[發明專利]光信息處理裝置和光信息處理方法

有效

• 申請號: 201380015274.1
• 申請日: 2013-02-21
• 公開（公告）號: CN104205219B
• 公開（公告）日: 2017-05-31
• 發明（設計）人: 岸上智;竹下伸夫
• 申請（專利權）人: 三菱電機株式會社
• 主分類號: G11B7/09
• 分類號: G11B7/09;G11B7/126;G11B7/1392
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司11127
• 代理人: 李輝,龔曉娟

1.一種光信息處理裝置，其特征在于，該光信息處理裝置具有：

照射受光單元，其向光盤照射光，檢測來自所述光盤的反射光而輸出再現信號；

球面像差校正單元，其對照射到所述光盤的光的球面像差進行校正；

聚焦調節單元，其根據聚焦調節值對照射到所述光盤的光的聚焦位置進行調節；以及

調節單元，其分別針對以所述聚焦調節值和所述球面像差校正單元的球面像差校正量為坐標軸的平面上的至少3條直線，在該直線上的至少3點的測定位置處測定所述再現信號的信號特性，根據該測定結果，求出所述信號特性為同一水平的所述平面上的至少5個位置作為估計位置，并基于該至少5個估計位置調節所述球面像差校正量和所述聚焦調節值，

所述調節單元對所述至少5個估計位置進行橢圓近似，根據該橢圓近似的結果求出橢圓的中心位置，并基于該橢圓的中心位置決定所述球面像差校正量和所述聚焦調節值。

2.根據權利要求1所述的光信息處理裝置，其特征在于，

所述至少3條直線包含與所述聚焦調節值的坐標軸平行的聚焦軸直線、和與所述聚焦軸直線不同的至少兩條剩余直線，

所述調節單元在所述聚焦軸直線上的至少3點的測定位置處測定出所述信號特性后，依次變更所述球面像差校正量，每當變更所述球面像差校正量時，在變更后的球面像差校正量下在各剩余直線上的測定位置處測定所述信號特性，由此分別針對所述至少3條直線，在該直線上的至少3點的測定位置處測定所述信號特性。

3.根據權利要求2所述的光信息處理裝置，其特征在于，

所述各剩余直線被設定為通過所述聚焦軸直線上的所述至少3點的測定位置中的任意一個測定位置。

4.根據權利要求3所述的光信息處理裝置，其特征在于，

針對所述聚焦軸直線，在用2次以上的多項式對所述測定位置與在所述測定位置處測定出的信號特性之間的關系進行了近似時，在將所述信號特性為極值的位置設為了極值位置的情況下，

所述各剩余直線被設定為通過所述聚焦軸直線上的所述至少3點的測定位置中的、所述極值位置附近的測定位置。

5.根據權利要求1或2所述的光信息處理裝置，其特征在于，

所述調節單元針對各直線，在用2次以上的多項式對所述測定位置與在所述測定位置處測定出的信號特性之間的關系進行了近似時，在所述信號特性為極值的位置包含在所述測定位置的范圍內為止，在以擴展所述測定位置的范圍的方式變更所述測定位置的同時進行所述信號特性的測定。

6.根據權利要求1或2所述的光信息處理裝置，其特征在于，

所述至少3條直線包含將所述平面中的所述信號特性的等高線視作橢圓的情況下的、與橢圓的長軸平行的、相對于所述球面像差校正量和所述聚焦調節值的坐標軸傾斜的直線。

7.根據權利要求1或2所述的光信息處理裝置，其特征在于，

所述調節單元針對所述至少3條直線中的至少1條直線，在至少兩點的測定位置處測定出所述信號特性后，對所述至少兩點的測定位置中的、兩端的測定位置處的所述信號特性進行比較，將自所述兩端的測定位置中的所述信號特性良好的一方的測定位置、朝與朝向另一方的測定位置相反的方向離開而得到的位置決定為下一測定位置。

8.根據權利要求1或2所述的光信息處理裝置，其特征在于，

所述調節單元針對各直線，根據用2次以上的多項式對所述測定位置與在所述測定位置處測定出的信號特性之間的關系進行近似而得到的近似結果，求出所述信號特性為估計用水平的所述平面上的位置，作為所述估計位置，并使用所得到的估計位置中的至少5個來進行所述橢圓近似。

9.根據權利要求1或2所述的光信息處理裝置，其特征在于，

所述調節單元進行所述橢圓近似的結果是否示出橢圓的判斷，

在所述判斷中判斷為未示出橢圓的情況下，所述調節單元變更所述信號特性的估計用水平來求出所述至少5個估計位置，在使用該至少5個估計位置進行了所述橢圓近似后，再次進行所述判斷，

在所述判斷中判斷為示出橢圓的情況下，所述調節單元根據所述橢圓近似的結果求出所述橢圓的中心位置。