[發(fā)明專利]用于確定組織的特性的裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201380012845.6 | 申請日: | 2013-03-01 |
| 公開(公告)號: | CN104159500B | 公開(公告)日: | 2018-08-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | M·米勒;G·W·呂卡森;C·賴克;P·凱瑟沃浦 | 申請(專利權(quán))人: | 皇家飛利浦有限公司 |
| 主分類號: | A61B5/00 | 分類號: | A61B5/00 |
| 代理公司: | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002 | 代理人: | 劉瑜;王英 |
| 地址: | 荷蘭艾*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 確定 組織 特性 裝置 | ||
1.一種用于與光學(xué)測量設(shè)備協(xié)同工作以確定組織特性的組織特性確定設(shè)備(16),所述組織(6)包括上皮(15)和基質(zhì)(14),并且所述光學(xué)測量設(shè)備(2)包括:
-光提供單元(3、7、8、9),其用于提供對所述組織(6)進(jìn)行照射的光(11、12、13),以及
-光探測單元(4、10),其用于探測來自所述組織(6)的光(11、12、13),其中,所述光提供單元(3、7、8、9)和所述光探測單元(4、10)適于生成指示已由所述組織(6)的包括所述上皮(15)的上皮區(qū)域(R1)影響的光(11)的第一信號、指示已由所述組織(6)的包括所述上皮(15)與所述基質(zhì)(14)之間的邊界的邊界區(qū)域(R2)影響的光(12)的第二信號以及指示已由所述組織(6)的包括所述基質(zhì)(14)的基質(zhì)區(qū)域(R3)影響的光(13)的第三信號,
其中,所述組織特性確定設(shè)備(16)適于基于所述第一信號、所述第二信號和所述第三信號來確定組織特性,其中,所述組織特性為以下中的至少一項(xiàng):健康組織、宮頸上皮內(nèi)瘤變和癌癥,
其中,所述光提供單元(3、7、8、9)適于提供一個(gè)或若干照射位置(17、18、19),一個(gè)或若干光束(11、12、13)從所述一個(gè)或若干照射位置沿一個(gè)或若干照射方向發(fā)出,并且其中,所述光探測單元(4、10)適于提供一個(gè)或若干探測位置(20),在所述一個(gè)或若干探測位置處對光進(jìn)行探測,其中,所述光提供單元(3、7、8、9)和所述光探測單元(4、10)適于提供照射位置和探測位置的三種組合(17、20;18、20;19、20),并且根據(jù)從第一組合(17、20)的照射位置發(fā)出并由所述第一組合(17、20)的探測位置探測的光(11)而生成第一信號,根據(jù)從第二組合(18、20)的照射位置發(fā)出并由所述第二組合(18、20)的探測位置探測的光而生成第二信號,并根據(jù)從第三組合(19、20)的照射位置發(fā)出并由所述第三組合(19、20)的探測位置探測的光而生成第三信號,并且
其中,所述光學(xué)測量設(shè)備(2)包括具有外部平面毗鄰表面(21)的測量頭(5),所述外部平面毗鄰表面用于與所述組織(6)毗鄰,同時(shí)利用光來照射所述組織(6)并探測來自所述組織(6)的光,其中,所述照射方向和探測方向垂直于所述毗鄰表面(21),其中,所述第一組合(17、20)的所述照射位置與所述探測位置之間的距離小于0.6mm,所述第二組合(18、20)的所述照射位置與所述探測位置之間的距離處于0.6mm到1.2mm之間,并且所述第三組合(19、20)的所述照射位置與所述探測位置之間的距離處于1.2mm到3.0mm之間。
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