[發明專利]液壓轉印用基膜

有效

• 申請號: 201380014929.3
• 申請日: 2013-03-06
• 公開（公告）號: CN104203593B
• 公開（公告）日: 2018-03-27
• 發明（設計）人: 高藤勝啟;磯崎孝德;練苧喬士
• 申請（專利權）人: 株式會社可樂麗
• 主分類號: B44C1/175
• 分類號: B44C1/175
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司72001
• 代理人: 高旭軼,梁謀

技術領域

本發明涉及一種液壓轉印用基膜、由其形成的液壓轉印用膜、以及使用該液壓轉印用膜的液壓轉印方法，該液壓轉印用基膜用于形成在對具有凹凸的立體面、具有曲面的成型體等被轉印體實施印刷時使用的液壓轉印用膜。

背景技術

作為形成用于賦予具有凹凸的立體面、具有曲面的成型體的表面以設計性、或提高表面物性的印刷層的方法，已知使用在水溶性或水溶脹性的膜表面形成了轉印用印刷層的液壓轉印用膜的方法。例如，專利文獻1中記載了如下方法：其通過使液壓轉印用膜的印刷面朝上并漂浮在以水為代表的液體的液面上，然后從其上方壓入作為被轉印體的各種成型體，從而利用液壓將印刷層轉印至被轉印體的表面。

液壓轉印方法中，重要的是防止使液壓轉印用膜漂浮在液面上時的卷曲。例如，專利文獻2中記載了：近年來，因設計的印刷為多層印刷或者使用耐久性優異的印刷用油墨而導致液壓轉印用膜的設計印刷面與非印刷面的吸水性產生差異等，為了防止由該差異等引起的卷曲，在制造液壓轉印用基膜時，對與制膜帶或制膜鼓接觸的面的相反側的面進行熱處理。

另外，專利文獻3中記載了：將水溶性高分子薄質膜漂浮在水面上而對物體實施轉印印刷時，為了有效地防止薄質膜的周邊端部發生卷曲來實現美麗的轉印印刷，使用在端部設置有多個圓形、正方形等形狀的小孔的薄質膜。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本專利特開昭54-33115號公報

專利文獻2：日本專利特開2009-1009號公報

專利文獻3：日本專利特開昭55-41283號公報。

發明內容

發明所要解決的課題

然而，專利文獻2記載的方法中，防止卷曲的效果仍有不足，因此轉印效率差。另一方面可知，對于專利文獻3記載的方法而言，由于設置其記載那樣的小孔并不那么容易，因此存在如下問題：液壓轉印用基膜的生產率（生產速度）降低；或者，在設置小孔時被切下的碎屑附著于膜表面，從而對液壓轉印用基膜的表面進行印刷、對被轉印體進行液壓轉印時產生缺點；即使對設置有該小孔的附近實施印刷，在液壓轉印時小孔部分的印刷也會脫落，因此設置有該小孔的附近實質上無法賦予液壓轉印，可有助于液壓轉印的有效面積縮小。因而，本發明的目的在于，通過與專利文獻3記載的方法不同的方法，提供能夠形成可充分防止漂浮在液面上時的卷曲、轉印效率優異的液壓轉印用膜的液壓轉印用基膜、由其形成的液壓轉印用膜以及使用該液壓轉印用膜的液壓轉印方法。

用于解決課題的手段

本發明人等為了達到上述目的反復進行了認真研究，結果發現，通過預先在液壓轉印用基膜的端部加入較容易形成的線狀刻痕(切れ込み)，從而高度地抑制使用其而成的液壓轉印用膜漂浮在以水為代表的液體液面上時的卷曲。本發明人等基于該發現進一步反復進行研究，從而完成了本發明。

即，本發明涉及：

[1] 液壓轉印用基膜，其中，端部具有線狀的刻痕；

[2] 上述[1]的液壓轉印用基膜，其中，以相對于液壓轉印用基膜的邊緣的長度100mm為7mm以上的比例具有線狀的刻痕；

[3] 上述[1]或[2]的液壓轉印用基膜，其中，在距離液壓轉印用基膜的邊緣為1~10mm的范圍內具有線狀的刻痕；

[4] 上述[1]~[3]中任一項的液壓轉印用基膜，其為聚乙烯醇膜；

[5] 液壓轉印用膜，其是對上述[1]~[4]中任一項的液壓轉印用基膜的表面實施印刷而成的；

[6] 液壓轉印方法，其包括：使上述[5]的液壓轉印用膜的實施印刷的面朝上漂浮在液面上的工序；和從漂浮的液壓轉印用膜的上方按壓被轉印體的工序。

發明的效果

通過本發明，提供能夠形成可充分防止漂浮在液面上時的卷曲、轉印效率優異的液壓轉印用膜的液壓轉印用基膜、由其形成的液壓轉印用膜以及使用該液壓轉印用膜的液壓轉印方法。

附圖說明

圖1是表示本發明的實施方式的一例的概略圖。

圖2是表示相對于邊緣長度100mm的線狀刻痕的長度的測定方法的概略圖。

圖3是表示實施例中記載的各實施方式的概略圖。

具體實施方式

以下，對本發明進行詳細說明。