[發(fā)明專利]HEVC中無損編碼中的改進(jìn)幀內(nèi)預(yù)測(cè)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201380016655.1 | 申請(qǐng)日: | 2013-04-19 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104205843A | 公開(公告)日: | 2014-12-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 高文;姜明強(qiáng);于浩平 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 華為技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | H04N19/503 | 分類號(hào): | H04N19/503;H04N19/182;H04N19/13;H04N19/91 |
| 代理公司: | 無 | 代理人: | 無 |
| 地址: | 518129 廣東*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | hevc 無損 編碼 中的 改進(jìn) 預(yù)測(cè) | ||
1.一種方法,其特征在于,包括:
使用預(yù)測(cè)單元(PU)中對(duì)應(yīng)左側(cè)、上方以及左上方相鄰的鄰近像素計(jì)算所述PU中多個(gè)邊界像素的預(yù)測(cè)值;以及
使用基于樣本的角預(yù)測(cè)(SAP)計(jì)算所述PU中第二多個(gè)像素的預(yù)測(cè)值,其中所述第二多個(gè)像素除了包括所述多個(gè)邊界像素還包括所述PU中所有其他像素。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,計(jì)算所述多個(gè)邊界像素的預(yù)測(cè)值包括:
基于對(duì)應(yīng)左側(cè)、上方和左上方相鄰的鄰近像素值計(jì)算所述多個(gè)邊界像素中每個(gè)像素的所述預(yù)測(cè)值。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,計(jì)算所述第二多個(gè)像素的預(yù)測(cè)值包括:
根據(jù)預(yù)測(cè)角計(jì)算所述第二多個(gè)像素中每個(gè)像素的所述預(yù)測(cè)值為對(duì)應(yīng)相鄰像素值的線性組合。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法,其特征在于,基于所述對(duì)應(yīng)左側(cè)、上方和左上方鄰近相鄰像素值計(jì)算所述預(yù)測(cè)值包括計(jì)算所述預(yù)測(cè)值為:
其中P(X)表示像素X的所述預(yù)測(cè)值,A表示所述對(duì)應(yīng)左側(cè)像素值,B表示所述對(duì)應(yīng)上方像素值,以及C表示所述對(duì)應(yīng)左上方像素值。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法,其特征在于,所述多個(gè)邊界像素的所述預(yù)測(cè)值和所述第二多個(gè)像素的所述預(yù)測(cè)值形成所述PU的預(yù)測(cè)塊,其中所述方法進(jìn)一步包括:
從原始?jí)K中減去所述預(yù)測(cè)塊以生成殘差塊;以及
通過熵編碼所述殘差塊對(duì)所述殘差塊進(jìn)行無損編碼以生成一部分比特流。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法,其特征在于,進(jìn)一步包括:
選擇掃描處理順序?yàn)樗綊呙杼幚眄樞蚧虼怪睊呙杼幚眄樞颍?/p>
選擇所述預(yù)測(cè)角,
其中所述對(duì)應(yīng)相鄰像素值包括對(duì)應(yīng)的兩個(gè)像素值;所述線性組合包括取決于所述預(yù)測(cè)角的所述兩個(gè)像素值的權(quán)重。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法,其特征在于,進(jìn)一步包括:
格式化所述部分比特流進(jìn)行傳輸;以及
傳輸所述格式化的部分比特流。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法,其特征在于,進(jìn)一步包括基于所述掃描處理順序選擇所述多個(gè)邊界像素。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,其特征在于,如果所述處理順序?yàn)樗鏊綊呙杼幚眄樞颍龆鄠€(gè)邊界像素位于所述PU的右側(cè)邊界;如果所述掃描處理順序?yàn)樗龃怪睊呙杼幚眄樞颍龆鄠€(gè)邊界像素位于所述PU的下方邊界。
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