[發(fā)明專利]用于輻照襯底的設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201380016519.2 | 申請日: | 2013-01-18 |
| 公開(公告)號: | CN104350589B | 公開(公告)日: | 2017-09-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | S.利諾夫;L.馮里韋爾 | 申請(專利權(quán))人: | 賀利氏特種光源有限責任公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 盧江,劉春元 |
| 地址: | 德國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 輻照 襯底 設(shè)備 | ||
1.一種用于輻照襯底的設(shè)備,具有:帶有圓形輻照面的用于待輻照的襯底的容納部;第一光輻射器,具有至少一個布置在平行于所述輻照面走向的照明平面中的輻射器管,所述輻射器管具有帶有一個中部區(qū)段和兩個端部區(qū)段的照明長度,其中所述中部區(qū)段的長度總計為所述照明長度的至少50%,并且其中所述容納部和所述光輻射器能夠相對于彼此移動,其特征在于,所述輻射器管的照明長度在小于2π弧度的弧角之上延伸,以及所述輻射器管在所述中部區(qū)段中具有從一個端部區(qū)域到另一個端部區(qū)域連續(xù)減小的彎曲。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,
其特征在于,
所述輻射器管在所述中部區(qū)段中具有算術(shù)螺旋的彎曲。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,
其特征在于,
所述圓形輻照面具有中心,該中心確定平面極坐標系的極點,該極坐標系包括同心圓形式的用于描述角度的坐標線和用于描述所述極坐標系中的坐標的半徑r的射線軸,并且所述輻射器管在所述中部區(qū)段中的彎曲通過坐標來描述,所述坐標滿足如下數(shù)學函數(shù):
r=k*并且<2π弧度,
其中k是恒定因子。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,
其特征在于,
所述圓形輻照面具有中心,該中心確定平面極坐標系的極點,該極坐標系包括同心圓形式的用于描述角度的坐標線和用于描述所述極坐標系中的坐標的半徑r的射線軸,并且所述輻射器管在所述中部區(qū)段中具有第一部分長度,在所述第一部分長度中所述輻射器管的彎曲通過坐標來描述,所述坐標滿足如下數(shù)學函數(shù):
r=k1*并且<2π弧度,
并且包括第二部分長度,在所述第二部分長度中所述輻射器管的彎曲通過坐標來描述,所述坐標滿足如下數(shù)學函數(shù):
r=k2*并且<2π弧度,
其中k1≠k2,以及k1和k2是恒定因子。
5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的設(shè)備,
其特征在于,
所述輻射器管的彎曲通過穿過所述輻射器管的橫截面的中心走向的曲線來描述,其中該曲線在任何位置處與通過數(shù)學函數(shù)所描述的彎曲的偏差都不大于1mm。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的設(shè)備,
其特征在于,所述曲線在任何位置處與通過數(shù)學函數(shù)所描述的彎曲的偏差都不大于0.3mm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至2之一所述的設(shè)備,
其特征在于,
所述輻射器管的照明長度在小于π弧度的弧角之上延伸。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至2之一所述的設(shè)備,
其特征在于,
該設(shè)備僅僅包含唯一的彎曲的光輻射器。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,
其特征在于,
該設(shè)備具有至少一個另外的光輻射器,所述至少一個另外的光輻射器具有在平行于輻照面走向的照明平面中彎曲的輻射器管,所述輻射器管包括照明長度,所述照明長度具有一個中部區(qū)段和兩個端部區(qū)段,其中所述中部區(qū)段的長度總計為所述照明長度的至少50%。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的設(shè)備,
其特征在于,
所述中部區(qū)段的長度總計為所述照明長度的至少90%。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的設(shè)備,
其特征在于,
所述第一光輻射器輻照在徑向方向上來看內(nèi)部的輻照面并且所述至少一個另外的光輻射器輻照在徑向方向上來看外部的輻照面,其中內(nèi)部的和外部的輻照面至少部分地重疊。
12.根據(jù)權(quán)利要求9至11之一所述的設(shè)備,
其特征在于,
所述輻照面具有中心并且徑向上向外走向的射線軸從中心出發(fā),所述射線軸與第一輻射器和至少一個另外的輻射器相交。
13.根據(jù)權(quán)利要求9至11之一所述的設(shè)備,
其特征在于,
所述光輻射器總體上以螺旋的形式來布置。
14.根據(jù)權(quán)利要求1至2之一所述的設(shè)備,
其特征在于,
所述端部區(qū)段也具有算術(shù)螺旋的彎曲。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于賀利氏特種光源有限責任公司,未經(jīng)賀利氏特種光源有限責任公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201380016519.2/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:用于管理燃料電池的系統(tǒng)和方法
- 下一篇:接合裝置
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗設(shè)備、驗證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
- 驅(qū)動設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
- 發(fā)送設(shè)備、中繼設(shè)備和接收設(shè)備
- 定點設(shè)備、接口設(shè)備和顯示設(shè)備
- 傳輸設(shè)備、DP源設(shè)備、接收設(shè)備以及DP接受設(shè)備
- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





