[發明專利]生產設備和生產方法

有效

• 申請號: 201380014696.7
• 申請日: 2013-02-06
• 公開（公告）號: CN104203433A
• 公開（公告）日: 2014-12-10
• 發明（設計）人: I·G·德弗里斯;H·A·J·M·安德生;A·朗根
• 申請（專利權）人: 荷蘭應用自然科學研究組織TNO
• 主分類號: B05D7/04
• 分類號: B05D7/04;C23C14/56;B05C9/12
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 韋東

1.一種用于在箔(FO)上生產產品的生產設備，所述生產設備包括沉積區(10)，其中排列第一沉積設備(21)用于在所述箔上沉積材料層，所述生產設備還包括至少一個加工設備(31)用于加工所述沉積的層，所述加工設備排列在所述沉積區以外并且包括具有遠離所述沉積區、朝向轉向設備(41)的第一方向上的第一路徑(31a)和從所述轉向設備回到所述沉積區的第二路徑(31b)的加工軌跡，所述生產設備還包括再導向設備(51a，51b)用于在所述沉積區內對所述箔進行再導向，其中所述沉積區(10)是具有出口(11a)和入口(11b)的潔凈室，其中所述第一路徑(31a)導向遠離所述出口(11a)的第一方向并且帶回所述入口(11b)，

其特征在于，在所述沉積區至少排列第二沉積設備(22)，所述箔被引導沿著所述第一和所述至少第二沉積設備通過所述加工設備。

2.如權利要求1所述的生產設備，其特征在于，第一和第二再導向設備(51a，51b)對所述箔進行再導向，從而朝向所述至少第二沉積設備(22)的輸入。

3.如權利要求1所述的生產設備，其特征在于，所述沉積區包括第一子區(10a)和第二子區(10b)，其中所述第一子區中排列所述第一和所述至少第二沉積設備(21，22)并且所述第二子區中排列至少第一和第二再導向設備51a，51b，所述第二子區與所述第一子區分離。

4.如權利要求1所述的生產設備，所述生產設備包括互相一字排列的至少3個沉積設備(21、22、23、24)。

5.如權利要求1所述的生產設備，其特征在于，在所述箔(FO)寬度的至多20倍，優選至多10倍的距離(D)上互相平行排列所述加工設備(31)的第一和第二路徑(31a，31b)。

6.如權利要求1所述的生產設備，其特征在于，所述轉向設備(41)包括用于所述箔的第一和第二引導棒(411，412)，其各自具有與所述第一方向(-x)相傾斜的方向，并且所述第一和第二引導棒互相橫向排列。

7.如權利要求1所述的生產設備，其特征在于，所述轉向設備(41)和所述加工設備(31)有共同的外殼(35)。

8.如權利要求1所述的生產設備，所述生產設備包括比對設備(413；523)，其整合到轉向設備(41)和/或再導向設備(52)中。

9.如權利要求1所述的生產設備，其特征在于，所述至少一個加工設備(31)的軌跡由外殼(35)封閉，排列在加工室(60)中，所述加工室的潔凈室等級比所述潔凈室(10)的等級高至少10倍。

10.如權利要求1所述的生產設備，其特征在于，所述第一和/或所述第二沉積設備(21，22)選自印刷設備和涂覆設備。

11.如權利要求1所述的生產設備，其特征在于，所述至少一個加工設備(31)選自干燥設備、燒結設備、退火設備、固化設備和融合設備、消融設備。

12.如權利要求1所述的生產設備，其特征在于，除了用于在所述箔(FO)上沉積層的沉積單元(213)以外，所述第一和所述第二沉積設備(21，22)中的一個或多個還包括解繞單元(211)、第一清潔/比對單元(212)、第一比對單元(212)、后固化單元(214)、檢查單元、第二清潔/比對單元(215)和繞卷單元(216)中的一種或多種。

13.如權利要求1所述的生產設備，其特征在于，在加工室(60)中排列所述加工軌跡，并且其中所述潔凈室(10)的面積至多為所述潔凈室(10)和所述加工室(60)所占總面積的三分之一。

14.如權利要求1所述的生產設備，其特征在于，所述轉向設備包括空氣浮軸承。

15.用于在箔上生產產品的方法，所述方法包括以下步驟：

-用第一沉積步驟在成為潔凈室的沉積區中在所述箔上沉積(S1)第一層，

-在所述沉積區外沿著遠離所述沉積區的第一方向上的第一路徑引導(S2)含有所述第一層的箔并且沿著朝向所述沉積區的第二路徑轉回，同時沿著所述第一和/或第二路徑對所述第一層進行加工(S3)，

其特征在于

-在轉到所述沉積區后用第二沉積步驟在所述箔上沉積(S4)第二層。