[發明專利]選擇性加氫催化劑及其制造和使用方法有效
| 申請號: | 201380012595.6 | 申請日: | 2013-03-01 |
| 公開(公告)號: | CN104245137B | 公開(公告)日: | 2017-07-04 |
| 發明(設計)人: | T-T·P·張;J·貝格邁斯特;S·L·凱利 | 申請(專利權)人: | 切弗朗菲利浦化學公司 |
| 主分類號: | B01J37/18 | 分類號: | B01J37/18;B01J37/24;B01J21/04;B01J23/44;B01J23/50;B01J23/56;B01J35/10;B01J37/00 |
| 代理公司: | 北京紀凱知識產權代理有限公司11245 | 代理人: | 趙蓉民,張全信 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 選擇性 加氫 催化劑 及其 制造 使用方法 | ||
關于聯邦政府贊助的研究或開發的聲明
不適用。
縮微膠片附錄的引用
不適用。
背景技術
技術領域
本公開涉及不飽和烴的生產,并且更具體地涉及選擇性加氫催化
劑及其制造和使用方法。
發明背景
通常將不飽和烴比如乙烯和丙烯用作制備增值化學品和聚合物的原料。不飽和烴可通過烴的熱解或蒸汽裂解生產,所述烴包括衍生自煤的烴,衍生自合成原油、石腦油、煉廠氣、乙烷、丙烷、丁烷的烴,和類似物。以這些方式生產的不飽和烴通常包含小比例的高度不飽和烴,比如乙炔和二烯烴,其可對后續化學品和聚合物的生產有不利影響。因此,為了形成不飽和烴產物比如聚合物等級的單烯烴,通常需要降低單烯烴流中乙炔和二烯烴的量。例如,在聚合物等級的乙烯中,乙炔含量通常小于約2ppm。
通常用于降低主要包括單烯烴的不飽和烴流中乙炔和二烯烴的量的一項技術涉及將乙炔和二烯烴選擇性加氫至單烯烴。該方法是選擇性的,因為單烯烴和高度不飽和烴加氫至飽和烴得以最小化。例如,使乙烯或乙炔加氫至乙烷得以最小化。對于改進的選擇性加氫催化劑存在持續的需要。
發明內容
本文公開的是一種組合物,其包括,包括金屬或非金屬氧化物的擠出的無機載體,和至少一種催化活性金屬,其中該擠出的無機載體具有孔、總孔容和孔徑分布,其中該孔徑分布顯示孔徑的至少兩個峰,每個峰具有最大值,其中第一個峰具有等于或大于約120nm的孔徑的第一個最大值,和第二個峰具有小于約120nm的孔徑的第二個最大值,和其中大于或等于該擠出的無機載體的總孔容的約5%包含在孔徑的第一個峰內。
本文還公開的是一種制備加氫催化劑的方法,其包括擠出包括金屬或非金屬氧化物、成孔劑和水的混合物以形成擠出物,干燥該擠出物以形成干燥的擠出物,煅燒該干燥的擠出物以形成煅燒的擠出物,使該煅燒的擠出物與含氯化合物接觸以形成氯化的載體,降低該氯化的載體中氯化物的量以形成清潔的氯化載體,和使該清潔的氯化載體與第10族金屬和第1B族金屬接觸以形成加氫催化劑,其中該加氫催化劑的孔徑分布顯示孔徑的至少兩個峰,每個峰具有最大值,并且其中第一個峰具有等于或大于約120nm的孔徑的第一個最大值,和第二個峰具有小于約120nm的孔徑的第二個最大值。
本文進一步公開的是一種包括金屬或非金屬氧化物的擠出的無機載體,其中該擠出的無機載體顯示孔徑的至少兩個峰的孔徑分布,每個峰具有最大值,其中第一個峰具有等于或大于約120nm的孔徑的第一個最大值,和第二個峰具有小于約120nm的孔徑的第二個最大值,其中大于或等于該擠出的無機載體的總孔容的15%包含在孔徑的第一個峰內,和其中無機載體具有從約5m2/g至約15m2/g的表面積。
本文進一步公開的是一種制備加氫催化劑的方法,其包括選擇具有孔徑的多峰分布的無機載體,其中至少一種孔徑的分布包括具有等于或大于約120nm的直徑的孔,擠出包括無機載體和水的混合物以形成擠出物,干燥該擠出物以形成干燥的擠出物,煅燒該干燥的擠出物以形成煅燒的擠出物,并且使該煅燒的擠出物與第VIII族金屬和第1B族金屬接觸以形成加氫催化劑。
本文進一步公開的是一種方法,其包括制備基本上由硅石、二氧化鈦、氧化鋁或尖晶石組成的多個擠出的無機載體,繪制作為擠出的無機載體的微分汞壓入的對數函數的孔徑,和識別具有至少兩個峰的擠出的無機載體,每個峰具有最大值,其中第一個峰包括具有等于或大于約120nm的第一個孔徑最大值的孔,和其中孔徑的第一個峰表示大于或等于該擠出的無機載體的總孔容的約5%。
附圖簡述
為了更完全理解本公開和其優勢,結合附圖和詳細描述,現在參考以下簡要描述,其中相同的參考數字表示相同的部分。
圖1描述選擇性加氫方法的實施方式的工藝流程圖。
圖2-6是對于實施例1的樣品,微分汞壓入的對數作為孔徑直徑的函數的圖。
圖7是對于實施例1的樣品,維持乙炔90%轉化需要的溫度作為時間函數的圖。
圖8是對于實施例1的樣品,乙烯選擇性作為時間函數的圖。
詳細描述
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