[發(fā)明專利]圖案形成方法和加熱裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380016312.5
• 申請日: 2013-11-25
• 公開（公告）號: CN104812503A
• 公開（公告）日: 2015-07-29
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 村松誠;北野高廣;富田忠利;田內(nèi)啟士
• 申請（專利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會社
• 主分類號: B05D7/24
• 分類號: B05D7/24;B05C9/14;B05D3/02;B05D3/10;G03F7/004;G03F7/38;H01L21/027
• 代理公司: 北京尚誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳

1.一種在基板上形成圖案的圖案形成方法，其特征在于，包括：

在基板上形成至少包括兩種聚合物的嵌段共聚物的膜的步驟；

在溶劑蒸氣氛圍下對所述嵌段共聚物的膜進行加熱，使所述嵌段共聚物相分離的步驟；和

將被相分離的所述嵌段共聚物的膜中的一種聚合物除去的步驟。

2.如權(quán)利要求1所述的圖案形成方法，其特征在于：

在所述相分離的步驟中，使所述溶劑蒸氣氛圍中的溶劑蒸氣的分壓連續(xù)或階段性降低。

3.如權(quán)利要求1所述的圖案形成方法，其特征在于：

在所述相分離的步驟中，所述溶劑蒸氣氛圍包含第一溶劑的蒸氣和第二溶劑的蒸氣。

4.如權(quán)利要求3所述的圖案形成方法，其特征在于：

使所述第一溶劑的蒸氣的分壓與所述第二溶劑的蒸氣的分壓之比隨時間變化。

5.如權(quán)利要求1所述的圖案形成方法，其特征在于：

在所述相分離的步驟中，將所述溶劑蒸氣氛圍中的溶劑蒸氣由第三溶劑的蒸氣變更為第四溶劑的蒸氣。

6.如權(quán)利要求1所述的圖案形成方法，其特征在于：

在所述相分離的步驟中，降低對所述嵌段共聚物的膜進行加熱的溫度。

7.如權(quán)利要求1所述的圖案形成方法，其特征在于：

在所述相分離的步驟之后，還具有在不活潑氣體氛圍下對所述嵌段共聚物的膜進行加熱、使所述膜干燥的步驟。

8.如權(quán)利要求7所述的圖案形成方法，其特征在于：

所述干燥的步驟中的溫度比所述相分離的步驟中的溫度高。

9.一種對基板進行加熱的加熱裝置，其特征在于，包括：

在容器內(nèi)配置的、載置形成有嵌段共聚物的膜的基板的載置臺；

內(nèi)置于所述載置臺的、對在該載置臺上載置的所述基板進行加熱的加熱部；

將包含溶劑的蒸氣的氣體供給到所述容器內(nèi)的溶劑蒸氣供給部；和

對所述容器內(nèi)的所述氣體進行排氣的排氣部。

10.如權(quán)利要求9所述的加熱裝置，其特征在于：

還具備對所述溶劑蒸氣供給部進行控制、使包含所述溶劑的蒸氣的氣體中的所述溶劑的蒸氣的分壓連續(xù)或階段性降低的控制部。

11.如權(quán)利要求9所述的加熱裝置，其特征在于：

所述溶劑的蒸氣包含第一溶劑的蒸氣和第二溶劑的蒸氣。

12.如權(quán)利要求9所述的加熱裝置，其特征在于：

所述溶劑蒸氣供給部將包含第一溶劑的蒸氣的氣體供給到所述容器內(nèi)，

所述加熱裝置還具備追加的溶劑蒸氣供給部和控制部，

所述追加的溶劑蒸氣供給部將包含第二溶劑的蒸氣的氣體供給到所述容器內(nèi)；

所述控制部對所述溶劑蒸氣供給部和所述追加的溶劑蒸氣供給部進行控制，使所述第一溶劑的蒸氣的分壓與所述第二溶劑的蒸氣的分壓之比隨時間而變化。

13.如權(quán)利要求12所述的加熱裝置，其特征在于：

所述控制部對所述溶劑蒸氣供給部和所述追加的溶劑蒸氣供給部進行控制，將包含供給到所述容器內(nèi)的所述溶劑的蒸氣的氣體中的所述溶劑的蒸氣由第一溶劑的蒸氣變更為第二溶劑的蒸氣。

14.如權(quán)利要求9所述的加熱裝置，其特征在于：

還具備對所述加熱部進行控制、使對所述嵌段共聚物的膜進行加熱的溫度降低的控制部。

15.如權(quán)利要求9所述的加熱裝置，其特征在于：

所述加熱部在不活潑氣體氛圍下對所述基板上的所述嵌段共聚物的膜進行加熱。

16.如權(quán)利要求15所述的加熱裝置，其特征在于：

使所述嵌段共聚物的膜干燥時的溫度比對所述嵌段共聚物的膜進行加熱時的溫度高。