[發(fā)明專利]頻閃裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380016167.0
• 申請日: 2013-04-05
• 公開（公告）號: CN104220929A
• 公開（公告）日: 2014-12-17
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 吉岡弘幸;川端克典
• 申請（專利權(quán)）人: 松下知識產(chǎn)權(quán)經(jīng)營株式會社
• 主分類號: G03B15/05
• 分類號: G03B15/05;G03B15/02
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 劉婷

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及向成為攝像對象的區(qū)域照射光的頻閃裝置。

背景技術(shù)

目前，例如公開了直接或間接地設(shè)置于數(shù)碼相機等攝像設(shè)備的頻閃裝置(例如，參照專利文獻1)。需要說明的是，頻閃裝置朝向成為利用攝像設(shè)備進行拍攝的攝像對象的區(qū)域照射光。

以下，使用圖4A和圖4B對現(xiàn)有的頻閃裝置的結(jié)構(gòu)進行說明。圖4A是示出現(xiàn)有的頻閃裝置中光源最靠近反射體的狀態(tài)的結(jié)構(gòu)的剖視圖。圖4B是示出現(xiàn)有的頻閃裝置中光源最遠(yuǎn)離反射體的狀態(tài)的結(jié)構(gòu)的剖視圖。

如圖4A和圖4B所示，現(xiàn)有的頻閃裝置9具備：光源10，其在一方向上形成得長；光學(xué)構(gòu)件11，其與光源10的長度方向平行地配置；以及反射體13，其沿著光源10的長度方向形成得長，并且具有將來自光源10的光朝向光學(xué)構(gòu)件11反射的反射面12。并且，光源10、光學(xué)構(gòu)件11、反射體13沿著頻閃裝置9的光軸A在光軸A方向上配置。此時，反射體13的反射面12構(gòu)成為在內(nèi)側(cè)具有曲率中心且相對于光軸A對稱的凹狀彎曲的形狀。需要說明的是，在內(nèi)側(cè)具有曲率中心意味著曲率中心比圖4A和圖4B所示的反射體13的反射面12更靠光軸A側(cè)。

另外，在上述的攝像設(shè)備的頻閃裝置9中，有時使成為攝像對象的區(qū)域(視角)的范圍變化來進行攝像。因此，通常，這種頻閃裝置9具有光源10與反射體13的反射面12能夠沿著光軸A延伸的光軸A方向相對地進行位移的結(jié)構(gòu)。

具體而言，如圖4A所示，就所述頻閃裝置9而言，隨著使光源10與反射體13的反射面12接近，從光源10放射的光的照射區(qū)域變窄。另一方面，如圖4B所示，就所述頻閃裝置9而言，隨著使光源10與反射體13的反射面12分離，從光源10放射的光的照射區(qū)域變寬。

換句話說，現(xiàn)有的頻閃裝置9能夠通過使光源10與反射體13的反射面12沿著光軸A方向相對地進行位移來改變光的照射區(qū)域的范圍。其結(jié)果是，能夠與成為攝像對象的區(qū)域的范圍相應(yīng)地調(diào)節(jié)光的照射區(qū)域的范圍。

此時，為了保護光學(xué)構(gòu)件11不受因光源10的發(fā)光而產(chǎn)生的熱的影響，現(xiàn)有的頻閃裝置9以使光源10與光學(xué)構(gòu)件11隔開規(guī)定間隔的間隙20的方式配置。因此，存在頻閃裝置9大型化、光的照射區(qū)域變窄的情況。為了避免該情況，現(xiàn)有的頻閃裝置9使用折射力強的光學(xué)構(gòu)件11。由此，在確保了光的照射區(qū)域的范圍的同時防止了頻閃裝置9的大型化。

然而，若使用折射力強的光學(xué)構(gòu)件11，如圖4B所示，存在光的照射區(qū)域過度擴張的情況。由此，光向要拍攝的對象的區(qū)域外照射。其結(jié)果是，現(xiàn)有的頻閃裝置9存在無法用適當(dāng)光量的光來照射要拍攝的對象的區(qū)域整體這樣的課題。

在先技術(shù)文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開昭55-129326號公報

發(fā)明內(nèi)容

為了解決上述課題，本發(fā)明的頻閃裝置具備：光源，其在一方向上形成得長；光學(xué)構(gòu)件，其與光源的長度方向平行地配置；以及反射體，其沿著光源的長度方向形成得長，并且具有將來自光源的光朝向光學(xué)構(gòu)件反射的反射面。并且，反射面具備與反射面上的特定反射區(qū)域相比靠反射體側(cè)形成的第一反射面以及靠光學(xué)構(gòu)件側(cè)形成的第二反射面。而且，第一反射面具有以在反射體的內(nèi)側(cè)具有曲率中心的方式彎曲的形狀，第二反射面具有以在反射體的外側(cè)具有曲率中心且隨著靠近光學(xué)構(gòu)件而離開光軸的方式彎曲的形狀。

根據(jù)該結(jié)構(gòu)，第二反射面具有以在外側(cè)具有曲率中心且隨著靠近光學(xué)構(gòu)件而離開光軸中心的方式彎曲的形狀。因此，與現(xiàn)有的頻閃裝置相比，第二反射面增大從光源放射出的光的入射角(與正交于第二反射面的軸相距的角度)。由此，能夠使由第二反射面反射后的光的前進方向靠近光軸A方向。換句話說，能夠減小光軸A與向光軸A方向前進的光所成的入射角。其結(jié)果是，能夠抑制由第二反射面反射后的光向所希望的區(qū)域外照射。

附圖說明

圖1A是示出本發(fā)明的實施方式的頻閃裝置中光源最靠近反射體的反射面的狀態(tài)的結(jié)構(gòu)的剖視圖。

圖1B是示出該實施方式的頻閃裝置中光源最遠(yuǎn)離反射體的反射面的狀態(tài)的結(jié)構(gòu)的剖視圖。

圖2是對該實施方式的頻閃裝置的反射體的反射面的結(jié)構(gòu)進行說明的圖。

圖3A是在該實施方式的頻閃裝置與現(xiàn)有的頻閃裝置中，比較使光源在最靠近反射體的反射面的狀態(tài)下發(fā)光的情況下的光量相對于配光角的相對分布的圖。

圖3B是在該實施方式的頻閃裝置與現(xiàn)有的頻閃裝置中，比較在使光源最遠(yuǎn)離反射體的反射面的狀態(tài)下使光源發(fā)光的情況下的光量相對于配光角的相對分布的圖。

圖4A是示出現(xiàn)有的頻閃裝置中光源最靠近反射體的反射面的狀態(tài)的結(jié)構(gòu)的剖視圖。