[發明專利]低折射率材料的保護涂層

有效

• 申請號: 201380016505.0
• 申請日: 2013-03-19
• 公開（公告）號: CN104507589B
• 公開（公告）日: 2017-02-22
• 發明（設計）人: 邁克爾·L·斯坦納;威廉·D·科焦;托馬斯·J·盧德曼;埃米莉·L·雷克謝森;威廉·R·達德利;史蒂文·J·麥克曼;邁克爾·L·魯格瑟格爾
• 申請（專利權）人: 3M創新有限公司
• 主分類號: B05D5/06
• 分類號: B05D5/06;B05D7/00;G02B1/14;B05D1/26;B05D1/30
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司11112
• 代理人: 丁業平,金小芳

1.一種方法，包括：

將第一溶液涂布在基材上，所述第一溶液包括多個金屬氧化物顆粒、粘合劑和溶劑，其中所述粘合劑在所述溶劑中具有第一濃度；

將第二溶液涂布在所述第一溶液上，所述第二溶液包括以第二濃度處于所述溶劑中的所述粘合劑，所述第二濃度不同于所述第一濃度；以及

從所述第一溶液和所述第二溶液中去除所述溶劑以形成受保護膜，其中所述粘合劑與所述金屬氧化物顆粒的重量比在所述受保護膜的厚度方向上增大。

2.根據權利要求1所述的方法，其中涂布所述第一溶液和所述第二溶液是利用坡流涂布機、多層槽式涂布機或它們的組合同時進行的。

3.根據權利要求1所述的方法，其中涂布所述第一溶液和所述第二溶液是利用幕簾式涂布機按順序進行的。

4.根據權利要求1所述的方法，其中去除所述溶劑包括在間隙干燥機、噴射干燥機、浮選干燥機、靜態干燥機或它們的組合中干燥所述第一溶液和所述第二溶液。

5.根據權利要求1所述的方法，其中去除所述溶劑包括：所述粘合劑擴散遍布于所述第一溶液和所述第二溶液之間的界面。

6.根據權利要求1所述的方法，其中所述第一濃度低于所述第二濃度。

7.根據權利要求1所述的方法，其中所述粘合劑與所述金屬氧化物顆粒的重量比從所述基材近側的小于1:2增大至所述受保護膜的外表面近側的大于1:1。

8.根據權利要求1所述的方法，其中所述基材包括涂布在其上的第三溶液，所述第三溶液包含第二多個金屬氧化物顆粒、所述粘合劑和所述溶劑，其中所述粘合劑在所述溶劑中具有第三濃度，并且所述第一溶液涂布在所述第三溶液上。

9.根據權利要求8所述的方法，其中所述多個金屬氧化物顆粒和所述第二多個金屬氧化物顆粒包括相同顆粒。

10.根據權利要求8所述的方法，其中所述第三濃度低于所述第一濃度。

11.根據權利要求1所述的方法，還包括分散于所述第一溶液或所述第二溶液中的至少一種中的漫射體顆粒。

12.根據權利要求8所述的方法，還包括分散于所述第三溶液中的漫射體顆粒。

13.根據權利要求1所述的方法，其中所述粘合劑包括聚乙烯醇(PVA)、聚乙烯醇縮丁醛(PVB)、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙酸乙烯酯、乙酸乙烯酯/乙烯共聚物、聚環氧乙烷、聚環氧丙烷，或它們的組合。

14.根據權利要求1所述的方法，其中所述溶劑包括水、異丙醇、甲基乙基酮，或它們的組合。

15.根據權利要求1所述的方法，其中所述粘合劑包括PVA。

16.根據權利要求1所述的方法，還包括：

將第四溶液涂布在所述受保護膜上，所述第四溶液包括第二粘合劑和第二溶劑，其中所述第二粘合劑在所述第二溶劑中具有第四濃度；

將第五溶液涂布在所述第四溶液上，所述第五溶液包括以第五濃度

處于所述第二溶劑中的第三粘合劑和多個漫射體顆粒；以及從所述第四溶液和所述第五溶液中去除所述溶劑以形成擴散膜。

17.根據權利要求16所述的方法，其中所述第二粘合劑和所述第三粘合劑各自獨立地選自包括以下的聚合物：聚乙烯醇(PVA)、聚乙烯醇縮丁醛(PVB)、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙酸乙烯酯、乙酸乙烯酯/乙烯共聚物、聚環氧乙烷、聚環氧丙烷，或它們的組合。

18.根據權利要求16所述的方法，其中所述第二溶劑包括水、異丙醇、甲基乙基酮，或它們的組合。

19.根據權利要求16所述的方法，其中所述漫射體顆粒包括具有介于約0.5微米和約10微米之間的直徑的珠子。

20.根據權利要求16所述的方法，其中所述第二粘合劑分子量小于所述第三粘合劑分子量。

21.根據權利要求16所述的方法，其中所述第二粘合劑和所述第三粘合劑各自包括PVB。

22.根據權利要求1所述的方法，其中所述基材包括光學膜。

23.根據權利要求22所述的方法，其中所述光學膜包括ESR膜。