個(gè)表面中的另一表面的至少一部分。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中金屬基質(zhì)包括不銹鋼。
16.一種方法，包括：
提供形成電子設(shè)備外殼的至少一部分的金屬殼體，所述金屬殼體包括第一表面區(qū)域和與第一表面區(qū)域相鄰的第二表面區(qū)域；
在所述第一表面區(qū)域上執(zhí)行第一激光熔覆工藝以形成熔合于金屬殼體的第一熔覆層，其中第一熔覆層的特征在于具有第一濃度的懸浮在金屬基質(zhì)中的陶瓷顆粒；以及
在所述第二表面區(qū)域上執(zhí)行第二激光熔覆工藝以形成熔合于金屬殼體的第二熔覆層，其中第二熔覆層的特征在于具有第二濃度的懸浮在金屬基質(zhì)中的陶瓷顆粒，
且所述第一熔覆層和所述第二熔覆層具有不同的特性。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法，還包括在所述第一熔覆層和所述第二熔覆層上執(zhí)行修整工藝。
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