[發(fā)明專利]振動環(huán)結(jié)構(gòu)及其調(diào)諧方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380013879.7
• 申請日: 2013-03-06
• 公開（公告）號: CN104185774B
• 公開（公告）日: 2017-06-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: C.P.費(fèi)爾
• 申請（專利權(quán)）人: 大西洋慣性系統(tǒng)有限公司
• 主分類號: G01C19/5684
• 分類號: G01C19/5684
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司72001
• 代理人: 馬紅梅,馬永利

1.一種調(diào)諧振動環(huán)結(jié)構(gòu)的方法，其包括確定位于所述振動環(huán)結(jié)構(gòu)的中性軸上或附近的相同大小的一對微調(diào)孔的角間距，選擇角偏移來將目標(biāo)正交模態(tài)與相對于所述目標(biāo)正交模態(tài)角偏移的另一正交模態(tài)之間的頻率分裂減小至可接受水平，和按所確定的角間距在所述振動環(huán)結(jié)構(gòu)中形成所述微調(diào)孔對。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述微調(diào)孔對被放置為與所述目標(biāo)正交模態(tài)的徑向波腹相等角偏移。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中所述微調(diào)孔對圍繞所述目標(biāo)正交模態(tài)的徑向波腹對稱形成。

4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述微調(diào)孔之間的所述角偏移小于45度。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的方法，其進(jìn)一步包括至少一個粗調(diào)孔的形成。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其中所述粗調(diào)孔與所述微調(diào)孔大小相同。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述微調(diào)諧孔通過激光燒蝕形成。

8.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述微調(diào)孔被定位來實(shí)現(xiàn)cos2θ模態(tài)的平衡。

9.一種包括環(huán)主體的振動環(huán)結(jié)構(gòu)，其通過位于所述環(huán)主體的中性軸上或附近的相同大小的一對微調(diào)孔的形成而調(diào)諧，所述微調(diào)孔定位為相對于彼此角偏移，其被選擇來將所述環(huán)主體的目標(biāo)正交模態(tài)與另一正交模態(tài)之間的頻率分裂減小至可接受水平，所述另一正交模態(tài)相對于所述目標(biāo)正交模態(tài)角偏移。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的振動環(huán)結(jié)構(gòu)，其中所述微調(diào)孔對被放置為與所述目標(biāo)正交模態(tài)的徑向波腹相同角偏移。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的振動環(huán)結(jié)構(gòu)，其中所述微調(diào)孔對圍繞所述目標(biāo)正交模態(tài)的徑向波腹對稱形成。

12.根據(jù)權(quán)利要求9至11中任一項(xiàng)所述的振動環(huán)結(jié)構(gòu)，其進(jìn)一步包括至少一個粗調(diào)孔。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的結(jié)構(gòu)，其中所述粗調(diào)孔與所述微調(diào)孔大小相同。

14.根據(jù)權(quán)利要求9至11中任一項(xiàng)所述的振動環(huán)結(jié)構(gòu)，其中所述微調(diào)孔被定位來實(shí)現(xiàn)cos2θ模態(tài)的平衡。

15.根據(jù)權(quán)利要求9至11中任一項(xiàng)所述的振動環(huán)結(jié)構(gòu)，其中所述環(huán)主體形成陀螺儀的部分。