[發(fā)明專(zhuān)利]制造非極性氮化鎵基半導(dǎo)體層的方法、非極性半導(dǎo)體器件及其制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201380015737.4 | 申請(qǐng)日: | 2013-03-21 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104205297B | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-06-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 崔承奎;金材憲;鄭廷桓 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 首爾偉傲世有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L21/205 | 分類(lèi)號(hào): | H01L21/205;H01L33/12 |
| 代理公司: | 北京銘碩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11286 | 代理人: | 尹淑梅;韓芳 |
| 地址: | 韓國(guó)京畿*** | 國(guó)省代碼: | 韓國(guó);KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 非極性氮化鎵 基底 半導(dǎo)體層 氮化鎵基 環(huán)境氣體 生長(zhǎng)表面 源氣體 制造 金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積 各向異性蝕刻 生長(zhǎng)氮化鎵層 半導(dǎo)體器件 表面形態(tài) 氮化鎵層 生長(zhǎng) 非極性 加熱 室內(nèi) | ||
提供了一種制造非極性氮化鎵基半導(dǎo)體層的方法。所述方法是利用金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積來(lái)制造非極性氮化鎵層的方法,所述方法包括:在室內(nèi)設(shè)置具有m面生長(zhǎng)表面的氮化鎵基底;通過(guò)加熱基底將基底溫度升高到GaN生長(zhǎng)溫度;以及通過(guò)在生長(zhǎng)溫度下將Ga源氣體、N源氣體和環(huán)境氣體提供到室中在氮化鎵基底上生長(zhǎng)氮化鎵層。提供的環(huán)境氣體包含N2而不包含H2。通過(guò)切斷H2的供給,防止在基底生長(zhǎng)表面上的各向異性蝕刻,從而引起氮化鎵層的表面形態(tài)的改善。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明的示例性實(shí)施例涉及一種氮化鎵基半導(dǎo)體器件,更具體地講,涉及一種制造非極性氮化鎵基半導(dǎo)體層的方法、非極性半導(dǎo)體器件及其制造方法。
背景技術(shù)
氮化鎵基化合物被認(rèn)作用于高功率、高性能的光學(xué)器件或電子器件的重要材料。具體地講,因?yàn)橹T如GaN的第III族氮化物具有優(yōu)異的熱穩(wěn)定性和直接躍遷能帶結(jié)構(gòu),所以第III族氮化物作為用于可見(jiàn)光區(qū)域和紫外線(xiàn)區(qū)域的發(fā)光裝置的材料近來(lái)引起許多注意。例如,在多種應(yīng)用中已經(jīng)利用使用InGaN的藍(lán)色發(fā)光裝置和綠色發(fā)光裝置,例如,大型本色平板顯示裝置、交通燈、室內(nèi)照明、高密度光源、高分辨率輸出系統(tǒng)和光學(xué)通信工具。
然而,因?yàn)殡y以制造能夠在其上生長(zhǎng)第III族氮化物半導(dǎo)體層的同質(zhì)基底,所以已經(jīng)通過(guò)金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積(MOCVD)在具有類(lèi)似晶體結(jié)構(gòu)的異質(zhì)基底上生長(zhǎng)第III族氮化物半導(dǎo)體層。對(duì)于異質(zhì)基底,已經(jīng)主要使用具有六角形結(jié)構(gòu)的藍(lán)寶石基底。具體地講,因?yàn)镚aN外延層趨向在c面方向生長(zhǎng),所以已經(jīng)主要使用具有c面生長(zhǎng)表面的藍(lán)寶石基底。
然而,生長(zhǎng)在異質(zhì)基底上的外延層因相對(duì)于生長(zhǎng)基底的熱膨脹系數(shù)差和晶格失配而具有相對(duì)高的位錯(cuò)密度。已知生長(zhǎng)在藍(lán)寶石基底上的外延層通常具有1E8/cm2或更大的位錯(cuò)密度。這樣的具有高位錯(cuò)密度的外延層對(duì)改善發(fā)光二極管的發(fā)光效率存在限制。
此外,生長(zhǎng)在c面生長(zhǎng)表面上的c面氮化鎵基半導(dǎo)體層由于自發(fā)極化和壓電極化而產(chǎn)生內(nèi)電場(chǎng),這降低了輻射復(fù)合率。為了防止這樣的極化現(xiàn)象,正在進(jìn)行對(duì)非極性或半極性氮化鎵基半導(dǎo)體層的研究。作為這樣的研究之一,已經(jīng)進(jìn)行了使用非極性或半極性氮化鎵基底作為生長(zhǎng)基底來(lái)形成氮化鎵層的嘗試。然而,在使用在藍(lán)寶石基底上的生長(zhǎng)方法在非極性氮化鎵基底上生長(zhǎng)氮化鎵層的情況下,氮化鎵層具有非常粗糙的表面形態(tài)。在使用這樣的氮化鎵層制造諸如發(fā)光二極管的半導(dǎo)體器件的情況下,漏電流大并且非輻射復(fù)合率增大,使得難以獲得優(yōu)異的發(fā)光效率。
發(fā)明內(nèi)容
【技術(shù)問(wèn)題】
本發(fā)明的示例性實(shí)施例提供了一種能夠改善生長(zhǎng)在非極性氮化鎵基底上的氮化鎵基半導(dǎo)體層的表面形態(tài)的生長(zhǎng)非極性氮化鎵基半導(dǎo)體層的方法。
本發(fā)明的示例性實(shí)施例還提供了一種通過(guò)在非極性氮化鎵基底上形成具有高晶體質(zhì)量的非極性氮化鎵基半導(dǎo)體層來(lái)制造半導(dǎo)體器件的方法。
本發(fā)明的示例性實(shí)施例還提供了一種具有改善的晶體質(zhì)量的非極性或半極性半導(dǎo)體層的半導(dǎo)體器件。
本發(fā)明的示例性實(shí)施例還提供了一種非極性或半極性發(fā)光二極管和一種用于制造該非極性或半極性發(fā)光二極管的方法。
【技術(shù)方案】
在傳統(tǒng)的藍(lán)寶石基底上生長(zhǎng)氮化鎵層的情況下,主要使用H2或者既使用H2又使用N2作為環(huán)境氣體。因?yàn)镠2具有高分子遷移率,對(duì)于補(bǔ)償室的內(nèi)部溫度是有利的。此外,因?yàn)镠2用于清潔藍(lán)寶石基底的表面,所以?xún)?yōu)選地用于生長(zhǎng)具有優(yōu)異的表面特性的氮化鎵層。然而,如果利用與在藍(lán)寶石基底上生長(zhǎng)氮化鎵層的條件相同的條件在非極性氮化鎵基底上生長(zhǎng)氮化鎵層,則生長(zhǎng)具有粗糙表面的氮化鎵層。本申請(qǐng)的發(fā)明人發(fā)現(xiàn),非極性氮化鎵基底的表面上的各向異性影響表面形態(tài),并且完成了本發(fā)明。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專(zhuān)門(mén)適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專(zhuān)門(mén)適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專(zhuān)門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專(zhuān)門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





